Al／Al2O3多层膜的表面分析与电性能的研究

用热蒸发沉积和自然氧化及加热法制备纳米量级的Al/Al2O3薄膜和多层膜。本用X射线光电子能谱（XPS）和紫外光电子能谱（UPS）对样品进行价带能谱的检测与分析。获得的Al/Al2O3多层膜价带的XPS光电子谱谱形基本相似；通过对Al/Al2O3三层膜在不同极角的UPS谱线的检测，得到其Ei-(Ki∥）关系曲线，此外，测定了低温的I－U特性，发现纳米量级的Al/Al2O3薄膜具有负阻特性。     

Al/Al2O3多层膜的表面和界面的分析研究

用热蒸发沉积和自然氧化及加热法制备纳米量级的Al/Al2 O3薄膜和多层膜。用X射线光电子谱仪 (XPS)和透射电镜 (TEM)对样品进行检测。XPS实验说明自然氧化的Al2 O3膜层厚在 2～ 5nm。Al/Al2 O3薄膜及多层膜的O与Al的原子浓度比为 1 4 3～ 1 85。Ar离子刻蚀的XPS实验结果 (刻蚀速率为 0 0 9nm/s)说明 :2个对层的Al/Al2 O3多层膜截面样品具有周期性结构。TEM观察到了 5个对层的Al/Al2 O3多层膜的层状态结构 ,其周期为 4nm。由此说明 ,热蒸发及自然氧化法是制备纳米量级的Al/Al2 O3多层膜的有效方法     

Al/Al2O3多层膜的表面和界面的分析研究

用热蒸发沉积和自然氧化及加热法制备纳米量级的Al/Al2O3薄膜和多层膜.用X射线光电子谱仪(XPS)和透射电镜(TEM)对样品进行检测.XPS实验说明自然氧化的Al2O3膜层厚在2～5 nm.Al/Al2O3薄膜及多层膜的O与Al的原子浓度比为1.43～1.85.Ar离子刻蚀的XPS实验结果(刻蚀速率为0.09 nm/s)说明2个对层的Al/Al2O3多层膜截面样品具有周期性结构.TEM观察到了5个对层的Al/Al2O3多层膜的层状态结构,其周期为4 nm.由此说明,热蒸发及自然氧化法是制备纳米量级的Al/Al2O3多层膜的有效方法.     

Al/Al2O3多层膜的表面分析与电性能的研究

用热蒸发沉积和自然氧化及加热法制备纳米量级的Al/Al2/O3薄膜和多层膜.本文用X射线光电子能谱(XPS)和紫外光电子能谱(UPS)对样品进行价带能谱的检测与分析.获得的Al/Al2/O3多层膜价带的XPS光电子能谱谱形基本相似;通过对Al/Al2O3三层膜在不同极角的UPS谱线的检测,得到其Ei-(k∥i)关系曲线.此外,测定了低温下的I-U特性,发现纳米量级的Al/Al2O3薄膜具有负阻特性.     

纳米Al/Al2O3复合材料中Al2O3膜的碎化对性能的影响

观察了在不同温度下退火的Al/Al2O3复合材料的微观组织，结果表明，当退火温度达570℃时包裹着Al核的非晶Al2O3壳开始破碎。研究了非晶Al2O3膜的破碎机理并在此基础上讨论了材料微观结构与力学性能和内耗的关系，发现氧化膜的状态对材料的力学性能和内耗特征具有决定性的影响。     

纳米多层膜的电性能及表面形貌

用热蒸发沉积和自然氧化法制备纳米量级的Al／Al2O3及Cr／Cr2O3薄膜和多层膜．本文采用三点法测定了常温、低温下的U—I特性，发现常温、低温下纳米量级的Al／Al2O3及Cr／Cr2O3薄膜具有类似负阻的特性。SEM检测表明，薄膜表面均匀，薄膜的厚度和称重法所得的厚度基本相符．AFM和STM观察表明薄膜表面存在着岛状结构，表面粗糙度在纳米尺度范围内。     

纳米Al/Al2O3复合材料的热稳定性机理

通过对纳米Al/Al2O3复合材料微观结构的研究，揭示了这种材料热稳定性的特点，在550℃以下，完整的Al2O3的外壳限制了Al的传输，从而保持了原来的晶粒形态和尺寸。在570～650℃的温度范围内，弥散分布的Al2O3碎片通过钉扎晶界抑制了Al晶粒的长大，即使在660℃，Al晶粒熔化后，弥散的Al2O3碎片仍可在冷凝过程中有效地抑制Al晶粒的长大。     

恒温等压处理对氧化喷射Al2O3／Al颗粒复合材料性能的影响

通过对喷射氧化沉积法制备的Ａｌ２Ｏ３／Ａｌ颗粒复合材料进行恒温等压处理，研究了恒温等压处理对复合材料组织和性能的影响。结果表明，该处理工艺基本上能消除复合材料中的孔隙；改善Ａｌ２Ｏ３／Ａｌ颗粒与基体的界面结合；提高材料的力学性能。     

Study on Interface between Sub—micron Particles and Matrix in Al2O3p／Al Composites

The microstructural characteristic of 1070Al matrix composites reinforced by 0.15μm Al2O3 particles whose volume fraction was 40% was investigated by TEM and HREM.The results showed that the interface between the matrix and reinforcements was clean and bonded well,without any interfacial reaction products.There were some preferential crystallographic orientation relationships between Al matrix and Al2O3 particle because of the lattice imperfection on the surface of Al2O3 particles.     

纳米TiO2／Al2O3复合薄膜光催化特性研究

以电化学方法合成的Al2O3多孔膜为基体，采用交流电沉积的方法在膜孔中沉积纳米TiO2，制备出纳米TiO2／Al2O3复合薄膜。对TiO2／Al2O3复合薄膜的形貌、结构和组成进行了表征；对TiO2／Al2O3复合薄膜光催化甲基橙溶液进行了研究。结果表明Al2O3／TiO2复合薄膜呈现出较好的光催化活性，电沉积TiO2的时间、热处理温度、选择不同光源照射均对TiO2／Al2O3复合薄膜光催化活性有一定的影响。     

Al2O3含量对Al2O3/W复合材料合成的影响

以铝热法为基础制备了A12O3/W复合材料，探讨了A12O3含量对复合材料合成的影响。研究表明：主要物相为α-A12O3、金属W。刚玉含量小于0．3时，温度影响不显著，大于0．3时，温度影响显著，有大量碳化物生成，且WC/W2C相对含量随A12O3含量增加及煅烧温度的提高而增加。当刚玉含量为0．5mol时，有正交晶钨酸铝生成。随刚玉含量变化，金属钨分布从连续分布向弥散分布变化。连续分布的金属钨因被氧化铝包裹因此难以碳化，而弥散分布的金属钨则易于被碳化。     

射频磁控溅射沉积Al/Al2O3纳米多层膜的结构及性能

运用射频磁控溅射技术在Si(100)基片及40Cr钢基体上制备了调制周期λ=60 nm,调制比η=0.25～3的Al/Al2O3纳米多层膜.通过X射线衍射、X射线光电子能谱、扫描电镜、原子力显微镜、维氏显微硬度仪及MFT-4000多功能材料表面性能测试仪对多层膜的结构、硬度、膜基结合强度及摩擦性能进行了研究.结果表明:Al/Al2O3多层膜中Al层呈现(111)择优取向,Al2O3层以非晶形式存在,多层膜呈现良好的调制结构.薄膜与衬底之间的结合强度较高,均在40N左右,摩擦系数均低于衬底的摩擦系数,表明Al/Al2O3多层膜具有一定的减摩作用.η=0.25的Al/Al2O3多层膜具有最高的硬度值(16.1GPa),摩擦系数最低(0.21),耐磨性能最好.     

Effects of Al2O3 Particulates on the Thickness of Reaction Layer of Al2O3 Joints Brazed with Al2O3-Particulate-Contained Composite Filler Materials

In order to understand the rate-controlling process for the interracial layer growth of brazing joints brazed with active composite filler materials, the thickness of brazing joints brazed with conventional active filler metal and active composite filler materials with different volume fraction of AI203 particulate was studied. The experimental results indicate although there are Al2O3 particulates added into active filler metals, the time dependence of interracial layer growth is t^2 as described by Fickian law for the joints brazed with conventional active filler metal. It also shows that the key factor affecting the interracial layer growth is the volume fraction of alumina in the composite filler material compared with the titanium weight fraction in the filler material.     

Fe-Al/Al2O3陶瓷基复合材料

较系统地论述了Fe-Al/Al2O3陶瓷基复合材料的研究过程和应用开发前景，对所研材料的制备科学及材料强韧性机理等一并给予了阐述。     

Al2O3/Ti3SiC2层状复合材料的制备与性能

采用两种方法制备Al2O3／Ti3SiC2层状复合材料，一是原位-热压法，即Ti3SiC2是在层状材料的制备过程中同时被合成的；一是分步法，即制备过程分两步进行，首先制备出Ti3SiC2高纯粉，再采用热压法进行烧结制备层状材料。两种方法制备的Al2O3／Ti3SiC2层状复合材料强度保持在450MPa以上，断裂功达到1200-1560J／m^2，相对Al2O3块体材料提高十余倍。另外，不同的制备方法得到不同的组成和显微结构，决定了这两种Al2O3／Ti3SiC2层状复合材料性能的差异：前者强度较高韧性较低，后者强度较低而韧性较高。     

Al/Al2O3多层膜的研究

用真空蒸镀及自然氧化方法在玻璃基底上制备纳米量级的4、5、6、7对层的Al／Al2O3多层膜。采用称重法测定薄膜的厚度；在常温和低温下使用三点法测定多层膜的电特性；用扫描电镜（sEM）观察薄膜的表面和截面的形貌及成分。结果表明：制备的是纳米量级非晶态的Al／Al2O3多层膜，在常温和低温（77K）下均具有类似负阻的特性。     

SiCw／Al2O3复合材料残余应力分析

利用Ｅｓｈｅｌｂｙ模型计算了碳化硅晶须补强氧化铝复合材料中的晶须含量对残余应力的影响，与Ｘ－ｒａｙ衍射测量的数据进行比较，两者结果非常接近。随着晶须含量的增加，基体Ａｌ２Ｏ３中残余张应力增加，而碳化硅晶须中的残余压应力降低。     

热浸镀铝钢Al2O3/渗铝层界面空洞生长动力学研究

通过高温氧化实验和SEM,XRD分析,研究了热浸镀铝钢在1000℃氧化期间Al2O3/渗铝层界面空洞的生长过程,分析了界面空洞的生长机理.结果表明,界面空洞的生长受氧化过程制约,生长速度与渗铝层表面的氧化速度存在一定的对应关系,生长动力学遵循近似的抛物线规律;随氧化时间延长,单位面积上的空洞数量先快速增加而后逐渐减少.