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磁记录技术高密度化的发展势头不减。预计到 2010年,面记录密度将会达到 100 Gbpsi。目前正在探索实现这一目标的办法。其中之一就是垂直磁化方式。本文就垂直磁化方式的课题及其解决方法以及磁存储技术的未来进行了论述。 相似文献
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磁记录技术高密度化的发展势头不减.预计到2010年,面记录密度将会达到100Gbpsi.目前正在探索实现这一目标的办法.其中之一就是垂直磁化方式.本文就垂直磁化方式的课题及其解决方法以及磁存储技术的未来进行了论述. 相似文献
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本文回顾了磁记录介质的开发状况、介绍了目前粉末涂布磁带及硬盘介质的现状。前者研究开发的中心是薄层化或采用真空技术的薄膜化;后者的开发重点是以接近100A的极薄有Co-Cr系金属薄膜为主向纵向记录介质极限挑战的低噪声、高分辨率的垂直磁记录介质。未来,随着介质的低噪声化和制造技术的提高,从微磁学观点研究介质将越来越重要。 相似文献
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利用TbFeCo垂直磁化膜,对激光辅助(Laser-assisted)磁记录方式的大优点-窄道记录特性进行了研究,评价了基于蓝色LD(Laser Diode;激光二极管)的辅助光束(Assisting beam)直径微小化的效果,根据热模拟和静磁特性说明了消除串扰的特性,对照无(消除)串扰特性和MFM观察图像,从宏观上对模拟记录位形状进行了定性解释,指出了作为决定光辅助磁记录的记录/读出性能的首要因素-辅助区温度分布的重要性,研究结果表明,通过介质特性和辅助激光功率的控制,有可能实现相当于光辅助光束直径(Φ0.55μm)1/2以下的窄道距(100ktpi)记录。 相似文献
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2002~2003年磁记录材料新进展 总被引:1,自引:0,他引:1
本综述论文开始写于 1999年 ,其后每年撰写。本年的综述内容包含 :(1)磁记录头材料 ;(2 )巨磁电阻材料 ;(3)垂直磁记录材料 ;(4 )高密度磁存储材料 ;(5 )磁膜的磁光法研究 相似文献
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从 1999年开始每年撰写国内外磁记录材料及其应用的新进展。这里论述 2 0 0 1~ 2 0 0 2年的新进展 ,内容包括 :(1)垂直磁记录 ;(2 )平行磁记录 ;(3)多层膜巨磁电阻材料 ;(4 )磁层间的相互作用对磁记录介质的影响 ;(5 )纳米膜磁记录材料。 相似文献
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本年综述的内容包含:(1)垂直磁记录;(2)磁记录材料;(3)高密度磁记录介质;(4)巨磁电阻材料;(5)磁记录头。 相似文献
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综述了2000~2001年间国内外磁记录材料及其应用的若干新进展,包括垂直磁记录系统、巨磁电阻磁存储器和磁传感器、合成多层膜磁记录介质、磁隧穿型磁头材料、磁光记录介质材料。 相似文献