新型氧敏CeO2—x薄膜的制备及结构研究

用射频磁控溅射法制备了ＣｅＯ２－ｘ高温氧敏薄膜。通过改变Ｏ２／Ａｒ比，制备出不同组分和结构的ＣｅＯ２－ｘ薄膜。用Ｃｅ３ｄ的ＸＰＳ谱了Ｃｅ２＋的浓度。ＸＲＤ和ＡＦＭ分析表明，薄膜经空气中高温退火后，形成了立方体ＣａＦ２型小晶粒，晶粒大小明显依赖于退火条件和膜厚。     

镍和镍铁镀液中Ni~（2＋）、Fe~（2＋）和Cl~－浓度的快速测定

根据Ｎｉ２＋在汞膜电极上的电化学还原和Ｆｅ２＋、Ｃｌ在铂电极上的电化学氧化特性，采用ＤＺ－ｌＢ型电镀添加剂测定仪快速测定镍和镍铁镀液中Ｎｉ２＋、Ｆｅ２＋和Ｃｌ－的浓度。操作简便，快速，适用于电镀车间的镀液分析。     

IBAD薄膜与基体界面的显微结构

采用中能离子束辅助沉积（ＩＢＡＤ）技术，在单晶Ａｌ２Ｏ３（０００１）基片上沉积Ｍｏ膜，在ＧＡＡｓ（００１）基片上合成Ｆｅ１６Ｎ２薄膜，用ＨＲＥＭ等研究了Ｍｏｅａｊｄ－Ａｌ２Ｏ３（０００１），Ｆｅ１６ｎ２膜－ＧａＡｓ（００１）界面的显微结构，结果表明：Ｍｏ膜的晶粒呈细小柱状或纤维状，晶粒平均尺寸约８ｎｍ，Ｆｅ１６Ｎ２薄膜为等轴晶，晶粒平均尺寸约为１０ｎｍ，在Ｍｏ膜－Ａｌ２Ｏ３（０００１）界面及Ｆｅ１     

退火对氧敏CeO2—x薄膜结构及电子组态的影响

用射频磁控溅射法制备了ＣｅＯ２－ｘ高温氧敏薄膜，用Ｃｅ３ｄ的ＸＰＳ谱计算了Ｃｅ＾３＋浓度，研究了退火条件对氧敏ＣｅＯ２－ｘ薄膜的晶体结构及电子组态的影响，ＸＲＤ和ＡＦＭ分析表明，薄膜经９７３Ｋ至１３７３退火后，形成了ＣａＦ２型结构的ＣｅＯ２－ｘ其晶粒大小明显依赖于退火条件和膜厚，退火温度在９７３Ｋ至１１７３Ｋ时（２００）晶面是择优取向的，在１３７３退化４ｈ后，可得到热力学稳定的ＣｅＯ２－ｘ在退火前     

淀积磁场对NiO／Ni81Fe19双层膜特性的影响

用射频磁控溅射法在外磁场中淀积 Ｎｉ Ｏ／ Ｎｉ８１ Ｆｅ１９ 双层膜, 利用淀积磁场（ Ｈｄｅ） 诱导易轴并确定交换耦合场方向． 研究了淀积磁场对 Ｎｉ Ｏ／ Ｎｉ Ｆｅ 双层膜特性的影响, 结果表明, 淀积磁场改善了双层膜的磁滞回线的矩形度, 减小矫顽力, 增强交换耦合作用． 反铁磁性层 Ｎｉ Ｏ 和铁磁性层 Ｎｉ Ｆｅ 的厚度对矫顽力和交换耦合作用有很大的影响． 在５６ｋ Ａ／ｍ 的磁场中制备的 Ｎｉ Ｏ （５０ｎｍ） ／ Ｎｉ Ｆｅ （２５ｎｍ） 双层膜的易轴矫顽力 Ｈ Ｃ为１ ． ９ｋ Ａ／ｍ , 交换耦合场 Ｈ Ｅ Ｘ为２ ． ６ｋ Ａ／ｍ , 临界温度 Ｔｃ 为１５０ ℃, 截止温度 Ｔ Ｂ为２３０ ℃     

Cu层和Mo层对NiFe多层膜巨磁电阻（GMR）的影响

采用磁控溅射方法制备了ＮｉＦｅ／Ｃｕ和ＮｉＦｅ／Ｍｏ两个系列的多层膜，进行了结构，磁性和磁电阻测量，并对部分ＮｉＦｅ／Ｃｕ多层膜样品作了电镜分析，对于ＮｉＦｅ／Ｃｕ多层膜，在室温下的测量到巨磁电阻随Ｃｕ层厚度振荡的第一，二三峰。在ＮｉＦｅ／Ｍｏ多层膜样品中未发现巨磁电阻效应，讨论了非磁性 多层膜的磁性，界面结构和巨磁电阻效应。     

NiFe／Cu和NiFe／Mo多层膜的界面结构与巨磁电阻

采用磁控溅射方法制备了ＮｉＦｅ／Ｃｕ和ＮｉＦｅ／Ｍｏ多层膜。测量了厚度不同的Ｃｕ层和Ｍｏ层多层膜的磁性和磁电阻,并用电镜分析了部分ＮｉＦｅ／Ｃｕ多层膜样品。测量到ＮｉＦｅ／Ｃｕ多层膜的室温巨磁电阻随Ｃｉ层厚度振荡的第一、二、三峰。而在ＮｉＦｅ／Ｍｏ多层膜中未发现巨磁电阻效应。讨论了多层膜的界面结构对巨磁电阻效应的影响。     

镍和镍铁镀液中Ni^2＋,Fe^2＋和Cl^—浓度的快速测定

根据Ｎｉ＾２＋在汞膜电极上的电化学还原和Ｆｅ＾２＋、Ｃｌ－在铂电极上的电化学氧化特怀，采用ＤＺ－１Ｂ型电镀添加剂测定仪快速测定镍和镍铁镀液中Ｎｉ＾２＋、Ｆｅ＾２＋和Ｃｌ－的浓度，操作简便，快速，适用于民镀车间的镀液分析。     

CeO_2质点对Al_2O_3型氧化膜和膜／基体界面的原子结合能的影响EI

采用ＳＩＭＳ测定Ａｌ，Ｎｉ等二次离子的束流强度与阻止电压曲线新技术，研究了ＣｅＯ_２对１１００℃恒温氧化条件下形成的Ａｌ_２Ｏ_３型氧化膜和膜／基体界面处的原子结合能的影响，并结合添加ＣｅＯ_２增加了原子间结合能的实验结果，分析了ＣｅＯ_２影响Ａｌ_２Ｏ_３氧化膜生长动力学的微观机制。     

代位原子在Fe3Al亚点阵中的占位与合金的塑性

采用中子衍射法测定了Ｃｒ、Ｍｏ、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｓｉ等代位原子在ＤＯ３结构Ｆｅ３Ａｌ亚点阵中的原子占位，并从解离能角度探讨了原子对之间的相互作用及合金室温塑性的影响，结果表明：Ｃｒ、ＭＯ、Ｔｉ都占据了Ａｌ原子的次近邻位置，替代Ｆｅ原子；Ｎｉ、Ｍｎ占据Ａｌ原子的最近邻位置，（Ｓｉ＋Ａ）当量成分以内的Ｓｉ原子替代占据Ａｌ原子的位置，由于Ａｌ－Ｃｒ原子对的结合能低于Ｆｅ－Ａｌ，ＡＬ－Ｍｏ用Ａｌ－Ｔｉ对     

应用量子化学研究Ca2Fe2—xAl2O5的水化活性

用量子化学ＳＣＣ－ＤＶ－Ｘα方法分析了Ｃａ２Ｆｅ２－ｘＡｌｘＯ５体系听ａ２Ｆｅ２Ｏ５，Ｃａ２Ｆ３１．４３Ａｌ０．５７Ｏ５和Ｃａ２Ｆ３１．２８Ａｌ０．７２Ｏ５，认为它们的水化活性随Ａｌ的增加而提高的原因是：（１）Ａｌ的净电荷比Ｆｅ高，易吸收水分子的弧对电子；（２）Ａｌ－Ｏ键比Ｆｅ－Ｏ键弱，易断裂而容易与水反应。     

Fe（OH）3中微量金属离子对水热合成α—Fe2O3粒径的影响

本文研究了某些金属离子（Ａｌ＾３＋、Ｍｎ＾２＋、Ｚｎ＾２＋、Ｃｒ＾２＋、Ｎｉ＾２＋、Ｃｏ＾２＋）Ｆｅ（ＯＨ）３凝胶经水热法合成的α－Ｆｅ２Ｏ３微粉颗粒大小的影响。研究结果出现，随着金属离子的浓度在一定范围内（０．０１０－０．０５０ｍｏｌ·Ｌ＾－１）的增加，α－Ｆｅ２Ｏ３颗粒有减小的趋势。其中加入Ｃｏ＾２＋（０．０５０ｍｏｌ·Ｌ＾－１）、Ｍｎ＾２＋（０．１００ｍｏｌ·Ｌ＾－１）可以得到粒径为７５ｎｍ     

液膜分离富集金及其微量测定

在协同流体载体（ＴＯＡ和ＰＭＢＰ）、表面活性剂（ＳＰＡＮ８０）、膜增强剂（液体石蜡）、溶剂（煤油）和内相（ＴＵ－ＨＣｌ溶液）乳状液膜体系中，在迁移条件下，１５ｍｉｎ内Ａｕ迁移率达９９．５％以上，而许多常见的离子则不能通过液膜迁移，只有Ａｕ才能从含有ΣＲＥ＾３＋、Ａｇ＾＋、Ｐｄ＾２＋、Ｐｔ４＾＋、Ｒｈ＾３＋、Ｃｕ＾２＋、Ｆｅ＾３＋、Ａｌ＾３＋、Ｐｂ２＾＋、Ｚｎ＾２＋、Ｎｉ＾２＋、Ｍｏ＾６＋、Ｗ＾６＋     

金属间化合物／Al2O3陶瓷复合材料研究新进展

本文主要介绍了Ｎｉ－Ａｌ／Ａｌ２Ｏ３、Ｔｉ－Ａｌ／Ａｌ２Ｏ３和Ｆｅ－Ａｌ／Ａｌ２Ｏ３三种复合材料的最新研究进展情况,对它们的最新研究动态进行了综述。着重介绍了Ｆｅ－Ａｌ／Ａｌ２Ｏ３的研究进展,并认为Ｆｅ－Ａｌ／Ａｌ２Ｏ３是一种应用前景非常广阔的新型材料,添加合金元素是进一步提高其性能的重要途径。     

STUDY FOR MECHANICAL ALLOYING OF Fe─M BY MOSSBAUER SPECTROSCOPY

将Ｆｅ－Ｍ（Ｍ＝Ｃ５ＳｉＯ２Ａｌ２Ｏ３）混合物在Ａｒ中高能球磨５６ｇ后测量Ｍｏｓｂａｕｅｒ谱，结果表明，（Ｆｅ）２－（ＳｉＯ２）１仍为Ｆｅ和ＳｉＯ２的机械混合物：（Ｆｅ）６－（Ｃ）３已完全合金化，生成两种Ｆｅ３Ｃ；（Ｆｅ）２－（Ａｌ２Ｏ３）１则成为Ｆｅ（７３％），尖晶石型的ＦｅＡｌ２Ｏ４）２２％），ｑｑｎｔＦｅ的团聚族（５％）和Ａｌ２Ｏ３的混合物。     

应用量子化学研究Ca_2Fe_（2-x）Al_xO_5的水化活性

用量子化学ＳＣＣ—ＤＶ—Ｘａ方法分析了Ｃａ_２Ｆｅ_（２-ｘ）ＡｌｘＯ_５体系中的Ｃａ_２Ｆｅ_２Ｏ_５（即Ｃ_２Ｆ），Ｃａ_２Ｆｅ_（１．４３）Ａｌ_（０．５７）Ｏ_５和Ｃａ_２Ｆｅ_（１．２８）Ａｌ_（０．７２）Ｏ５．认为它们的水化活性随Ａｌ的增加而提高的原因是：（１）Ａｌ的净电荷比Ｆｅ高，易吸收水分子的孤对电子；（２）Ａｌ-Ｏ键比Ｆｅ-Ｏ键弱，易断裂而容易与水反应．     

DMF中脉冲电沉积Nd—Co合金膜

研究了室温下在含有少量水的ＮｄＣｌ３－ＣｏＣｌ２ＤＭＦ溶液中Ｎｄ－Ｃｏ功能合金膜的电沉积。应用脉冲电镀制备出不同质量的合金膜。试验结果表明：Ｄ ０．４５ｍｏｌ／ＬＮｄＣｌ３＋０．０５ｍｏｌ／ＬＣｏＣｌ２＋适量乙二胺的ＤＭＦ电镀液中，控制脉电流密度为１００－１５０Ａ／ｍ＾２，可得到有金属光泽的灰色稀土合金膜。     

矿物在合成纳米炭管中的催化作用

采用了电弧放电方法合成纳米炭管,在使用Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｚｒ等金属元素作催化剂的基础上,探索天然矿物－黄铁矿（ＦｅＳ２）、磁黄铁矿（Ｆｅ１－ｘＳ）、方铅矿（ＰｂＳ）、磁铁矿（ＦｅＦｅ２Ｏ４）、刚玉（Ａｌ２Ｏ３）及合成ＦｅＣｌ３、ＮａＣｌ、ＫＣｌ等化合物作催化剂合成纳米炭管的途径,讨论其催化机理。实验说明：用矿物（化合物）作催化剂合成纳米炭管是可行的,并有应用潜力,其催化效果与电子层结构、化合物键性类型、晶体缺陷等密切相关。就催化效果而言,总体上表现出过渡金属元素催化效果优于非过渡金属元素,晶体结构中共价键程度高的化合物（含金属键或改性的共价键的化合物）催化效果好于离子键程度高的化合物。     

Ni3Al金属间化合物及溅射CoCrAlY涂层的高温热腐蚀

研究了Ｎｉ３Ａｌ金属间化合物及溅射ＣｏＣｒＡｌＹ涂层在９００～９５０℃空气中，表面存在（Ｎａ，Ｋ）２ＳＯ４盐膜时的热腐蚀行为，结果表明，Ｎｉ３Ａｌ遭受严重的热腐蚀，溅射ＣｏＣｒＡｌＹ涂层可以通过在表面迅速形成保护性Ａｌ，Ｃｒ氧化膜而显著改善Ｎｉ３Ａｌ的耐热腐蚀性能。     

NiFeNb薄膜的磁特性及磁阻效应研究

研究了射频磁控溅射膜（Ｎｉ８１Ｆｅ１９）１００－Ｎｂｘ的各向异性磁阻效应ＡＭＲ、矫顽力Ｈｃ、饱和磁化强度４ｘｍｓ和饱和磁化场Ｈ。研究其作为磁阻磁头材料和低磁场高灵敏度材料的可能性。我们发现Ｎｂ的含量对（Ｎｉ８１Ｆｅ１９）１００－ｘＮｂｘ的各向异性磁阻效应ＡＭＲ＝２％、矫顽力Ｈｃ＝１１９Ａ／ｍ和饱和磁化场Ｈｘ＝４４５Ａ／ｍ，适宜于低磁场高灵敏度检测材料。