平板金属件的涂搪方法及其涂搪后的制品

本发明涉及平板的金属件的涂搪方法及其涂搪后的制品，其步骤包括１）．对平板金属件进行预处理；（２）将金属陶瓷瓷釉层涂于经预处理后的一面；（３）在适当的熔化温度下熔融已施涂的金属陶瓷瓷釉层；（４）再在瓷釉层上施涂一层可透气的耐化学腐蚀的漆层。     

电泳涂搪的方法及装置

本发明涉及用于钢铁坯件上进行电泳涂搪的方法及使之付诸实施的具体装置。 电泳涂搪应用中的缺点就是随着不断地涂搪操作,搪瓷釉浆里(悬浮物)的瓷釉粒子的利用性能越来越差,因为利用电泳原理沉积在坯胎上的瓷釉层的含水量要比搪瓷釉浆的含水量少。 另外一个缺点就是,在电泳涂搪操作中,瓷釉浆的导电性能也随之增大,导电性能增大的产生主要是在进行电泳涂搪时,不可能避免电解。搪瓷釉浆中的离子,根据自己所带电     

钢质坯件电泳涂搪的方法

本发明是关于在铁类材料,特别是在钢质坯件上进行电泳涂搪的方法。 人们知道,钢质坯件电泳涂搪方法的缺点就是涂搪制品得不到完善的白色,这主要是由于涂搪坯件正极极化引起了镍和铁的氧化。氧化作用造成了瓷釉变色。另外,由于氧化作用,电泳槽里的釉浆经多次坯件涂搪后,颜色起了变化,出现了棕褐色或黄颜色。另一个缺点就是失去了密着反应中为搪瓷密着所需要的一部分镍。 为此,本发明提出一种改进的涂搪工艺,它能避免刚才提到的种种缺点。 按照发明,铁质坯件,特别是钢质坯件,在一些预处理,如:脱脂、酸洗、镀镍或类似处理后,在电泳涂搪前,可镀上一层锌,这方法中,人们还能用其它蒸发温度高于瓷釉硬化温度的金属来代替锌。所以,使用氧化物为白色或近似白色的金属物是有益的。     

搪玻璃釉浆的涂搪性能

由于瓷釉特殊的化学组成,搪玻璃釉浆的涂搪工艺性能较为难于控制。本文较系统地对影响釉浆流变性的诸因素进行了一些分析。提出生产实践中选择制浆工艺的一般原则,提出釉浆的研磨细度、研磨温度,陈化时间的控制条件。认为釉浆的球磨添加物应根据瓷釉的性质,工艺条件的变化来进行选择。本文试图对釉浆涂搪性能的调控作一些规律性的探讨。此外也就釉浆性质对烧成工艺和瓷面质量的影响作了一些简单介绍。     

搪玻璃釉浆的涂搪性能

由于瓷釉特殊的化学组成，搪玻璃釉浆的涂搪工艺性能较为难于控制。本文较系统地对影响釉浆流变性的诸因素进行了一些分析。提出生产实践中选择制浆工艺的一般原则，提出釉浆的研磨细度、研磨温度，陈化时间的控制条件。认为釉浆的球磨添加物应根据瓷釉的性质，工艺条件的变化来进行选择。本文试图对釉浆 搪性能的调控作一些规律性的探讨。此外也就釉浆性质对烧成工艺和瓷面质量的影响作了一些简单介绍。     

浸搪与流动涂搪工艺(五)

第八讲 瓷釉浆的要求(续) 三、控制搪瓷釉浆的常规方法 (一)初步检验 釉浆在出磨前,须经过初步检验,并调节其比重和上浆量以利出磨,但两者必须高于正常涂搪操作的要求,然后储存待用。 工作开始之前,浸搪槽、浇注涂搪槽或其它容器如补充槽等的釉浆,均应装满到工作需要的容量;在进行充份搅拌或反复循环使釉浆达到完全均匀之后,记录下列读数:     

静电干粉涂搪用粉

静电干粉（也叫静电粉末）涂搪是二十世纪七十年代到八十年代发展起来的一种新型涂搪工艺，它象征着搪瓷工业的技术，代表着搪瓷工业的发展方向。静电干粉涂搪的优点的：（1）节省工序，节省能源，无需干燥。（2）可实现两搪－烧工艺即（底釉面釉分次喷搪、一次烧成）。（3）资源利用率高，粉末通过回收，利用率可高达98％以上。（4）无废水废气产生。（5）瓷釉中无需添加粘土和各种电解质，烧成后瓷面光洁致密、气孔率低，杂点、异色明显减少。（6）喷涂质量优良，瓷面均匀，厚薄一致。（7）自动化操作，省工省力，文明化生产。     

等离子热喷涂涂搪工艺技术研究

简要介绍了等离子热喷涂技术原理、特点和作用,研究了适合热喷涂工艺技术的搪瓷瓷釉和喷涂搪瓷粉末,以及适合釉料喷涂的热喷涂工艺技术参数。研究结果表明,在厚钢板表面,采用特殊的瓷釉粉末,通过热喷涂技术可以进行搪瓷表面的喷涂,该工艺特别适合于大型搪瓷设备的表面涂搪。     

电泳涂搪的装置及方法

本发明涉及关于在装有电极的液槽里进行金属坯件电泳涂搪的方法和装置。 已经存在这些方法和装置,即把带阴电的电极固定在隔开的阴极部位,并在它的上方,约高度1/3的地方开设一个供水排出的溢流口。 隔开的阴极部位内盛有弱的电解液。当阴极和阳极之间通上电流时,釉浆里的阳离子随着多余的水渗透到阴极处,从溢流口流走。因此,釉浆中瓷釉粒子的比例和釉浆的导电性就能得到控制。 这个装置的使用效果令人感到满意,但不足之处就是隔开阴极部位以及溢水装置的价格相对来说比较昂贵。此外,当过滤膜一损坏,电解液就从阴极处流到电泳槽里。 还有其它浸入电解液中使其渗透到隔开的阴极部位内而进行涂搪的方法和设备。 在另一已知涂搪装置中,透过过滤膜的液体,被唧简吸入并送入补助装置中,该液体和补充料拌匀后又重新加进电泳槽。从涂复的情况来看,这种回收稀释溶液的方法还是可行的。 电泳涂搪时,以水作为悬浮剂。另外,在电泳涂搪中,釉浆的导电性不断增加。釉浆导     

国外烧锅涂搪机简况及涂搪机在我国的应用探讨

根据烧锅生产工艺,国外的烧锅涂搪机有底釉涂搪机和面釉涂搪机。1981年第十二届国际搪瓷年会上,意大利SPA公司向大会介绍了MG-O底釉涂搪机和MF-1面釉涂搪机。此外,联邦德国的全自动面釉涂搪机,日本的离心式流淌机,也为先进的烧锅涂搪设备。 1.MG-O底釉涂搪机 该涂搪机(图1)可对坯件内外进行涂覆,并对烧锅周边加以清     

厨房铝炊具的涂搪方法及搪瓷制品

本发明介绍的方法主要用于铝制搪瓷炊具,诸 如:燉锅,煎锅,高压锅等。 发明主要在于,涂搪之前,在常用料方组成的釉浆里,加入重量15％的石英粉,该粉细度为0.038mm,釉浆细度为0.048mm。 未熔化的石英耐热温度要比瓷釉高。人们担心因添加了石英粉,可能会对瓷层质量产生不利影响。     

国外涂搪技术的发展趋势

涂搪技术随着搪瓷工业的日益兴旺发达而发展。涂搪工艺技术的发展过程在一定程度上标志着搪瓷工业的发展历程。近十年来研究开发的静电干粉喷搪技术和电泳涂搪技术是适应时代要求的先进的工艺技术。本文首先介绍静电干粉喷搪工艺技术的现有水平，广泛应用于搪瓷工业的成效，及其显示出的优、缺点。其次述及电泳涂搪技术的稳定性发展情况，现已取得了可喜成果，以及可期望的发展趋势。最后谈到各种涂搪技术相互配合使用的三类１６种方     

涂搪用釉粉及其静电沉积法

本发明是关于涂搪用釉粉及其如搪瓷的沉积法。在涂搪过程中,釉粉颗粒中至少部分是玻璃质的或釉块的被沉积在坯件上,然后通过加热熔化形成一层瓷层。更确切地说,本发明是关于适合于以干粉末静电沉积的涂搪用釉粉。     

国外涂搪技术的发展趋势

涂搪技术随着搪瓷工业的日益兴旺发达而发展。涂搪工艺技术的发展过程在一定程度上标志着搪瓷工业的发展历程。近十年来研究开发的静电干粉喷搪技术和电泳涂搪技术是适应时代要求的先进的工艺技术。本文首先介绍静电干粉喷搪工艺技术的现有水平,广泛应用于搪瓷工业的成效,及其显示出的优、缺点。其次述及电泳涂搪技术的稳步发展情况,现已取得的可喜成果,以及可期望的发展趋势。最后谈到各种涂搪技术相互配合使用的三类16种方案的优劣对比,以便广大用户结合实际择优而用。     

搪玻璃设备涂搪面焊缝质量的控制

搪玻璃设备涂搪面焊缝质量的控制晏四祥（太仓工业搪瓷厂）关键词搪玻璃设备，涂搪面焊缝，控制措施Ｗｅｌｄｉｎｇｑｕａｌｉｔｙｃｏｎｔｒｏｌｏｆｇｌａｓｓｌｉｎｉｎｇｓｕｒｆａｃｅｓｏｆｇｌａｓｓｌｉｎｉｎｇｅｑｕｉｐｍｅｎｔ￥；ＹａｎＳｉｘｉａｎｇ（Ｔａ...     

热轧含钛低合金搪瓷钢涂搪性能研究

通过电化学氢渗透实验及涂搪试验强制鳞爆实验，研究了热轧搪瓷板的抗鳞爆性能。结果表明，含钛钢与A3、10^#钢等相比，具有更大的氢扩散激活能和对氢的捕集能，有较小的氢扩散系数，良好的抗鳞爆性能，并且其气孔率低，瓷釉与钢板结合性能好，是一种涂搪性能良好的基材。     

涂搪工艺系统

概述了目前存在的各种涂搪工艺系统,提出了每种工艺方法的优缺点以及对环境的影响,讨论了实际生产最有效涂搪系统的选择依据。     

浸搪与流动涂搪工艺(一)

我国搪瓷工业虽已有近七十年的历史,但就产品的结构来说大多局限于中小件的中空制品,基本上仍然处于四五十年代水平,而且这种传统产品的数量占整个搪瓷制品比重的90％左右,许多新的领域我们尚未开拓。涂搪工艺几十年来仍以手工浸搪为主,工艺演变进展缓慢,尤其是对瓷釉浆的碾磨、调配和磨加物的性能及对釉浆的控制,更缺乏系统深入的研究和科学的操作管理,而这些又必须建立在正规生产实践基础上才能巩固。     

浸搪与流动涂搪工艺(四)

钳搪法主要用于中空制品,也用于复杂形状制品的涂搪。钳搪能使制品里外面涂覆完整。许多造型不宜用浸搪淋釉法施搪的却可用钳搪法来完成,钳搪比传统的浸搪更能去除多余的釉浆。 钳搪程序的一般规定为: (1)使底部甩去多余的釉浆均匀地移向身部;     

静电干粉涂搪用粉

1 概述 静电干粉(也叫静电粉末)涂搪是二十世纪七十年代到八十年代发展起来的一种新型涂搪工艺,它象征着搪瓷工业的技术进步,代表着搪瓷工业的发展方向。静电干粉涂搪的优点是: (1)节省工序,节省能源,无需干燥。 (2)可实现两搪一烧工艺即(底釉面釉分次喷搪、一次烧成)。 (3)资源利用率高,粉末通过回收,利用率可高达98％以上。