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相似文献
 共查询到20条相似文献,搜索用时 491 毫秒
1.
美国ProTek公司TVS选择指南1、500W型号(单极性)型号(双极性)额定反向关断电压VWM(V)击穿电压(VBR)最小最大ITmA最大反向漏电流VWM(μA)最大箝位电压VC(V)最大峰值脉冲电流IPP(A)VBR的最大温度系数(mV/℃)SA...  相似文献   

2.
美国ProTek公司1500WTVS选择指南型号(单极性)型号(双极性)额定反向关断电压VWM(V)击穿电压(VBR)最小最大ITmA最大反向漏电流VWM(μA)最大箝位电压VC(V)最大峰值脉冲电流IPP(A)VBR的最大温度系数(mV/℃)1.5...  相似文献   

3.
HARRIS公司的三极管阵列特性型号特性极限参数(TO-5CAN)·单片通用型三极管阵列·内含4个硅NPN管,其中两个接成达林顿管·hFE匹配度:±10%·VBE匹配度:CA3108A±2mVCA3018±5mV·可在直流到120MHz内工作·噪声低...  相似文献   

4.
Qzgur.  a  付士萍 《半导体情报》1996,33(5):44-45
成功地制作出常断GaN基MODFET(调制掺杂FET)。该器件的栅长和沟道长度分别为3和5μm,其非本征跨导高达120mS/mm,在正栅偏压为3V时其电流为300mA/mm。该跨导值与先前报道的栅长分别为1和0.23μm、跨导分别为45和24mS/mm的器件相比,是相当不错的。  相似文献   

5.
爱立信(ERICSSON) 输入(右*左*左*左*)后会显示: ABCDEF GHIJ PRGXXXXXXXXX ABCDEF为年、月、日(YY/MM/DD) 诺基亚(NOKIA) 输入*#000#显示: VXX·XX为软件版本, DD-MM-YY为生产日期(日-月-年), NXX-X为手机型号:如3310为NHM-5。 摩托罗拉( MOTOROLA) 查MSN(在手机标贴上)内容,MSN长度为十位: AAA-B-CC-DDDD AAA为型号代码(A74- Cd920/928, A84 2000); B为产地代码(2-…  相似文献   

6.
分析了AlxGa1-xAs/GaAsHBT外基区表面复合电流及外基区表面复合速度对直流增益的影响,用光致发光(PL)谱和Al/SiNx-S/GaAsMIS结构C-V特性,研究了GaAs表面(NH4)2S/SiNx钝化工艺的效果及其稳定性。结果表明,ECR-CVD淀积SiNx覆盖并在N2气氛中退火有助于改善GaAs表面硫钝化效果的稳定性。在此基础上形成了一套包括(NH4)2S处理、SiNxECR-CVD淀积及退火并与现有HBT工艺兼容的外基区表面钝化工艺,使发射区面积为4×10μm2的器件增益比钝化前提高了4倍,且60天内不退化。  相似文献   

7.
TI通用器件选购指南SN74HC×××:高速CMOS逻辑系列工作电压:+5V工艺:CMOS典型传输速率:25ns驱动电流(-IOH/IOL:-8/8mA型号管脚后缀说明零售价(元)型号管脚后缀说明零售价(元)SN74HC00SN74HC02SN74H...  相似文献   

8.
AT90系列8位单片机(即AVR系列)是美国ATMEL公司继AT89系列单片机后推出的RISC(精简指令集)单片机,它性能优越,价格较低,使用方便,而且引脚与AT89系列同级别的兼容。AT90系列有120条双字节指令,绝大多数指令的运行时间为单一时钟...  相似文献   

9.
借助一新的工艺模拟与异质器件模型用CAD软件──POSES(Poisson-SchroedingerEquationSolver),对以AlGaAs/InGaAs异质结为基础的多种功率PHEMT异质层结构系统(传统、单层与双层平面掺杂)进行了模拟与比较,确定出优化的双平面掺杂AlGaAs/InGaAs功率PHEMT异质结构参数,并结合器件几何结构参数的设定进行器件直流与微波特性的计算,用于指导材料生长与器件制造。采用常规的HEMT工艺进行AlGaAs/InGaAs功率PHEMT的实验研制。对栅长0.8μm、总栅宽1.6mm单胞器件的初步测试结果为:IDss250~450mA/mm;gm0250~320mS/mm;Vp-2.0-2.5V;BVDS5~12V。7GHz下可获得最大1.62W(功率密度1.0W/mm)的功率输出;最大功率附加效率(PAE)达47%。  相似文献   

10.
分析了AlxGa1-xAs/GaAsHBT外基区表面复合电流及外基区复面复合速度对直接增益的影响,用光致发光(PL)谱和Al/SiNx-S/GaAsMIS结构CV特性,研究了GaAs表面(NH4)2S/SiNx钝化工艺的效果及其稳定性。结果表明,ECR-CVD淀积SiNx覆盖并在N2气氛中退火有助于改善GaAs表面硫钝化效果的稳定性,在此基础上形成了一套包括(NH4)2S处理,SiNxECR-CV  相似文献   

11.
已研制出一种高性能5μm640×480蓝宝石衬底的HgCdTe/CdTe/Al_2O_3红外焦平面阵列(FPA),在低于120K温度下,它有全电视兼容分辨率和优良的灵敏度.在95K工作温度和10 ̄(14)光子数cm ̄(-2)S ̄(-1)的背景通量下,平均焦平面阵列D ̄*受背景限制,其值约为1×10 ̄(12)cmHz ̄(1/2)W ̄(-1),典型的平均量子效率为60%~70%。制造这种大面阵、高灵敏度器件的关键工艺,是在有稳定的CdTe缓冲层的蓝宝石衬底上,外延生长HgCdTe材料。在低于或等于120K的工作温度和3.4~4.2μm的波段内,相机的平均噪声等效温差NE△T为0.013K;该值比目前可实用的PtSi焦平面阵列相机的高一个数量级,而PtSi焦平阵列相机要求制冷到低于或等于77K,才能保持其性能。  相似文献   

12.
DVB-ASI接收系统解码规则实现过程   总被引:1,自引:0,他引:1  
刘永志  王芙蓉 《电信快报》2000,(12):20-21,24
目前,在数字视频广播(DVB)系统中,DVB-ASI接口使用非常广泛。文章介绍了选用美国 CYPRESS 公司的端到端通信接收处理芯片,实现DVB-ASI接收系统解码的过程,提出了DVB-ASI接口的基本原则。  相似文献   

13.
BiCMOS先进的符号幅值20比特数/模转换器特点·极低的失真─96dBmaxTHD+N(不需外部调整)·接近理想的低电平工作特性·、无毛刺输出·120dB信噪比典型值(A计权)·工业标准串行输入格式·快速(200ns)电流输出(±1.2mA)·16...  相似文献   

14.
本文介绍了美国CYPRESS公司的SDH/SONET串行收发芯片CY7B952的功能、内部结构和工作原理,并给出了该芯片的典型应用。  相似文献   

15.
TEMIC分公司Siliconix产小信号场效应管N沟道放大管TO-226AA(TO-92),TO-236(SOT-23)元件型号夹断电压(V)最小值IDSS(mA)最小值最大值gfs(ms)最小值最大值VGS(of)(V)最小值最大值栅极漏流(pA...  相似文献   

16.
本文论述在常压CVD硅外延系统中,通过e_qP=B-A/T,分别计算出SiH-Cl_3、PCl_3和BCl_3的A和B二常数值。采用低温深冷工艺,进一步提高硅源的纯度,通过控制SiHCl_3的蒸汽压,在晶向为(111)和(100),掺硼电阻率(4~8)×10 ̄(-3)Ω·cm的抛光衬底硅片上,生长出外延层电阻率为350Ω·cm(杂质浓度3.5×10 ̄(13)/cm ̄3),外延层厚度达120μm的p/p ̄+/硅外延片,制成器件的击穿电压可达1000V。  相似文献   

17.
本文对Au/AuGeNi/n-GaAs欧姆接触进行了三种不同的应力试验:(1)高温存储(HTS),(2)常温大电流(HC),(3)高温适当电流。试验结果表明,三种试验均造成了实验后期欧姆接触电阻增大,最后导致欧姆接触失效。AES分析表明,试验后的样品发生了Ni,Au和GaAs的互扩散。  相似文献   

18.
本文对Au/AuGeNi/n-GaAs欧姆接触进行了三种不同的应力试验:(1)高温存储(HTS),(2)常温大电流(HC),(3)高温适当电流。试验结果表明,三种试验均造成了实验后期欧姆接触电阻增大,最后导致欧姆接触失效。AES分析表明,试验后的样品发生了Ni,Au和GaAs的互扩散。  相似文献   

19.
脉冲激光沉积铌酸锶钡铁电薄膜及其性能表征   总被引:3,自引:0,他引:3  
利用脉冲激光沉积(PLD)技术在MgO、LSCO/MgO衬底上在位制备了铌酸锶钡(SBN)铁电薄膜,发现SBN薄膜在MgO、LSCO/MgO衬底上均呈(001)择优取向。用扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)表明SBN薄膜的晶粒细小致密,铁电微畴尺寸约为200nm。SBN薄膜的剩余极化强度为18.6μC/cm2,矫顽场为22.3kV/cm。  相似文献   

20.
试验了用柠檬酸与双氧水系列腐蚀液来实现InAl(Ga)As∶InP和InGaAs∶InAlAs的选择腐蚀,达到了较好的效果,且工艺重复性好。同一单片上MSM(金属-半导体-金属)光探测器的光响应度可达到0.5A/W,HEMT器件最大跨导为305mS/mm,最大饱和电流密度为350mA/mm。完成了实现OEIC光接收机的关键一步。  相似文献   

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