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相似文献
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1.
激光球面干涉仪可对凹、凸光学球面曲率半径及光学球面、光学平面的面形局部误差作高精度非接触的测量。针对目前光学行业高精度光学样板的测试问题,沈阳仪器仪表工艺研究所、上海光学仪器厂和新添光学仪器厂协作,共同研制成功了JQG-1000型数字显示激光球面干涉仪。受国家仪器仪表总局委托,由沈阳仪器仪表工艺研究所主持,于1979年12月17日至19日在沈阳召开了对该仪器的鉴定会。参加会议的有长春光学精密机械研究所、上海光学精密机械研究所、辽宁省计量局等20个科研、生产和高等院校的20余名代表。会上沈阳仪器仪表工艺研究所和新添光学仪器厂分别介绍了该仪器的研制报告(包括综  相似文献   

2.
受一机部仪表局委托,由沈阳仪器仪表工艺研究所主持,于1978年12月8日至13日在沈阳召开了弹性元件性能通用测量仪鉴定会。有关的仪表厂、科研、高等院校等二十余个单位,三十余名代表参加了会议。会上代表们听取了沈阳仪器仪表工艺研究所弹性元件检测仪攻关组关于TCY-1型弹性元件性能通用测量仪的研制情况报告,并就弹性元件测试技术和数据处理技术、仪器用谐振筒压力传感器理论和设计问题做了介绍,并进行了讨论。会议代表们对该仪器的技术性能进行了  相似文献   

3.
由沈阳仪器仪表工艺研究所研制的煤矿安全仪器用热敏电阻器件,于1983年12月16日~18日在沈阳通过鉴定。参加会议的有煤炭科学研究院抚顺研究所、中国科学院新疆物理所、大连化学物理研究所等15个单位25名代表。该器件是利用 SiC 单晶热敏电阻实现甲烷浓度检测的热导式检测器件。通过鉴定,代表们  相似文献   

4.
为了解决线性集成电路直流和低频参数测试方面存在的问题,沈阳仪器仪表工艺研究所第四研究室,开展了线性集成电路测试方法的研究工作,并研制成功了SI-1型线性集成电路综合参数测试仪。80年7月26日至28日在沈阳召开了上述测试方法和测试仪器的鉴定会,会议由沈阳仪器仪表工艺研究所主持,国家仪器仪表总局和有关工厂、院校、科研、共11个单位,15名代表参加了会议。  相似文献   

5.
由沈阳仪器仪表工艺研究所研制的硅蓝光电池的鉴定会,于1981年7月16日至18日在沈阳市举行。会议由国家仪器仪表工业总局及一机部机械院联合主持。有辽宁省科委、辽宁省计量所、清华大学、上海电器电子元件厂、天津印刷技术研究所、北京718厂等十九个单位的二十余名代表参加了会议。鉴定的结果,代表们一致认为硅蓝光电池的  相似文献   

6.
根据国家仪器仪表总局有关文件要求,由沈阳仪器仪表工艺研究所组织了仪表电机行业质量抽查测试评定会议,于八月二十一日至九月十八日历时二十九天。在上海工业自动化仪表研究所进行了集中测试。参加予备会和测试评定工作的有国家仪器仪表工业总局、上海仪表公司、沈阳仪器仪表工艺研究所,上海工业自动化仪表研究所、上海仪表电机厂、西安仪表厂等有关受检查生产厂和重点用户共十三个单位二十五名代表。检查测试评定工作自始至终有重点用户参加并认真听取了他们的意见。行检组对上海仪表电机厂、东阳仪表电机厂、湘西元件仪表厂、瑞安仪表电机厂等  相似文献   

7.
机电部沈阳仪器仪表工艺研究所于91年7月16日至19日在上海主持召开了这次会议。参加会议的有来自全国各地元器件行业十一个工厂、工艺装备行业二个工厂及上海自动化仪表公司的代表共计26人。会议首先由上海自动化仪表公司介绍了该公司所属25个厂“工艺突破口”工作进展情况。沈阳仪器仪表工艺研究所在会上全面介绍了前段时期我国仪器仪表元器件及工艺装备小行业“工艺突破口工作开展的概况,介绍了一些  相似文献   

8.
根据机械部仪表局的要求,仪表宝石轴承优质品复查会于1983年10月22日至25日在苏州召开。参加会议的有沈阳仪器仪表工艺研究所、苏州市机械局、上海第二电表厂等15个单位的29名代表。会议由沈阳仪器仪表工艺研究所主持,会上传达了机械部和仪表局有关“对国优、部优产品进行质量  相似文献   

9.
《仪器制造》第二届编委和通讯员会议于1986年8月8日~12日在青岛市召开。参加会议的代表来自祖国各地,包括大学、研究所和工厂,共有24个单位,三十余名代表。会议期间,机械工业部情报所的有关领导和青岛计数器厂的领导。看望了代表。在会上。由编委会副主任、沈阳仪器仪表工艺研究所领导关世凤致了开幕词。沈阳仪器仪表工艺研究所情报室主任高峰传达了机械工业部关于整顿机械工业科技期刊的通  相似文献   

10.
一九八一年十一月廿日~廿二日,沈阳仪器仪表工艺研究所受国家仪器仪表工业总局委托,在沈阳主持了由沈阳仪器仪表工艺研究所和甘肃光学仪器厂联合进行的“固着氧化铈磨料K_9玻璃光学零件抛光工艺研究”课题的行业鉴定。会议邀请总局系统和五机系统的光学厂和大专院校,三十多个单位,  相似文献   

11.
行业活动     
由机械电子部仪器仪表工艺技术推广咨询服务中心、机械电子部仪器仪表工艺及元器件标准网联合举办的该研讨会于1990年10月11日至10月15日在福建省武夷山市召开,有134个单位的162名代表参加了会议。会上,沈阳仪器仪表工艺研究所黄  相似文献   

12.
行业活动     
印制板镀层孔隙仪鉴定会沈阳仪器仪表工艺研究所研制的印制板镀层孔隙率测试技术及仪器鉴定会于1982年12月26日至28日在沈阳召开,来自北京分析仪器厂、北京738厂、南京734厂、中国科学院计算所、自动化所、北京电镀总厂、东北工学院等20个单位廿多名代表参加了鉴定会。仪器主要技术指标见表1。该课题组对使用范围定性地做了Cr/Cu-Sn、Zn/Fe等镀层的孔隙试验,证明该仪器可以扩大到电镀行业使用。与会代表一致认为,该课题对金镀层孔隙率测试技术作了较深入系统的研究,并提出了研制报告;试制的仪器经过试验、测试证明达到了原设计要求。该仪器根据IEC标准和国外先进设计标准,其性能指标符合国际标准要  相似文献   

13.
行业活动     
《仪器仪表制造工艺的分类与命名》标准讨论会《仪器仪表制造工艺的分类与命名》标准讨论会于1983年8月10日至16日在山东省胶南县召开,会议由负责起草单位机械工业部沈阳仪器仪表工艺研究所及机械工业部十一设计院主持,22个单位的36名代表出席了会议。特邀中国仪器仪表学会工艺学会的有关付理事长及理事参加了会议。代表们对上述标准征求意见的第二稿进行了热烈地讨论,认为仪器仪表工艺的分类与命名标准的制订具有重要  相似文献   

14.
沈阳仪器仪表工艺研究所研制的无刷直流伺服电动机用霍尔位置传感器于1983年12月26日~28日在上海召开了鉴定会。受机械工业部仪表局委托,沈阳仪器仪表工艺研究所主持了会议。参加会议的有11个单位16名代表。该项目经过两年多的研究,解决了用霍尔元件制造无刷直流电机用霍尔位置传感器的结构设计、制造工艺和性能测试方法等关键技术问题。该传感器在国内具有先进技术水平,在国际上达到了日本横河电机制作所七十年代后期同类产品的水平。其主要技术指标为:1.输入、输出电阻值,1kΩ左  相似文献   

15.
受第一机械工业部委托,由一机部沈阳仪器仪表工艺研究所主持的扩散硅应变片及其固体压力传感器成果鉴定会于1978年12月3日到7日在沈阳举行。来自科研、生产、使用等单位的代表50余人参加了鉴定会。到会代表对扩散硅应变片及其固体压力传感器的有关资料测试性能报告等进行了审查。认为一机部沈阳仪器仪表工艺研  相似文献   

16.
由沈阳仪器仪表工艺研究所负责组织联合设计,有大连仪表元件厂,襄樊仪表元件厂、四川仪表六厂,沈阳仪器仪表工艺研究所等单位参加共同试制的FO33低漂移、FO11低功耗、FO06、FO07通用Ⅲ型集成运算放大器,于一九八○年七月十九日在大连,经国家仪器仪表工业总局鉴定合格。参加这次鉴定会的有大专院校、整机单位、元件厂等30多个单位,共54名代表,经过测试,代表们一致认为上述元件达到先进水平。  相似文献   

17.
应江苏省徐州市电子仪表工业局的邀请,由徐州电子仪表局、济南第一机床厂、上海光学仪器厂、江苏省机械局、江南光学仪器厂、青海第二机床厂、沈阳仪器仪表研究所等十三个单位的十七名代表,组成鉴定委员会,于1973年9月22日开始,经过5天时间,在徐州仪表专用设备厂,召开了CM6125型精密普通车床(主要规格为φ250×500)的技术鉴定会。代表们认为,徐州仪表专用设备厂的广大职工在各级党委的领导下,认真贯彻“鼓足干  相似文献   

18.
沈阳仪器仪表研究所研制的JG—1型激光干涉仪,在一九七五年七月六日至十日,由辽宁省机械工业局组织鉴定,出席鉴定会的有:有关领导机关、计量部门、科研单位以及工厂、高等院校共三十二个单位,五十一名代表。大  相似文献   

19.
金刚石压头分网举办的金刚石压头焊接技术研讨会,由西安金刚石工具厂主持,于1985年7月20日至7月24日在西安市召开。参加会议的有:机械工业部沈阳仪器仪表工艺研究所,陕西省计量局,西安市计量局,上海工具研究所,山西新绛金刚石工具厂,天津金刚石工具厂,北京测绘仪器厂,上海金刚石工具厂,西安金刚石工具厂,建材部西北管理处和红旗机械厂等12个单位的19名代表。会议期间,五个金刚石压头生产厂介绍了各单位的金刚石压头焊接技术,代表们进行了认真热烈  相似文献   

20.
<正> 本刊讯:中国仪器仪表学会机械量测试仪器学会与中国光学学会共同举办的“光学信息处理”短训班,于北京,从7月22日到8月17日学习结束.该短训班是请清华大学光学仪器教研组具体组织的,参加学习的有:中国计量辩学院、成都工具研究所、沈阳仪器仪表工艺研究所、部分省市计量局、测试技术研究所、重庆大学、西安交大、西北大学等共45个单位、59人.讲课内容有:光波及其教学描述;光的衍射理论;光学处理系统:  相似文献   

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