特殊形貌的PANI/CeO2的电化学制备

采用恒电位法,以石墨箔为工作电极,通过聚苯胺（PANI）和二氧化铈（CeO₂）的电化学共沉积,制备了PANI/CeO₂复合膜.利用SEM,TEM和电子衍射（EDP）观测了PANI/CeO₂复合膜的形貌和结构,利用Fourier变换红外光谱（FTIR）研究了PANI/CeO₂复合膜的组成,利用循环伏安法研究了PANI/CeO₂复合膜的电化学行为.研究了电化学沉积条件对PANI/CeO₂复合膜形貌的影响.结果表明,在1.1 V（vs SCE）进行PANI与CeO₂的电化学共沉积时,由于苯胺电化学聚合和CeO₂电化学沉积过程中均释放一定量的H⁺,PANI/CeO₂复合膜以"羊角"形貌存在;而0.8 V电化学沉积的复合膜则以纳米颗粒形式存在."羊角"形的PANI/CeO₂复合膜上形成很多上部宽大、底部稍窄的懊形空间,有利于客体粒子进入复合膜深处与活性组分充分接触,提高性能.复合膜的FTIR谱上出现了PANI的典型振动吸收,循环伏安测试结果表明复合膜主要呈现PANI的电化学性能.     

特殊形貌的PANI/CeO2的电化学制备

采用恒电位法,以石墨箔为工作电极,通过聚苯胺（PANI）和二氧化铈（CeO₂）的电化学共沉积,制备了PANI/CeO₂复合膜.利用SEM,TEM和电子衍射（EDP）观测了PANI/CeO₂复合膜的形貌和结构,利用Fourier变换红外光谱（FTIR）研究了PANI/CeO₂复合膜的组成.利用循环伏安法研究了PANI/CeO₂复合膜的电化学行为.研究了电化学沉积条件对PANI/CeO₂复合膜形貌的影响.结果表明,在1.1 V（vs SCE）进行PANI与CeO₂的电化学共沉积时,由于苯胺电化学聚合和CeO₂电化学沉积过程中均释放一定量的H⁺,PANI/CeO₂复合膜以"羊角"形貌存在;而0.8 V电化学沉积的复合膜则以纳米颗粒形式存在."羊角"形的PANI/CeO₂复合膜上形成很多上部宽大、底部稍窄的楔形空间,有利于客体粒子进入复合膜深处与活性组分充分接触,提高性能.复合膜的FTIR谱上出现了PANI的典型振动吸收,循环伏安测试结果表明复合膜主要呈现PANI的电化学性能.     

超声-脉冲电沉积制备Ni-CeO2纳米复合材料

采用超声波辅助脉冲电沉积法制备Ni-CeO2纳米复合材料,用正交试验法评价了CeO2纳米颗粒添加量、平均电流密度、脉冲占空比、脉冲频率、超声波频率和功率、搅拌速率等工艺参数对复合材料中纳米颗粒共沉积量的影响,并对纳米复合材料的显微硬度和表面形貌进行了分析.结果表明,CeO2纳米颗粒添加量对复合材料中CeO2共沉积量的影响最大.利用超声波的空化效应,选取适当的脉冲电沉积工艺参数,可以获得高硬度的Ni-CeO2纳米复合材料;超声-脉冲电沉积制备的Ni-CeO2纳米复合材料晶粒细小且分布均匀.     

NiFe2O4尖晶石涂层用纳米Ni-Fe合金的电沉积制备与表征（英文）

采用直流电沉积技术在Ni基体上制备Fe含量为1%~39%(质量分数)的纳米晶FCC Ni-Fe合金涂层。利用X射线衍射技术研究Ni-Fe合金涂层的晶体结构、晶格应变、晶粒尺寸和晶格常数;利用X射线能量分散谱仪(EDS)和原子力显微镜(AFM)分析沉积层的化学成分和表面形态。结果表明,Fe含量对镍铁合金沉积层的择优取向、晶粒尺寸、晶格常数和晶格应变有较大影响。FCC Ni-Fe合金涂层的择优取向为(200)或(200)(111)。随着Fe含量的增加,(200)晶面的择优取向逐渐减弱,而(111)晶面的择优取向逐渐增强。当Fe含量为1.3%~25%(质量分数)时,Fe含量的增加使沉积层的晶粒显著细化。当Fe含量超过25%时,Fe含量的增加不再使FCC Ni-Fe合金晶粒尺寸减小。FCC Ni-Fe合金的晶格应变随Fe含量的增加而增大。由于Fe含量不低于25%的合金具有相似的晶粒尺寸(约为11 nm),所以晶格应变随Fe含量的增加不能归因于晶粒尺寸的变化。     

银金修饰TiO2纳米管阵列光阳极的制备及其光伏性质

采用阳极氧化法,以金属钛箔为原料制备了TiO2纳米管阵结构染料敏化纳米晶太阳能电池(DSSC)光阳极,并用电沉积、光沉积和真空蒸发法对其表面分别进行金属Ag和Au修饰。对金属修饰前后的光阳极用扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射分析仪(XRD)表征发现:阳极氧化法制备的TiO2纳米管阵列结构规整有序;经过化学沉积后,其表面均覆盖有一层致密的金属粒子薄膜。测量光电流密度-电压(J-V)曲线和电化学阻抗谱(EIS)发现:相比纯TiO2纳米管阵列,经过Ag修饰后的TiO2阵列其短路电流密度和开路电压最大可以分别提高到前者的4.9和1.7倍,并且其电化学阻抗出现显著降低。研究表明:金属Ag修饰改善了TiO2纳米管之间的连通性,提高了TiO2光阳极中电子的传输效率,并通过等离子共振激发出光电子,同时与TiO2相互作用,使其在可见光区域也能够促进电子-空穴对的分离。     

室温下多孔Mg（OH）2薄膜的电沉积制备及表征

以SnO2导电玻璃为阴极,使用循环伏安法及计时电流法研究0.1 mol/L硝酸镁水溶液体系中氢氧化镁的电沉积过程,并对恒电势沉积法制备的多孔Mg(OH)2薄膜的形貌、物相及光学性质进行表征。结果表明:所得Mg(OH)2薄膜呈很明显的(011)面择优取向;随着沉积电势或初始pH值的增加,Mg(OH)2二次成核的数量增加;在沉积时间固定为10 min的情况下,沉积电势为1.2、1.3和1.4 V的薄膜在可见光范围内(390~780 nm)的平均透过率依次为90.21%、69.39%和47.12%。     

pH值对CeO2/SiO2纳米复合磨粒分散性的影响

以胶体SiO₂溶液作硅源,采用均相沉淀工艺制备壳-核结构完整的CeO₂/SiO₂纳米复合磨粒。采用X射线衍射仪和透射电子显微镜对复合磨粒样品进行物相组成分析和微观形貌观察;通过粒径分布、Zeta电位分析,研究水相分散系中pH值对CeO₂/SiO₂复合磨粒分散性的影响。结果表明:所制备的CeO₂/SiO₂复合磨粒为壳-核包覆结构完整的纳米微球,粒径约110 nm,内核为无定形SiO₂,壳层为立方萤石型CeO₂;CeO₂/SiO₂复合磨粒的等电位点pH值约为5,其值由SiO₂等电位点向CeO₂等电位点明显偏移。CeO₂/SiO₂复合磨粒在酸性水相介质中分散性差,容易出现严重的团聚现象;而在碱性环境下,CeO₂/SiO₂复合磨粒分散性良好。      

纳米结构黑镍薄膜的电沉积制备及其电化学行为

采用电沉积方法制备具有整体纳米结构的黑镍镀层,并通过肉眼观察结合扫描电镜、X射线衍射等测试技术研究电沉积过程中的主要参数(电解液pH、搅拌速度、制备温度及电流密度)对镀层颜色及整体微观结构的影响。进一步采用动电位极化及电化学阻抗等电化学测量技术研究黑镍镀层在中性3.5%NaCl溶液中的腐蚀行为及腐蚀机理。结果表明：黑镍镀层的颜色变化趋势决定于电沉积制备参数的选择;通过优化本工艺制备的黑镍镀层平均粒径约为50 nm。对比了近似条件下制备的光亮镍镀层,发现黑镍镀层在耐蚀性方面具有较大优势。     

TiB2涂层熔盐电沉积制备与表征

炭阴极在铝电解槽中受熔盐和铝液腐蚀而影响寿命,而TiB₂涂层是铝电解槽理想的阴极材料。本文以石墨为基体,在KF-KCl-K₂TiF₆-KBF₄熔盐中以0.4-0.7A.cm_-2^{电流密度、}700-800℃温度电沉积TiB₂涂层,通过XRD衍射仪、SEM-EDS、表面粗糙度测量仪及附着力测试仪对不同电流密度和温度下制备的涂层进行表征。结果表明：在石墨基体上可以得到均匀连贯的TiB₂涂层;增大电流密度、降低电解温度可以细化涂层晶粒,提高涂层致密性;在0.6 A.cm_-²、750℃最优电沉积条件下制得的TiB₂涂层的厚度为229 μm,择优取向为<110>,表面粗糙度为14.85 μm,涂层与石墨基体的结合力为6.39 MPa。     

Sm,Nd共掺CeO2纳米纤维电解质的制备与性能

利用静电纺丝技术制备了Sm2O3和Nd2O3共掺CeO2纳米纤维固体电解质,通过XRD、TEM和SEM等仪器对其物相和微观结构进行了表征,并利用电化学工作站测量了不同煅烧温度纳米纤维的电导率。实验结果表明不同煅烧温度下的纳米纤维均呈现立方萤石结构,400oC煅烧获得的纳米纤维电解质平均直径为402nm,晶粒尺寸约为5nm,并且其电导率最高。     

PREPARATION AND STRVCTURAL EVOLUTION OF TiO_2 THIN FILMS BY LOW PRESSURE MOCVD

1. IntroductionTitanium dioxide (TiO2) films are widely used for electrical and optical applications because of its high dielectric constant, its chemical stability and its high refractive i.de.[1--2].Tioz thin films can be prepared by various thin film deposition techniquesl3--8]. Amongthese techniques, chemical vapor deposition (CVD) is considered as a useful method to deposit high quality thin films with large area uniformity and well--controlled stoichiometry.Crystalline TiOZ exists th…     

PREPARATION OF TEM THIN FOIL CONTAINING POWDER PARTICLE BY ELECTRODEPOSITION METHOD

A practical technique to prepare transmission electron microscopy （TEM） thin foil containing powder particle was described and the data for the codeposition of two type particles with copper in the electroplating were presented. By depositing the particles which were distributed in CuSO4 electrolyte on cathode together with Cu^2＋ in electrodeposition bath, composite coating with suitable thickness could be formed. The thin coating was separated from the substrate and cut into a disc with diameter of 3mm for electropolishing. When the Cu matrix was thinned during electropolishing, the particles contained in the coating plate were also thinned to meet the suitable thickness for TEM observation. Various experimental results revealed that during electrodepositing the current density, pH-value of electrolyte and stirring mode all have significant effects on the distribution of particles in composite coating and the surface quality of the composite coating. The proper parameters used during electrodepositing to prepare TEM thin foil containing powder particle were discussed.     

PREPARATION AND SURFACE CHARACTERIZATION OF TiO_2 THIN FILMS ON GLASS BY MAGNETRON SPUTTERING METHOD

1. IntroductionTiOz thin films have excellent properties sucl1 as l1igh ref1actitre il1dex, outstal1diugoptical tra11sl11ittallce, high dielectric constant and physical chemical stabilityll'2]. Recently',the TiO2 thi1l films have drawn more attel1tions oll photocatalysis, optical coating, al1dsolar cell fab.ication[3'4l. In this work we deposited Ti thin film on glass substrate b}-nlagl1etroll sputterillg lllethod and allllealing Ti tl1in fi1l11 to fOrlll TiO2 tl1ill fi1m.2. ExperimelltalT…     

恒电流电沉积法制备Cu-In薄膜

以金属Ti为阳极，不锈钢薄片和镀Mo玻璃为阴极，采用恒电流电沉积的方法制备了化学计量比为1：1、厚度为1μm且致密均匀的CU—In薄膜．分析了镀液离子浓度、电流密度、络合剂含量及添加剂种类对薄膜成分及形貌的影响．在除电流密度外其它工艺条件相同的情况下，采用不同阴极材料为衬底沉积Cu—In薄膜时，薄膜形貌、成分无差别，且电流密度对薄膜的形貌和成分控制起着关键的作用．此外，在镀液离子低浓度范围内，及Cu／In离子浓度比不变的前提下，镀液中金属离子总浓度的改变不会影响镀层的成分和形貌；十二烷基硫酸钠和苯亚磺酸钠可作为理想的辅助添加剂，能改善薄膜形貌，使其表面均匀、规整．由该方法制备的CU—In预置膜可以进一步硒化得到理想的CuInSe2薄膜．     

PREPARATION OF NANO-CRYSTALLINE Fe-Cu THIN FILMS AND THEIR MAGNETIC PROPERTIES

Fe-Cu thin films of 0.2μm in thickness with different Cu contents were prepared by using r.f. magnetron sputtering onto glass substrate. The effect of sputtering param-eters, including Ar gas pressure and input rf power, on the structure and magnetic properties was investigated. It was found that when the power is lower than 70 W, the structure of the films remained single bcc-Fe phase with Cu solubility of up to 50at.%. TEM observations for the bcc-Fe phase showed that the grain size was in the nanometer range of less than 20nm. The coercivity of Fe-Cu films was largely affected by not only Ar gas pressure but also rf power, and reached about 2.5Oe in the pressure of 0.67-6.67Pa and in the power of less than WOW. In addition, saturation magnetization, with Cu content less than 60at. %, was about proportional to the con-tent of bcc-Fe. When Cu content was at 60at.%, however, saturation magnetization was much smaller than its calculation value.     

低频机械谱术测量薄膜切变模量及微量油膜探测

描述了工作在共振和次共振模式下的低频机械波谱仪的基本原理．主要介绍了研究金属衬底上薄膜的物理性质的两种方法：第一种方法，用于测量沉积在钼丝上的TiN／Ti(C，N)多层膜的切变模量和内耗；第二种方法，用于探测钢片表面微量油膜的存在．尽管这两种技术有着各自不同的应用目的及对象，但它们均源自能够导致机械能损耗的表面效应。     

离子束辅助沉积合成B—N薄膜的分析

用离子束辅助沉积(IBAD)技术合成氮化硼薄膜,红外吸收谱和透射电镜的观测结果显示,薄膜含有c—BN和h—BN相薄膜Knoop硬度值高达35GPa。逐层剥离的AES谱结果表明,薄膜表面存在氮离子的注入效应,薄膜由注入层、成分均匀层和离子束混合过渡层组成     

PREPARATION OF B-N FILMS BY ION BEAM ASSISTED DEPOSITION

BN films,synthesized by ion beam assisted deposition,were analysed by RBS,AES,IR spectra and TEM.Formatiom of c-BN phase was shown not only by IR spectra atabsorption peak of 1100 cm~(-1),but also by electron diffraction pattern.The results ofAES demonstrate an effect of N~+ implantation near the film surface.The deposited filmsconsist of three layers,i.e.,ion implantation layer,film layer and mixed intermediatelayer,according to the difference of concentration.The micro-Knoop hardness of the film is25—35 GPa.     

纳米晶FeCoNi软磁薄膜的制备及其耐蚀性能的研究

采用循环伏安(CV)法以酸性硫酸盐溶液为基础液,在不同的电沉积工艺条件下制备纳米晶FeCoNi软磁薄膜,并结合SEM、EDX以及Tafel极化等测试方法研究FeCoNi纳米晶薄膜的微观结构、组成及耐蚀性等相关性能.结果表明:在-0.39——1.19 V(SCE)的电位区间为,可获得致密、均匀且耐蚀性较好的纳米晶FeCoNi合金结构.     

铝阳极氧化膜绿色封闭工艺

探索了新的不含有害物质的铝合金阳极氧化膜绿色封闭技术;新方法使用了铈盐化学处理和钼盐溶液电化学处理相结合的工艺。对比了不同封闭方法对L3铝合金阳极氧化膜在NaCl溶液中耐蚀性的影响,包括氟化镍封闭,重铬酸钾封闭和铈-钼盐封闭。利用动电位极化法研究了封闭后阳极氧化膜的腐蚀行为。利用扫描电子显微镜(SEM)观察了封闭后阳极氧化膜的表面形貌和成分。结果表明铈-钼盐封闭工艺可以为铝合金阳极氧化膜在NaCl溶液中提供较高的耐蚀性。