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 利用双向脉冲复合电沉积技术制备Ni/Al₂O₃复合镀层，并用X射线衍射（XRD）、扫描电镜/能谱（SEM/EDS）及性能测试等方法研究了复合镀层的组织与硬度。结果表明：采用双向脉冲电沉积技术可获得结晶细密且表面光滑平整的Ni/Al₂O₃复合镀层。在本试验范围内，镀层的硬度随着Al₂O₃含量的增加而升高。     

Al2O3/有机硅/SiO2杂化涂层电化学阻抗谱研究

以正硅酸乙酯 (TEOS)、甲基三乙氧基硅烷 (MTES)、二苯基二甲氧基硅烷 (DDS) 和仲丁醇铝 (ASB) 为主要原料,采用溶胶-凝胶法得到Al₂O₃/有机硅/SiO₂杂化溶胶,经100 ℃下固化12 h后得到Al₂O₃/有机硅/SiO₂杂化涂层。红外光谱研究表明,杂化涂层中形成了Al—O—Si键。采用电化学阻抗 (EIS) 研究杂化涂层在3.5%NaCl溶液中浸泡不同时间的阻抗行为,根据阻抗谱特征建立了等效电路图,结合等效电路图和拟合结果分析了杂化涂层在3.5%NaCl溶液中浸泡不同时间的耐蚀性。结果表明,其在3.5%NaCl溶液中具有良好的耐蚀性。     

化学溶液沉积（CSD）法制备YBCO/Y2O3/YBCO薄膜

以Y2O3纳米颗粒伪层作中间层,用CSD法制备夹层结构的YBCO/Y2O3/YBCO薄膜。薄膜表面光滑致密,没有裂纹和空洞。XRD分析表明,YBCO/Y2O3/YBCO薄膜具有较强的c轴取向,其超导转变温度为92K,在60K零场下其临界电流密度达到6.9MA/cm2,表明YBCO/Y2O3/YBCO薄膜具有优良的超导性能。     

等离子喷涂WC-20Cr3C2-7Ni/8YSZ复合涂层的组织及摩擦学性能

为提高连铸机拉矫辊的服役寿命,通过等离子喷涂技术在模具钢H13表面制备不同质量比的WC-20Cr₃C₂-7Ni+8YSZ复合涂层,分析各涂层的微区组织、显微硬度、抗划伤性、耐磨性和磨损形式。结果表明,在WC-20Cr₃C₂-7Ni粉末中分别加入30wt%、50wt%的8YSZ,其复合涂层的致密性明显提高,且涂层晶粒明显得到细化;WC-20Cr₃C₂-7Ni涂层中出现WC_1-x与W相,且随着8YSZ的添加WC相的结晶强度变弱;WC-20Cr₃C₂-7Ni+30wt%8YSZ涂层平均硬度(1172 HV0.2)相对于WC-20Cr₃C₂-7Ni涂层(1152 HV0.2)并没有明显变化,WC-20Cr₃C₂-7Ni+50wt%8YSZ涂层硬度(1052 HV0.2)相对于WC-20Cr₃...     

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 文章对蜡源方波材料NbSe2晶体的制备及其电学特性进行综述，介绍了利用化学气相输运法制备NbSe2晶体。测试出NbSe2晶体的临界温度为7.2K，30 K附近发生CDW转变，出现了CDW和超导电性共存的现象，通过分析 NbSe2晶体的ρ T曲线和NbSe2晶体的XRD图谱，讨论了低温下NbSe2晶体的重入现象。     

添加剂La(CH3COO)3和NaF对AZ31在Mg(ClO4)2溶液中电化学性能的影响

采用极化曲线、电化学阻抗、恒电流放电、析氢失重等方法,研究了AZ31镁合金在空白1.5 mol/L Mg(ClO₄)₂溶液以及添加了La（CH₃COO）₃和NaF的电解液中的电化学行为。结果表明,添加剂NaF使得AZ31在1.5 mol/L Mg(ClO₄)₂溶液中开路电位和活化电位负移,极化曲线中腐蚀电流降低以及浸泡实验中析氢率和失重率降低,放电效率提高,更为重要的是缩短了放电滞后时间;另一方面添加剂La（CH₃COO）₃提高了放电效率,但对于放电滞后没有改善,对于耐蚀性也没有提高。     

In2O3对Ni60激光熔覆层的影响

向Ni60合金粉末中加入适量的In2O3选取合适的工艺参数，采用激光熔覆技术在45钢表面上获得了无裂纹的高质量熔覆层。对熔覆层显微组织进行了观察和分析，测试了熔覆层的显微硬度和摩擦磨损性能。结果表明，同未加入In2O3的Ni60激光熔覆层相比，加入适当比例In2O3的Ni60熔覆层，虽然硬度有所降低，但硬度分布更加均匀，且在该文摩擦条件下耐磨性提高。In2O3能够降低Ni60激光熔覆层裂纹敏感性的原因在于适量的In2O3能够抑制粗大块状硬质相的生长，改善枝晶分布，细化组织晶粒，提高涂层韧性。     

Ni/Y2O3纳米复合刷镀层组织及性能研究

应用电刷镀技术制备了Ni/Y2O3纳米复合刷镀层,采用扫描电镜、能谱仪、显微硬度计对镀层的组织形貌、成分、硬度进行测定和分析。结果表明:镀层中纳米Y2O3颗粒分布均匀;复合镀层与基体结合紧密;随着镀液中纳米颗粒含量的增加,镀层形貌变得细密、均匀,硬度不断提高,当纳米Y2O3颗粒含量为15g/L时,镀层形貌最为平整致密,硬度达到峰值(6017MPa)。当纳米Y2O3颗粒含量大于15g/L时,随纳米颗粒含量的增加,镀层组织变得粗大,硬度逐渐降低。     

激光熔覆纳米Sm2O3颗粒增强Ni基合金涂层

利用5 kWCO2激光器,在Q235低碳钢表面熔覆微米或纳米Sm2O3/Ni基合金复合材料,制备了涂层.利用光学显微镜、扫描电镜和X射线衍射仪,比较分析了熔覆层的组织及相结构,利用显微硬度计和MM 200型环-块滑动磨损机检测了熔覆层的硬度和耐磨性.结果表明,熔覆层的主要相为γ-Ni和Cr23C6,且出现了Fe7Sm,Ni3Si和Ni3B;加入稀土氧化物熔覆层的冶金结合区白亮带变窄;加入纳米Sm2O3不仅细化了熔覆层的组织,而且形成了大量的等轴晶;加纳米Sm2O3比微米Sm2O3的熔覆层的显微硬度和相对耐磨性大幅度提高,磨损机理由磨粒磨损和黏着磨损转变为微动磨损.     

燃烧法制备SOFC用Ni/YSZ阳极材料

以Y(NO3)3、Zr(NO3)4、Ni(NO3)2和有机燃料为原料,采用低温燃烧法制备了NiO/YSZ复合粉料,然后于800℃在H2中还原制备了Ni/YSZ阳极材料.研究了燃烧合成过程中氧化物与有机燃料的配比对反应产物的影响.结果表明当氧化物与燃料的比例为23时,低温燃烧后可成功合成结晶充分的NiO/YSZ粉体.对合成粉体的SEM、TEM观察以及制备的Ni/YSZ阳极材料的SEM观察结果表明,低温燃烧合成的NiO/YSZ粉体细小且两相混合均匀,颗粒粒径为0.5 μm～1 μm.与机械混合法相比,采用燃烧法合成粉体,干压成型制备的Ni/YSZ阳极材料,不仅Ni在YSZ基质中分布更均匀,而且金属陶瓷中的两相均形成了连续的网络结构.     

Sb2O3/CeO2共掺杂ZnO薄膜的研究

采用射频磁控溅射技术制备Sb2O3/CeO2共掺杂ZnO薄膜,研究了薄膜的结构及紫外光吸收性能.结果表明:Sb2O3和CeO2共同掺入ZnO薄膜后,ZnO(002)晶面的XRD衍射峰强度明显下降,ZnO薄膜呈混晶方式生长;共掺杂ZnO薄膜的紫外吸收性能明显优于纯ZnO薄膜,Sb对掺杂ZnO薄膜的结构和紫外吸收性能的影响...     

Epitaxial Growth of YBCO Thin Films on LaAlO_3 Substrate with CeO_2 Buffer Layer

ＥｐｉｔａｘｉａｌＧｒｏｗｔｈｏｆＹＢＣＯＴｈｉｎＦｉｌｍｓｏｎＬａＡｌＯ＿３ＳｕｂｓｔｒａｔｅｗｉｔｈＣｅＯ＿２ＢｕｆｆｅｒＬａｙｅｒＭａＰｉｎｇ，ＹａｎｇＪｉａｎ，ＧｕＨｏｎｇｗｅｉ，ＣｈｅｎＬａｎｆｅｎｇａｎｄＣｈａｎｇＳｈｉａｎ（马平）（杨坚...     

空心微球表面化学镀Ni薄膜的工艺研究

比较空心微球表面化学镀Ni薄膜的工艺。分别以Sn-Pd胶体溶液和[Ag（NH3）2]^＋溶液作为活化剂，将空心微球表面进行活化，再采用化学镀的方法分别在其上淀积金属Ni薄膜。使用扫描电子显微镜（SEM）、能量色散光谱（EDS）和X-射线衍射光谱（XRD）对两种工艺所镀Ni薄膜的表面微观结构和组分进行表征。结果表明：用Sn—Pd胶体溶液活化后的空心微球表面淀积了均匀、致密的金属Ni薄膜，该薄膜是由大小约100nm的颗粒组成；而以[Ag（NH3）2]^＋溶液活化后的空心微球表面淀积的金属Ni薄膜，是由大小约1μm的颗粒组成。并分析了这两种镀层形成的机理。     

纳米V2O5薄膜的制备与特性

采用溶胶.凝胶法在Si和普通玻璃基底上制备V2O5纳米薄膜.在空气中对样品进行不同温度的退火处理.利用X射线衍射、扫描电子显微镜和分光光度计对制备的V2O5薄膜的结构、形貌和光学特性进行研究.XRD和SEM研究结果表明:可以通过升高退火温度来提高薄膜的结晶程度、颗粒尺寸及其均匀程度,并增强V2O5的择优取向性.透射谱和吸收谱的研究结果表明:随着退火温度的升高,V2O5薄膜的吸收边缘发生红移,光学带隙逐渐变窄.     

Microstructures of YBCO Thin Film Deposited on LaAlO_3 Substrate

ＭｉｃｒｏｓｔｒｕｃｔｕｒｅｓｏｆＹＢＣＯＴｈｉｎＦｉｌｍＤｅｐｏｓｉｔｅｄｏｎＬａＡｌＯ＿３ＳｕｂｓｔｒａｔｅＷａｎｇＲｕｉｋｕｎ；ＷａｎｇＸｉａｏｐｉｎｇ；ＹａｎｇＢｉｎｇｃｈｕａｎ，（王瑞坤）（王小平）（扬秉川）ＬｉｕＡｎｓｈｅｎｇａｎｄＹｕａ...     

无氟MOD法制备DyBa2Cu3O7-x膜的高温热处理过程研究

采用无氟金属有机物沉积法(MOD)在(00l)取向的LaAlO3单晶基底上制备出DyBa2Cu3O7-x(DyBCO)超导薄膜。由于采用了无氟金属有机物体系,分解过程中避免了采用传统的三氟醋酸盐时有害气体的产生。SEM分析表明,成相过程中增加高温热处理过程,可以明显提高外延生长薄膜的质量。X射线衍射(XRD)分析及φ扫描的结果表明,经过高温处理的DyBCO薄膜具有良好的面内外织构。本研究制备的DyBCO薄膜的超导转变温度达92K,77K自场下的临界电流密度达到1.8MA/cm2。     

衬底温度对CVD金刚石薄膜织构的影响

利用扫描电镜观察了CVD自支撑金刚石薄膜的表面形貌组织,利用X射线衍射技术检测了薄膜织构。研究表明,不同衬底温度条件下制备的金刚石薄膜形成不同的织构和表面形貌组织,衬底温度升高使生长速率参数α减小,金刚石晶体最快生长晶向由〈100〉晶向向〈011〉和〈111〉晶向转变,使得薄膜中{011}和{111}织构随温度提高不断...     

Effect of Substrate Temperature on Electroluminescence of SrS:HoF3 Thin Film

The SrS:HoF3 Electroluminescent (EL) thin films are prepared at the different substrate temperature by electron beam evaporation. The crystallinity and EL characteristics of the samples are analyzed. It is found that the main diffraction peak is (200) at the higher substrate temperature and the main diffraction peak is (111) at the lower substrate temperature. The blue emission intensity and EL brightness of the SrS∶HoF3 thin films increase with the increase of the substrate temperature. Annealing the samples can change the cyrstal phase and strengthen the blue emission of EL thin film.     

磁控溅射制备LiNi0.8Co0.1Mn0.1O2薄膜工艺研究

目的 探究了磁控溅射法制备符合化学计量比且循环性能良好的LiNi0.8Co0.1Mn0.1O2(NCM811)薄膜工艺,有利于进一步提高全固态薄膜电池能量密度。方法 从溅射功率、氩氧比、衬底温度中各选取3个水平组成L9(3⁴)正交试验,在不锈钢衬底上沉积制备NCM811薄膜。利用X射线衍射仪和扫描电子显微镜对薄膜进行表征。利用EDS和ICP对薄膜成分进行分析。利用蓝电测试系统对以NCM811为正极的电池进行循环曲线测试。结果 根据极差分析结果发现,影响前50圈放电容量保持率的因素从大到小依次为:温度>功率>氩氧比。其中功率和温度对循环性能有很大的影响,极差R值分别为18.45和26.79;氩氧比对循环性能影响较小,极差R值为3.17。增大溅射功率、提高衬底加热温度、增加氩氧比中氩气的含量有利于制备出符合化学计量比的NCM811薄膜。随着溅射功率的提升,NCM811薄膜的结晶度增强,材料中Ni²⁺/Li⁺阳离子的混排程度降低;随着衬底温度升高,薄膜由非晶逐渐转化为晶态,表面由无序非晶形貌过渡到小三角片状晶粒,厚度变薄,且更加致密。薄膜的循环性能也随着功率和衬底温度的增加有着明显的提升。结论 正交试验结果表明,薄膜制备的最优工艺条件为:溅射功率110 W,衬底温度650 ℃,Ar∶O2=2∶1(体积流量比),验证试验表明NCM811薄膜中主元素原子数占比Ni∶Co∶Mn=79.9∶10.2∶9.9,接近理想原子数占比8∶1∶1,且前50圈放电容量保持率达到72.33%。     

脉冲激光沉积La1／3（Ca2／3Sr1／3）2／3MnO3薄膜结构及输运特性的研究

采用PLD法在LaAlO3（012）单晶衬底上外延生长了高、双掺杂La1/3（Ca2，3Sr1/3）2，3MnO3（LCSMO）薄膜。薄膜的x射线衍射谱表明，薄膜具有铫钛矿赝立方结构，且具有（012）方向的择优取向：用原子力显微镜对薄膜的表面形貌进行了分析，发现薄膜表面相对比较平坦；在密封的液氮杜瓦瓶里用四探针法对薄膜的输运特性进行了测试，电阻一温度试验曲线表明，在温度77K～400K的范围内薄膜呈现类半导体特性，没有金属一绝缘体转变温度（TM1）出现；薄膜的红外透射谱在606cm。处宵一个很强的吸收峰，由红外透射谱计算出光学能隙氏。。大约为0．7eV，薄膜的光学折射率为1．373。分析认为LCSMO薄膜的类半导体特性是由于A离子半径变化引起晶格畸变造成的。