TFT-LCD关机横纹缺陷分析(英文)

利用输出信号波形及偏压测试方法对TFT-LCD产品关机过程中发生的横纹不良进行了分析。分析结果表明,不良与像素电极放电效率相关。在此基础上提出了两种改善方法:一是通过改善TFT特性提高电极充放电能力;二是通过添加reset驱动电路实现像素电极同时放电。试验结果表明,放电效率的提升对于改善横纹缺陷效果明显,其中后者可完全消除不良现象。     

TFT-LCD取向层表面的针孔缺陷分析(英文)

在TFT-LCD的生产过程中,取向层表面针孔缺陷是造成产品不良的常见原因。应用聚焦离子束(FIB)、扫描电子显微镜(SEM)和光学测量系统(OMS)工具,并结合数据统计软件Business Objects(BO)对实际生产过程中的一种典型产品不良——黑点,进行了测试和分析。结果表明,取向层表面针孔缺陷是产生黑点不良的根本原因。在此基础上,进一步通过理论分析和实验研究证明,成膜过程中膜液的流体力学不稳定性是导致取向层表面针孔缺陷的重要原因,而固化时间则是影响流体力学不稳定性的重要参数。膜液流体力学不稳定性的充分发展并最终对膜结构产生影响需要一定时间,当固化时间接近甚至小于不稳定性充分发展的时间时,取向层表面产生针孔缺陷的机会将大大减小甚至消除。     

TFT栅线及阵列的缺陷分析

对ＴＦＴ（ＴｈｉｎＦｉｌｍＴｒａｎｓｉｓｔｏｒ）的栅线及阵列缺陷的表现及成因进行了分析。在实际工艺过程中避免这些缺陷有利于提高器件成品率，改善显示质量     

TFT-LCD阵列穿透率提升的研究

提高薄膜晶体管液晶显示器阵列基板的光利用效率的主要方法是提高开口率和穿透率。文章制作了低温多晶硅阵列穿透区多层膜,考察膜层以及结构对穿透率的影响,研究阵列光线穿透率提升的方法。结果表明,层间介质层（ILD）完成后不同折射率膜层接口对穿透率影响较大,平坦层（PL）的厚度对穿透率没有明显影响,导电膜氧化铟锡（ITO）厚度增加,穿透率下降。通过在阵列穿透区减少膜层数量和改变膜层组分,减少折射率差异较大的界面,可增加穿透率7%左右。     

BGA焊点的缺陷分析与工艺改进

结合实际工作中的一些体会和经验，就BGA焊点的接收标准，缺陷表现及可靠性等问题展开论述，特别对有争议的一种缺陷-空间进行较为详细透彻的分析，并提出了一些BGA焊点质量的工敢改进的建议。     

球栅阵列器件焊接合格率预测及缺陷分析

应用数理统计结合工艺设计、制造工艺控制参数等因素及Surface Evolver软件仿真技术的方法,建立球栅阵列(BGA)器件焊接合格率的预测模型,运用该模型可以找出影响焊接合格率的制约因素。结合仿真技术模拟焊点形态,可以找出造成焊点缺陷时各参数之间的关系并提出相应的解决方案,从而优化工艺设计及制造工艺控制参数。     

TFT-LCD面板缺陷检测方法综述

TFT-LCD面板缺陷边界模糊、与背景对比度低、检测速度慢等问题一直是该领域缺陷检测的难点。首先介绍TFT-LCD结构及缺陷的定义与分类,在分析缺陷的成因和特点基础上,对TFT-LCD面板缺陷检测方法进行综述。详细分析了TFT-LCD面板缺陷图像识别法中的图像降维技术、缺陷特征提取和缺陷分类器识别等关键技术和图像处理法中的边界模糊缺陷分割法、差影法和滤波法,归纳总结各类缺陷检测方法的特点及优势,并指出TFT-LCD面板缺陷检测未来的研究方向。     

TFT-LCD表面缺陷检测方法综述

对TFT-LCD表面缺陷的检测方法做了综述.首先介绍了TFT-LCD表面缺陷的种类,分析了缺陷的特点和成因,然后介绍了缺陷检测方法:图像识别法和图像处理法.在图像识别法中,详细分析了缺陷图像降维、缺陷特征提取和分类器设计等关键技术.在图像处理法中,探讨了边界模糊缺陷分割法、差影法和滤波法.最后归纳总结了各种检测方法的优点和不足,并指出了TFT-LCD表面缺陷检测的未来研究方向.     

TFT用掩模版与TFT-LCD阵列工艺

薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)产业经过20年的发展,其规模已经远远超出10年前的预想,技术发展也呈现出加速进步的趋势.各种新一代光刻技术的出现显著提升了掩模版的制作精度,对其市场价格也造成了不小的冲击.在TFT-LCD阵列基板制造方面,4掩模版光刻工艺技术逐渐成为当今主流,而3掩模版光刻工艺因其技术难度大、良品率低,目前还掌握在少数几家TFT-LCD厂商手中.通过对掩模版的国内外市场行情、技术进展以及掩模版数目与TFT-LCD阵列工艺的关系作全面的阐述,指出加强TFT-LCD掩模版等配套材料的自主研发、采用更加先进的制造技术是简化生产工艺、降低生产成本的有效手段,也是我国TFT-LCD产业下一步努力发展的方向.     

TFT-LCD屏缺陷检测的研究

分析了国外目前常用几种薄膜晶体管(TFT)有源矩阵液晶显示（AM-LCD)屏的缺陷检测方法的优缺点。深入研究了TFT-LCD屏的结构、缺陷产生的原因和概率．设计了一种能全面、直观地进行TFT-LCD缺陷检测的方法，该方法不仅能检测出TFT-LCD中各种常见的新短路等硬性缺陷并确定其具体位置．而且能根据TFT-LCD屏质量要求对软性缺陷进行判定。     

基于ASTLC5301A的TFT LCD栅驱动芯片研究

分析薄膜晶体管液晶显示（TFT-LCD）栅驱动芯片ASTLC5301A的原理，借助Pspice仿真工具进行驱动电路的设计，重点讨论芯片内部高低电平位移转换电路，提出改进型电平接口电路．完成高低压驱动管的尺寸和结构设计。     

TFT LCD常见点缺陷的检测与修复

TFT—LCD在制程中会产生亮点、暗点、闪点、碎亮点等常见点缺陷。说明了检测点缺陷的装置、方法和过程。采用ITO隔离、激光炸射等方法对点缺陷进行修复或者淡化,其中ITO隔离法修复或淡化效果显著。修复成功率从45％提升到80％。     

AM－LCD用TFT有源矩阵的性能研究

ＴＦＴ有源矩阵赋予ＡＭ－ＬＣＤ以所有平板显示器（ＦＰＤ）的最佳性能，使其性能已能够等于或好于最为流行的ＣＲＴ显示器件。本文讨论了ＴＦＴ有源矩阵的性能，描述了在像素电极上充电或放电的电压精度要求，介绍了ＴＦＴ－ＬＣＤ的最新进展。     

第五代TFT-LCD生产线的工艺设备和材料

TFT-LCD是当前平板显示器(FPD)的主流显示器.从整个产业链上对第五代TFT-LCD生产线的工艺、设备、材料及发展趋势作一概要的介绍,为大家初步了解第五代TFT-LCD生产线提供参考.     

基于ASTLC5301A的TFTLCD栅驱动芯片研究

分析薄膜晶体管液晶显示(TFT-LCD)栅驱动芯片ASTLC5301A的原理,借助Pspice仿真工具进行驱动电路的设计,重点讨论芯片内部高低电平位移转换电路,提出改进型电平接口电路,完成高低压驱动管的尺寸和结构设计。     

基于Intel PXA255的TFT-LCD驱动设计

介绍了PXA255的LCD控制器以及CJM10C0101LCD模块的信号时序要求,并结合二者的特点,设计了基于PXA255的CJM10C0101液晶模块的硬件驱动电路和Linux下的驱动程序,在LCD上能显示清晰稳定的静态画面。该设计在嵌入式设备中对于驱动LCD模块具有通用性,Linux下的驱动程序具有很强的移植性,可应用于不同的开发系统。     

液晶显示器用有机高分子材料的老化与评价方法研究

通过对液晶显示器用有机高分子材料的老化机理分析,研究了胶带和胶黏剂分别在材料贮存期间和使用期间的主要应力及其薄弱环节。提出了在有机高分子材料不同的使用阶段相应的老化试验方案和失效评价指标,并给出了相应的试验验证过程,为液晶显示器用有机高分子材料的寿命评估提供了支持。     

液晶显示器面板探针检测过程及噪音解决对策

薄膜晶体管液晶显示器在生产过程中产生的绝大多数电气性及目视性不良产生在阵列和面板工序。模块组立封装所需辅材价格高昂,因而面板制成后。模块组立前的面板探针检测的准确性显得尤为重要。成盒探针检测时,输入信号经常受到噪音干扰,而造成检测画面模糊,变色．出现波浪线等异常情况,严重影响检测效果及准确性,甚至造成无法正常驱动。针对薄膜晶体管液晶显示器生产实际情况,详细说明了液晶探针检测的检测机理和工作流程。重点分析了不同频率驱动条件下的块状闪烁噪音的发生特点,产生基理,及改善方法。     

不同狭缝与遮挡条设计对TFT特性的影响与规律(英文)

通过对掩膜版上不同狭缝与遮挡条设计与TFT沟道形貌、电学特性相互关系的分析,发现随着狭缝与遮挡尺寸的减小,TFT的电学特性、沟道处光刻胶起伏与最终关键尺寸偏移量都会改善。狭缝的尺寸比遮挡条的尺寸对TFT特性的影响更加显著。考虑到沟道转角处的短路几率问题,小的狭缝与遮挡条尺寸设计更加适合于四次掩膜光刻工艺,转角处的缺陷可以通过调整遮挡条的尺寸来避免。