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相似文献
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1.
激光物理气相沉积Al_2O_3薄膜   总被引:1,自引:0,他引:1  
介绍了激光物理气相沉积设备的研制及利用所研制的设备和CO2气体激光器在Ni与SiO2基片上沉积Al2O3薄膜的方法.探索了激光物理气相沉积Al2O3薄膜的工艺,分析了Al2O3膜层的结构并初步测试了膜层的绝缘性、高温抗氧化性及耐腐蚀性.  相似文献   

2.
本文详细地介绍了黄铜熔盐电解沉积铝工艺研究情况,深入地讨论了黄铜熔盐电解沉积铝各工艺参数对沉积铝层表面质量和电流效率的影响。  相似文献   

3.
利用Raman光谱并对谱带进行高斯线型拟合,研究了CaO/SiO2=1/2玻璃中引入3、6、9mol%的Al2O3后结构单元Qn分布的变化。发现链状结构单元丰度减小,层状结构单元增多,而三维网络结构单元的丰度基本不变。根据这个结果解释了Al2O3对玻璃分相和析晶的抑制作用。  相似文献   

4.
将二氧化硅分子等价成一个原子,以其等价原子序数和原子量为主要参量建立了一个系统的能量沉积计算体系,仿真计算了0.1~1 MeV平行平面电子束垂直辐照二氧化硅时的能量沉积.因计算需要定义了2个新函数Q(z)和W(z),分别用来描述电子能量和数量传输系数的变化快慢,对其的仿真结果可直观地描述电子在二氧化硅中的沉积规律.该研究结果可为研究电子辐照二氧化硅时的最佳能量选择提供参考.  相似文献   

5.
本文对si_3N_4-MgAl_2O_4-Al_2O_3系复合材料的无压烧结进行了研究。讨论了A1_2O_3含量对材料性能的影响及烧结工艺对材料性能和显微结构的相互关系。实验表明:两段法烧结可以得到性能良好的Si_3N_4-MgAl_2O_4-Al_2O_3复合材料  相似文献   

6.
用化学气相沉积方法,研究了沉积到C-6硬质合金基体上的Ti C,Ti C/Ti CN/Ti N,Ti C/Al2O3和Ti C/Al2O3/Ti N涂层的显微结构和磨损特性。涂层后硬质合金的高温化学稳定性、抗氧化性能、硬度和切削性能明显提高,Al2O3的加入进一步提高了CVD多层涂层硬质合金的抗氧化性能、硬度和切削性能、隔热和阻碍氧扩散的作用;通过提高涂层硬质合金的抗氧化性能和硬度能提高涂层硬质合金的切削性能。同时也研究了Ti C/Al2O3涂层厚度与磨损以及温度之间的关系。  相似文献   

7.
采用TPD法在排除了再吸附现象的条件下,研究了F含量对Ni-W/F-Al2O3—SiO2催化剂酸性的影响,并将测定结果与Hammett指示剂法测定结果进行了关联,结果表明,F对该催化剂两种不同强度的酸性中心具有不同程度的影响,F含量的变化对催化剂弱酸中心的酸强度和酸浓度无显著的影响,而对催化剂强酸中心的影响较大,当F含量为1.5%左右时其酸度具有极大值,且随着F含量的增加,强酸中心的酸强度逐渐增强。  相似文献   

8.
用稳态极化法研究了Cu—Ni合金阴极在对氨基苯酚(PAP)电解过程中的有关性能。研究表明,在PAP电合成体系中,不同Cu/Ni比的合金阴极具有不同的交换电流密度i°,且随着镀液中Cu(Ⅱ)浓度的增大,i°的大小呈正态分布,其中Cu-30镀液试片的i°最大。与常规所用的Cu、Cu/Hg、Ni、蒙乃尔合金电极相比,Cu-30试片的性能最佳,这与表观活化能所测结果相一致。  相似文献   

9.
利用挤压铸造制备Al2O3/Al-Si合金复合材料,在扫描电子显微镜(SEM)上观察了复合材料中的硅相形貌.结果表明Al2O3纤维与Si相之间存在共格界面,可作为硅相非自发形核的衬底;复合材料中的初生硅可在纤维表面形核生长为颗粒状;复合材料中的纤维在Al-Si共晶体的共生生长过程中,可触发孪晶,导致纤维附近的共晶硅里变质形态.  相似文献   

10.
Y_2O_3-ZrO_2陶瓷的电导特性研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
对Y2O3摩尔分数为6%的Y2O3-ZrO2陶瓷的电导特性进行了实验研究.利用扫描电子显微镜、X光衍射仪、V氏硬度仪和交流阻抗法等研究测定了氧化钇部分稳定氧化锆在不同烧结温度下的显微组织、相比例、断裂韧性与电导率.实验证明,在温度为1600℃时烧结的Y2O3-ZrO2陶瓷材料,组织致密,其电导率达到10-2S/cm,而四方相含量的降低可能是导致断裂韧性降低的重要原因.  相似文献   

11.
研究和探讨了L2O-Al2O3-SiO2系统光敏微晶玻璃基础玻璃的成份、感光剂、晶核剂对其析晶晶相及其在氢氟酸中侵蚀的作用和影响。并通过x衍射等手段分析研究了其低温析晶晶相。  相似文献   

12.
Pt-Sn-K/Al_2O_3丙烷脱氢催化剂组成的优化   总被引:1,自引:0,他引:1  
Pt-Sn-K/Al2O3催化剂用于丙烷催化脱氢具有活性高、选择性好等特点,是目前开发出的最好的小分子烷烃催化脱氢催化剂之一。作者用常规浸渍法在γ-Al2O3上负载Pt,Sn和K等金属元素,制成一系列Pt-Sn-K/Al2O3催化剂;考察了在常压,620℃,进料为丙烷/氢气=1∶1的混合气,气体体积空速为1500h-1的条件下,丙烷在这些催化剂上的脱氢反应,根据丙烯收率和选择性及其稳定性得出催化剂中各组分的最佳载量。结果表明:催化剂中适宜的Pt和Sn的质量分数分别为0.004~0.010和0.004~0.015,K的质量分数以不超过0.02为宜。  相似文献   

13.
Pt-Sn-K/Al2O3催化剂用于丙烷催化脱氢具有活性高、选择性好等特点,是目前开发出的最好的小分子烷烃催化脱氢催化剂之一。作者用常规浸渍法在γ-Al2O3上负载Pt,Sn和K等金属元素,制成一系列Pt-Sn-K/Al2O3催化剂;考察了在常压,620℃,进料为丙烷/氢气=1∶1的混合气,气体体积空速为1500h-1的条件下,丙烷在这些催化剂上的脱氢反应,根据丙烯收率和选择性及其稳定性得出催化剂中各组分的最佳载量。结果表明:催化剂中适宜的Pt和Sn的质量分数分别为0.004~0.010和0.004~0.015,K的质量分数以不超过0.02为宜。  相似文献   

14.
采用引入钼组分的办法,调变NiO-TiO2-Al2O3体系的性能。TPR结果发现,含Mo催化剂产生了还原性能不同的多 种镍原子位。当n(Ni):n(Mo)=3.04时,形成了3个还原峰:峰Ⅰ为362.5℃,与纯NiO的最高还原峰接近;峰Ⅱ位于 482.1-491.6℃之间,与NiO-TiO2-Al2O3催化剂tm为483.4℃接近,峰形都比较宽;在430.2℃还存在1个还原态(峰 Ⅲ),说明骨架内作用的复杂性。可以推测,催化剂中加入Mo后,减弱了Ni与载体之间的相互作用力,生成了容易被还原的, 类似于纯NiO样品的Ni原子位。同时,Mo的引入增加了NiO-TiO2-Al2O3催化剂的氢化学吸附量。在Mo含量较低时,即 当n(Ni):n(Mo)=5.22和9.47时,表面镍原子浓度不高,耗氢量也低于粉状纯NiO催化剂的。随着Mo含量的增加,当 n(Ni):n(Mo)=3.69和3.04时,表面镍原子浓度高,单位质量金属镍的耗氢量远高于其它样品。证明Mo的突出作用是 提高了催化剂中活性组分镍的分散度。高钼的NiO-MoO3-TiO2-Al2O3型催化剂的选择性加氢脱芳烃精制煤油的芳烃含量 平均低于200 μg/g,所用的反应条件是,反应温度180℃,压力1.2 MPa,LHSV2.0 h-1,氢油体积比500: 1。表明n(Ni) :n(Mo)=3.04-5.22的NiO-MoO3-TiO3-Al2O3型催化剂的加氢脱芳烃性能满足煤油脱芳烃和除味的要求。  相似文献   

15.
在微波ECR等离子体中,用平面磁控溅射靶,在γ-Al_2O_2粉末上沉积了TiO_x膜.为了使γ-Al_2O_3颗粒能被TiO_x均匀覆盖,使用了振荡器.文中详细地介绍了实验装置.甲烷转化率,C_2和C_2H_2的产额与选择性的对比结果表明:这种方法制备的催化剂优于传统的化学方法所制备的催化剂,同时也表明振荡器的作用明显.  相似文献   

16.
通过引入金属Si和活性C对SiC晶须在Al2O3-C复合耐火材料中的原位生长进行了实验研究.利用SEM结合电子探针(EMA)研究了SiCw在Al2O3-C复合耐火材料中的原位生长机理,提出LS生长机理.讨论了SiCw在Al2O3-C复合耐火材料中的原位生长的热力学条件和晶须生长的动力学控制环节.  相似文献   

17.
研究了混合稀土氧化物对粘土砖和高铝砖性能的影响.试验结果表明,在配料中加入适量混合稀土氧化物对提高耐火制品的常温耐压强度和热震稳定性能是有益的.  相似文献   

18.
本文论述了邻二甲苯氨氧化合成邻苯二甲腈的最佳工艺条件,载在高温热处理的三氧化二铝上的 V_2O_s、Sb_2O_3、Bi_2O_3、Fe_2O_3、K_2O 催化剂,对生成邻苯二甲腈表现出良好的活性及选择性,其选择率>95%。催化剂的酸度是一个关键因素.  相似文献   

19.
采用电化学阻抗谱和极化曲线研究了碳钢电极在以模拟冷却水为基液的Al_2O_3纳米流体中的腐蚀行为.实验结果表明,Al_2O_3纳米颗粒对碳钢的腐蚀有一定的抑制作用;Al_2O_3纳米流体中碳钢电极的耐蚀性能随着温度的升高而降低,添加分散剂十二烷基苯磺酸钠(SDBS)对碳钢也有一定的缓蚀作用,当SDBS的用量超过一定值时,对碳钢的缓蚀性能开始下降.  相似文献   

20.
本文研究了B_2O_3—Al_2O_3—PbO玻璃中引入La2O3、SiO2、Sb2O3、Ga2O3后,TF光学玻璃化学稳定性及相对部分色散Pg·F。论证了B2O3-Al2O3-PbO光学玻璃光学性质,化学稳定性和结构关系。TF光学玻璃在3.5L铂坩埚中熔制。  相似文献   

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