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1 引 言铬镀层光亮耐磨 ,能长期保持光泽 ,有很好的装饰效果。许多仪器仪表上的细小零件需要镀铬时 ,操作上有许多不便。细小零件镀铬 ,通常有两种方法 ,挂镀和滚镀。挂镀效率低 ,还常常留下装夹的痕迹 ,对特别细小的工件 ,装夹十分困难 ,甚至有些小件几乎无法装夹(例如园球件 )。另一种方法是滚镀 ,这需要复杂的机械装置和特殊构造的滚桶 ,滚桶结构复杂会带出较多的镀液 ,不利于环境保护。需要镀铬的细小零件 ,往往是批量不大品种很多 ,这时候采用滚镀的方法 ,势必出现大马拉小车现象 ,操作也十分麻烦。下面介绍一种细小零件镀铬的简易方… 相似文献
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0 前言 常规镀铬工艺电流效率低、污染大、深镀能力差,特别是小零件难以滚镀,生产效率极低.SPL-900电镀锡-钴-锌三元合金镀层外观酷似铬层,耐蚀性与光亮度可与铬层媲美,镀液的深镀能力远胜于铬,能源消耗明显比镀铬的低. 相似文献
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锡钴合金电镀及其应用 总被引:1,自引:1,他引:0
七十年代中叶发展起来的光亮锡钴合金工艺,可在部分零件上替代装饰性镀铬使用,能减少镀铬工艺中有41~51%铬酐在清洗过程中流失所带来的公害,而且由于锡钴合金镀液电流效率高达95%,镀亮镍后只要镀1~3分钟即可达到通常装饰性铬层厚度,故生产效率高。镀液操作时使用的电流密度低,通常为0.2~1.5A/dm~2,能节省电能。锡钴合金镀液能吊镀,也适合于滚镀。合金镀层经钝化后有良好的抗黯性,可解决复杂形状工件和小零件镀铬的困难。 相似文献
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手电筒开关小零件电镀过采用电镀氰化锌铜合金然后挂镀铬的工艺,生产效率低,三废治理费用大。采用滚镀镍再滚镀锡钴锌代铬镀层的方法,可克服上述缺点。测试了组合镀层的耐蚀性和耐磨性能,阐述了代铬镀液维护和故障排除方法。 相似文献
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本文根据滚镀格液对断电敏感、电流效率低、要求在大电流密度下工作、分散能力差、最佳温度范围不宽、能在阳极表面生成绝缘膜等特点,以作者所设计的滚镀格机为实例,阐明滚镀铬机的设计原理和制作要求。对具有特点的部分,例如电极座、内遮档板、不对称形内阳机、内阳极机的密集程度、双蜗枪蜗杆减速机构等,还按实物大小的一定比例示出了结构,供读者参考。 相似文献
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三价铬镀铬液中六价铬、铜、铁和镍杂质的分析方法 总被引:1,自引:0,他引:1
介绍了三价铬镀铬溶液中六价铬、铜、铁和镍杂质的分析方法。利用二苯氨基脲在酸性溶液中与六价铬的特效显色反应,用光度法测定三价铬镀铬溶液中的六价铬杂质。利用二乙基二硫代氨基甲酸钠与铜离子生成稳定黄棕色络合物的特性,用光度法测定镀液中铜杂质。利用钛铁试剂与三价铁离子在弱碱性条件下生成稳定的红棕色络合物的特性,用光度法测定镀液中的铁杂质。利用丁二酮肟与镍离子生成稳定的红色络合物的特性,用光度法测定镀液中的镍杂质。 相似文献
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测试了宝钢电镀铬机组镀液中杂质颗粒的粒度分布,观察了镀液中杂质颗粒浓度的变化情况,提出了一种去除镀液中固体杂质的方法,并设计了一套净化过滤系统.经实际使用,过滤后的镀液能满足高品质镀铬板生产的要求. 相似文献
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1 前言镀铬水滚是四色机上的关键部件,它的好坏直接决定着印刷产品质量。由于镀铬水滚在含有醋酸的酸性印染液中工作,所以对水滚的铬层来说必须有足够的厚度,良好的耐蚀力和结合力。国内众多印刷厂、电镀厂对镀铬水滚都非常重视,并在水滚镀硬铬方面做了大量工作,并已取得了成熟经验。我们厂对镀铬水滚的研究、生产是在87年我厂从 相似文献
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无氟稀土添加剂镀铬的研究 总被引:5,自引:0,他引:5
研究了无氟稀土添加剂镀铬的阳极腐蚀和镀液、镀层性能问题,并与常规镀铬、含氟稀土镀铬进行性能对比,实验结果表明,不含氟化物的稀土添加剂,能有效地提高镀层的沉积速度和硬度,使铬层表面微裂纹细密及表面结晶细致平整;改善镀液的分散能力和深镀能力及扩大电流密度光亮区范围;阳极不被腐蚀。 相似文献
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1问题的提出和使用效果 螺钉装饰性镀铬可采用滚镀,但需要专用设备,且工艺条件要求很严,质量控制难度很大。为此,除个别有条件的、批量生产的专业厂设有滚镀铬专用设备外,一般多采用细铜丝一个一个绑扎后吊镀,镀完后再一个一个解下来的传统工艺。此工艺很费工夫,且镀层厚度也很不均匀,一串中的头、尾几个螺钉的底层光亮镍层往往过厚,给装配带来困难。螺钉的绑扎还需要有一定的技巧。绑扎用的铜丝消耗量也很大。鉴于上述情况,我们设计了一种适合中批量生产的螺钉镀装饰铬的专用夹具(见图1)。 相似文献
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针对两步法镀铬工艺,采用电化学实验、X射线光电子能谱(XPS)以及扫描电子显微镜(SEM)等检测手段,就镀液中H2Si F6与CrO3的含量对镀铬液特性,镀层表面氧化铬和金属铬含量、孔隙率,以及镀铬板电化学性能的影响进行了分析。结果表明,CrO3含量对镀液电导率有明显影响,镀层内铬氧化物的含量以及镀液的pH主要由镀液内H2Si F6的含量所控制。第一步镀铬时,在镀液中H2Si F6为1.75 g/L、CrO3为150 g/L、H2SO4为0.7 g/L的条件下,镀铬板的腐蚀电位较正,腐蚀电流密度较小;在第二步镀铬中,当H2Si F6为0.30 g/L、CrO3为34 g/L、H2SO4为0.35 g/L时,镀铬板腐蚀电位较正,腐蚀电流密度较... 相似文献