低能γ光子及X射线在透射金属箱方向激发的次级X射线

采用Ｓｉ（Ｌｉ）Ｘ射线探测系统，以透射法测量了２４１Ａｍ和２３８Ｐｕ放射源的低能γ光子和Ｘ射线在透过不同厚度的Ｆｅ和Ｃｕ箔时激发的次级Ｘ射线相对强度的变化。实验结果表明：激发产生的Ｘ射线相对强度在实验样品厚度范围内随箔厚的增加而增加；在高原子序数材料中将产生更多的特征Ｘ射线；各次级Ｘ射线的强度与箔厚形成方式以及激发源的活度、能量有关。最后对实验结果的物理机制进行了初步探讨。     

低能γ光子及射线在透射金属箔方向激发的次级X射线

采用Ｓｉ（Ｌｉ）Ｘ射线探测系统，以透射法测量了＾２４１Ａｍ和＾２３８Ｐｕ放射源的低能γ光子和Ｘ射线在透过不同厚度的Ｆｅ和Ｃｕ箔时激发的次级Ｘ射线相对强度的变化，实验结果表明，激发产生的Ｘ射线相对强度在实验样品厚度范围内随箔厚的增加而增加，在高原子序数材料中将产生更多的特征Ｘ射线，各次级Ｘ射线的强度与箔厚形成方式以及激发源的活度，能量有关，最后对实验结果的物理机制进行了初步探讨。     

防护水平低能X射线次级标准电离室的研制

用具有优良导电性能的碳纤维材料经环氧树脂固化制成壁厚０．３６ｍｇ／ｃｍ￣２、直径为１９５ｍｍ的大体积球形电离室。电离室机械强度好、体积稳定、对低能Ｘ射线能量响应好、灵敏度高，它不仅可作为防护水平低能Ｘ射线次级标准实验室的参考电离室，而且也适用于照射量率的现场测量。     

一种分辨电子和X射线的多丝室系统

研制了一种能够分辨电子和Ｘ射线的多丝室系统，作为穆斯堡尔谱仪的探测器，可以同时测量样品吸收共振辐射后发射的特征Ｘ射线和内转换电子及俄歇电子的穆斯堡尔谱，从而得到样品表面不同深度的多种信息。     

北京同步辐射软X射线装置与软X射线探测器标定

简单介绍了２套北京同步辐射软Ｘ射线装置，主要用于软Ｘ射线光学元件测量和软Ｘ射线探测元，器件的标定，给出了软件Ｘ射线装置上计量标准和探测器标定方面的研究结果。     

硬X射线微探针及其应用

系统介绍了硬Ｘ射线的各种聚焦方法和在世界上各大同步辐射实验中的应用,以及硬Ｘ射线微探针的主要应用领域。     

CMOS电路X射线辐射剂量增强效应

研究了ＣＭＯＳ电路在Ｘ射线辐射环境下性能的退化及剂量增强效应，测量了相对剂量增强系数，对不同工艺ＣＭＯＳ电路的剂量增强系数进行了比较，并对高原子序数材料的Ｘ射线剂量增强机理进行了讨论。     

医用电子加速器迷宫内的X射线剂量当量率的测量和估算

使用ＦＡＲＭＥＲ２５７０／１Ａ型和ＦＪ－３４７Ａ型两种电离室剂量仪测量了能量为６，８，１８ＭＶ的７个医用电子加速器迷宫内的Ｘ射线剂量当量率，结果表明迷宫内Ｘ射线测量当量率在迷宫内入口处最高，当迷宫内入口到等中心的蹁小于５．２ｍ时，该迷宫内入口中心处的Ｘ射线测量当量率与等中心处用束Ｘ射线吸收剂量率的比值大于５．５×１０＾－５，随距离增加，剂量率减小，进入迷宫巷道后，Ｘ射线剂量当量率一般不超过等中心有     

软X射线多层膜技术

软Ｘ射线多层膜技术是目前工程光学和应用光学中的一个热点,用多层膜可以组成类似于可见光波段的各种软Ｘ射线光学仪器,如望远镜,显微镜,投影光刻系统和光谱仪器等,文章简要介绍了长春光学精密机械研究所近年来软Ｘ射线多层膜技术的研究概况。     

DPF脉冲X射线能谱测量

采用滤光法对ＤＰＦ脉冲Ｘ射线源的Ｘ射线能谱进行了测量,取得了较好的结果,为辐尖环境测量提供了一种手段。     

入射离子特征X射线分析研究

为了开展重核同量异位素鉴别方法研究,建立了入射离子特征Ｘ射线测量方法,开展了利用入射离子Ｘ射线法的应用工作。     

经软X射线辐照的InP的表面损伤态

采用Ｘ光激发光电子能谱对经同步辐射软Ｘ光辐照的ＩｎＰ表面进行了分析。实验结果表明：ＩｎＰ表面辐照损伤与辐照Ｘ光的能量及剂量有关,尤其是具有近Ｐ原子Ｋ壳层共振吸收能量的软Ｘ光辐照与其它Ｘ射线辐照相比,其结果有所不同。文中就实验结果的机制进行了初步探讨。     

γ射线在硅界面附近的剂量分布

研究了金、钨等多种材料与硅交界时＾６０Ｃｏγ射线在界面硅一侧产生的深度剂量分布。将该分布与均匀硅材料中的平衡剂量比较，发现在界面附近具有明显的剂量梯度分布。特别在金等高原子序数与硅交界的情况下，硅界面的剂量有显著增强现象，以康普顿散射，光电、俄歇效应和次级电子的输运机制为基础，用半径验电子输运方程对界面附近的剂量梯度分布进行了计算，得到了与实验符合较好的结果。     

^75Se和^113Sn的KX射线发射几率测量

用＾５４Ｍｎ、＾５７Ｃｏ、＾６５Ｚｎ、＾８５Ｓｒ、＾１０９Ｃｄ、＾１３７Ｃｓ等核素发射的ＫＸ射线和Ｉ（ＫＸ）／Ｉ（γ）比值法在５￣４０ｋｅＶ范围内对Ｓｉ（Ｌｉ）探测器的效率进行了刻度（不确定度小于２％）。在此基础上,用Ｓｉ（Ｌｉ）Ｘ射线谱仪系统和ＨＰＧｅγ射线谱仪系统对核素＾７５Ｓｅ和＾１１３Ｓｎ的主γ射线和ＫＸ射线进行了测量,获得了＾７５Ｓｅ和＾１１３Ｓｎ的ＫＸ射线发射几率,并与文献报道值进行了     

γ射线法在医用186Re样品分析中的应用

描述了以γ射线测量为基础分析医用＾１８６Ｒｅ样品的步骤和方法。用ＨＰＧｅγ射线探测器对ＮＨ４ＲｅＯ４进行了γ（Ｘ）射线谱测量。根据谱中γ（Ｘ）射线的能量和强度鉴别了＾１８６Ｒｅ,鉴定了＾１８６Ｒｅ的核纯度,通过与标准源进行比较,给出了样品的放射性活度。     

细胞样品的高分辨率软X射线接触显微术图像的研究

在建立适于软Ｘ射线接触显微术（ＳＸＣＭ）观察细胞样品制备方法的基础上，以培养的肿瘤细胞为生物样品，应用细聚焦软Ｘ射线光源进行ＳＸＣＭ研究，获得了分辨率优于２８ｎｍ的高质量肿瘤细胞ＳＸＣＭ图像。     

同步辐射低能X射线的照射量测量与剂量计算

用自制自由空气电离室，在能量为２－１２ｋｅＶ同步辐射光束线现场测量了单能Ｘ射线的电离量，依据Ｘ射线在空气中的传输和衰减特性及能量转移系数，计算了电离室入射口的照射剂量值。进而求出在空气中的相应比释动能和光子通量。讨论了软Ｘ射线照射量随能量的分布特性及混合能量Ｘ射线的照射量测量方法。     

细胞样品的高分辩软X射线接触显微术图像的研究

在建立适地软Ｘ射线接触显微术观察细胞样品制备方法的基础上，以培养的肿效率细胞为生物样品，应用细聚物焦软Ｘ射线光源进行ＳＸＣＭ研究，获得了分辩率优于２８ｎｍ的高质量肿瘤细胞ＳＸＣＭ图像。     

X射线分层成像的深度谱立体匹配技术

Ｘ线射线透视成像中物体互相重叠,有时边缘模糊不清。利用深度谱分析物体层次。提高了立体匹配的置信度,提高了Ｘ线射线立体透视的分层成像的质量,给出了实测深度谱和分层成像结果。     

荧光X射线参考辐射的优化

在荧光X射线参考辐射场中,射线的强度和纯度会受到机械装置本身、辐射体厚度、次级过滤厚度、X光机管电压的影响。在优化设计参考辐射装置结构的基础上,通过理论分析计算和蒙特卡罗模拟,得到荧光强度和纯度随辐射体和次级过滤厚度的变化,并对X光机管电压对荧光强度和纯度的影响进行了测量。结果显示:F-Cs这一辐射质,当辐射体Cs2SO4的厚度大于490μm时,荧光强度达到饱和;当次级过滤Te O2的厚度约为327μm时,荧光纯度最高;荧光强度随X光机管电压的升高而增加,纯度随管电压的升高而降低。