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《电子技术与软件工程》2015,(1)
本技术利用数学方法,解决碎纸片拼接问题,以提高拼接复原效率,研究复原同一页仅纵切后的碎纸片。通过对碎纸片的图像进行数字化,得到单个碎纸片的灰度矩阵,建立优化模型,利用遍历的方法,得到碎片复原结果。同时,复原同一页既纵切又横切后的碎纸片以及复原双面打印文件的原理类似。 相似文献
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王欣洁 《智能计算机与应用》2013,(6):95-97,100
主要对碎纸片的拼接复原问题进行分析,分别对仅纵切和横纵切两种切割方式建立了模型进行求解,主要思想是对碎片的灰度值矩阵进行处理,利用文字所处的位置信息、空格的分布情况、碎片的边界信息(文字的链接情况)等信息,对所给的碎纸片进行拼接复原。对2013年“高教社杯”大学生数学建模竞赛B题附件中的中文碎片进行拼接,拼接效率高,算法可行。 相似文献
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针对文献修复中均匀碎片,以特征位置为基准,采用K-means算法进行聚类分析,对于每一类碎片运用贪心算法不断地取匹配度最高的碎片进行拼接,逐步自动复原整个文献。经计算机仿真证明:此方法能实现文献的快速拼接,有效地提高物证修复,碎片复原的工作效率。 相似文献
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小波变换在大景深成像系统图像复原中的应用 总被引:1,自引:0,他引:1
为消除大景深成像系统引起的图像模糊问题,提出综合维纳滤波和小波变换进行图像复原和增强的一种新方法.维纳滤波不能对大景深模糊图像的高频分量进行较好的复原,利用小波变换算法进一步对维纳滤波复原的结果进行高频增强,以使模糊图像在高低频均获得理想的复原结果.仿真实验首先对标准样本进行大景深模糊,然后对模糊图像先采用维纳滤波算法进行复原,再进一步采用小波变换算法增强复原图像高低频对比度.结果表明:采用了小波变换算法后大景深模糊图像的复原效果得到了有效提高,图像的峰值信噪比提高了近50%. 相似文献
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曹春海 《固体电子学研究与进展》2005,25(2):276-279
分析了一般测量接触电阻率的TLM模型以及“端电阻”修正模型的缺点,提出了一种新的接触电阻率的测试方法。此方法模型精确,常规测试条件下容易得到误差小于1%的相关测试量的值,使接触电阻率的测试误差小于5%。 相似文献
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根据概率论回归分析理论提出了一种根据凸轮实际轮廓实测坐标值,采用最小二乘法进行多项式曲线回归,来拟合凸轮实际轮廓曲线回归方程的新方法,以便仿制凸轮时,在数控机床上加工凸轮轮廓,从而提高了凸轮仿制加工精度和生产效率。 相似文献
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射频功率放大器是无线通信系统中的重要组成部分,其工作效率直接影响着整个系统的耗能、稳定度和对电源散热装置的要求,提高射频功率放大器的效率,能够节约能源,降低功耗,因此实现射频功率放大器的高效率工作是目前射频功率放大器领域的热点问题之一。本文选用Freescale晶体管MW6S004N,借助ADS2013软件,采用负载牵引技术和源牵引技术得到最佳负载阻抗和最佳源阻抗,并用Smith圆图进行电路的匹配设计,对射频功率放大器进行了仿真和优化。仿真结果表明,在频率为1960MHz的L波段,输入功率为21d Bm时,射频功率放大器的输出功率大于36d Bm,功率附加效率大于50%。这种高效率射频功率放大器适用于WCDMA基站,对基站中高效率功率放大器的设计有着重要的参考价值。 相似文献
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M. W. P. E. Lamers C. Tjengdrawira M. Koppes I. J. Bennett E. E. Bende T. P. Visser E. Kossen B. Brockholz A. A. Mewe I. G. Romijn E. Sauar L. Carnel S. Julsrud T. Naas P. C. de Jong A. W. Weeber 《Progress in Photovoltaics: Research and Applications》2012,20(1):62-73
We obtained 17.9% cell efficiency on thin and large mc‐Si REC wafers using ECN's metal‐wrap‐through (MWT) concept. Optimization of several cell processing steps led to an increase of more than 2% absolute in cell efficiency. With these cells 36‐cell modules were manufactured at 100% yield in our industry scale module pilot line. The highest module efficiency obtained (as independently confirmed by JRC‐ESTI) was 17%. In this module the average cell efficiency was 17.8%; this shows a small difference between cell and module efficiency. Copyright © 2011 John Wiley & Sons, Ltd. 相似文献
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针对传统线性聚光系统聚光光斑辐照度不均匀的问题,提出了一种由曲面线聚焦菲涅耳聚光器阵列及平板型导光板所组成的、系统高度小于40mm的小体积聚光系统方案,建立了曲面线聚焦菲涅耳透镜的一般方程,给出导光板V形槽设计公式,并采用正交试验法和光学仿真实验对聚光器系统的各项结构参数进行优化设计,同时分析了曲面线聚焦菲涅耳的加工误差及导光板安装偏角误差的影响。结果表明:优化后系统在采光面积500mm×200mm、聚光比50倍时,聚光效率可达75%,聚焦光斑均匀性优于88%,且入射太阳光偏角在±7°内聚光效率大于50%。通过拼接可获得不同聚光倍数系统,由仿真实验得出在160倍聚光比内,效率高于50%,均匀性优于85%。 相似文献
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提出的访存时间最优Cache划分(OMTP, optimalmemorytimeCachepartitioning)方法通过特征获取部件来获取不同应用程序的平均失效开销和Cache命中的路分布情况,以此作为划分依据来给竞争程序分配合适的Cache空间,达到优化程序整体执行性能的目的.实验结果表明,OMTP方法相比基于利用率的Cache划分(UCP)方法吞吐率平均提高3.1%,加权加速比平均提高1.3%,整体性能更优 相似文献
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基于粗糙集的过程控制规则挖掘算法及应用 总被引:1,自引:0,他引:1
在现代工业生产过程中,如何从实际生产过程中提取出有用的规则,用于调整控制生产是过程控制中一个难题。文章提出了一种基于粗糙集的过程控制规则挖掘算法,可以较大的降低计算复杂度,并将算法用于实际烟草制丝生产线的关联规则提取.得到了可用于实际生产过程控制的规则。 相似文献
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在微波功率管厂家给出的常规设计数据的基础上,建立了功率管匹配的电路模型;对微波功率组件的设计和调试步骤进行了合理的归纳;分析了微波功率管在共轭匹配以及失配情况下对模块相位的影响;通过双模块间功率合成的解析式分解,给出了模块自身功率调试(实现模块功率的最大化)和模块间相位调试(实现模块间的相住一致)的具体目标和方法,以实现组件工作的高可靠和合成效率的最大化。文中针对P波段固态功率组件实际的配相调试过程(由于其工作波长较长的特点,使得通过改变微带线长度实现大范围移相可能性不大,从而给模块间相位调试带来困难),通过分析、对比,给出了解决实际问题的方法和相应的设计结果。文中的试验数据和设计思想可作为其他相关工程设计参考。 相似文献
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一种基于Hough变换的新直线段检测算法 总被引:2,自引:1,他引:1
为了获得图像中直线段的端点及长度信息,提出一种逆向Hough变换检测算法,由一个已知点和直线的斜率构造直线的方程,然后检测满足直线方程的点的个数.同时,为了克服Hough变换计算量大的弊端,引入直线梯度方向信息,避免重复的直线提取.实验证明,该方法较传统的Hough变换,可以很好地得到直线段的端点,并且算法快速简单. 相似文献
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In this study, we calculate the exposure intensity of line/space patterns recorded with a DMD (digital micromirror device) digital maskless lithography system using the point array method. With a diffracted beam spot with a radius of 4 μm, we simulate the line space patterns over a spot overlap section ranging from 85% to 95%. From the results of the simulation, we analyze the relationships among the exposure intensity, the width of the line pattern, and the exposure efficiency, which are process parameters used in maskless lithography. From a numerical analysis of the relationship between the line pattern width and the exposure efficiency, it is estimated that the practical acceptable minimum width of the line pattern recorded with a maskless lithography system using a 4-μm radius diffracted beam spot array is approximately 4.5 μm, which is 11% larger than the spot radius with the exposure efficiency of 73%. 相似文献