如何掌握宝石加工中的关键所在--抛光

为了以最短的时间,达到最佳的宝石抛光效果,阐述了宝石加工的抛光机理及抛光应具备的基本条件.通过反复试验,得出在抛光实际操作中应注意的问题和对应措施,并举出有针对性的具有理想抛光效果的应用实例.指出只有合理、科学地掌握抛光环节中的各方面因素,才能抛出高质量的宝石成品.     

微晶玻璃板材抛光工艺探讨

本文分析了微晶玻璃板材的特性及其抛光工艺,得出影响抛光工艺参数的主要因素是压力、时间、速度和磨具.通过实例说明微品玻璃抛光线的配置及参数对抛光工艺的影响,并进行讨论.     

微米级冰冻固结磨料抛光微晶玻璃的工艺研究

通过四因素三水平正交实验,对微米级冰冻固结磨料抛光微晶玻璃的工艺进行了研究.采用单位时间试样厚度变化表征抛光速度,以平均粗糙度表征抛光质量.获得了以优化抛光质量为目的的工艺参数:抛光压力:0.05 MPa;主轴转速:200 r/min;偏心距:105 mm;抛光时间:60 min.在该条件下获得了表面平均粗糙度为2.86 nm的超光滑表面,并且抛光速率为12.35 nm/min,并对抛光因素对表面质量和抛光速度的影响趋势进行了分析.     

两步法与三步法抛光工艺的应用对比探讨

抛光是在轿车涂膜后处理工艺中不可缺少的重要工序,使得漆面具有柔和、稳定的光泽,保证涂膜表面平整光滑,是提高面漆涂层装饰性的一种工艺手段.通过在实际生产中的使用情况,对传统的三步抛光法和新型的两步抛光法工艺进行对比,表明两步抛光法在工时、材料设备和抛光效果等方面占有优势,是现场应用的最佳抛光工艺.     

雾化施液单晶硅互抛抛光速率实验研究

调节自配抛光液的H2 O2含量、pH值、抛光盘转速和抛光压力,通过电化学实验,探究单晶硅互抛抛光过程中抛光工艺参数对腐蚀电位、腐蚀电流和抛光速率的影响规律,并解释其电化学机理.实验结果表明:雾化施液单晶硅互抛抛光速率随着pH值、H2 O2浓度和抛光盘转速的增大呈现先增大后减小的趋势,并在pH值为10.5、H2 O2浓度为2％、抛光盘转速为70 r/min处达到最大值,随着抛光压力的不断增大而增大;通过雾化施液单晶硅互抛抛光实验得到合理的工艺参数:pH值为10.5、H2 O2浓度为2％、抛光盘转速为60 r/min、抛光压力为7 psi,在该参数下,硅片的抛光速率达到635.2 nm/min,表面粗糙度达到4.01 nm.     

液体复合抗菌剂在抛光纳米液中分散稳定性实验研究

笔者通过实验研究了液体复合抗菌剂在抛光纳米液中分散稳定性问题.实验结果表明,不同配方的抗菌剂在抛光纳米液中的稳定时间不同,纳米液中的添加剂是影响分散稳定性的重要原因.通过调整抛光纳米液的组成,改变或降低其中部分添加剂的比例,可以有效延长抗菌纳米液的稳定时间.     

不锈钢表面处理技术

随着不锈钢在化工、机械、轻工、建筑、仪表器械等行业的广泛应用,对不锈钢的装饰性、防腐性、功能性的要求愈广,其表面处理技术视用途不同而异.笔者曾就不锈钢着色技术作过详细报导(见《五金科技》,1987年第3、4期).近年来,国内不锈钢表面处理技术有所发展,本文作一综述.一、抛光抛光就是对不锈钢材料经常使用的表面处理方法之一,可以获得镜面的光泽.对不锈钢的抛光可以采用机械抛光、化学抛光的电解抛光等三种方法.机械抛光只适用于简单工件,     

抛光砖抛光废料的回收利用途径分析

陶瓷抛光砖抛光废料产出量很大,严重污染周边环境,是困扰抛光砖生产的世界性难题.本文通过对此方面的研究结果,着重论述了陶瓷抛光砖抛光废料回收利用的可行性方法.     

不锈钢杯内壁的电化学抛光

介绍了双极性电化学抛光的基本原理,采用该方法对不锈钢杯内壁进行了抛光工艺研究,确定了抛光工艺.结果表明:用双极性电化学抛光法对不锈钢杯内壁进行抛光,可以得到理想的抛光效果,而且解决了采用传统的电化学抛光法抛光不锈钢杯内壁存在的阴极安装困难而且易短路等问题.     

油箱涂膜流挂的抛光处理方法

通过技术及现场施工人员不断的实践和探索,对抛光工艺不断完善,实现了使用抛光方法处理流挂质量问题的突破,达到了高效、高质、降低成本的目的.     

利用陶瓷抛光渣制备纤维增强硅酸钙板的试验研究

本文使用陶瓷抛光渣取代天然石英粉制备纤维增强硅酸钙板,探讨了陶瓷抛光渣的掺量对纤维增强硅酸钙板抗折强度的影响,并通过XRD和SEM分析了陶瓷抛光渣的掺入对纤维增强硅酸钙板内部的矿物晶体种类、结晶程度和晶体形貌的影响.实验结果表明,掺加陶瓷抛光渣不会改变纤维增强硅酸钙板内部主要矿物晶体的种类,但是矿物晶体的发育程度会随着掺量的增加而降低,并最终使纤维增强硅酸钙板的抗折强度下降.少量的陶瓷抛光渣取代石英粉生产纤维增强硅酸钙板是可行的,考虑到生产和工程实际,陶瓷抛光渣取代石英粉的取代量应控制在15％以内.     

固结磨料抛光的平面度预测模型

本文利用Matlab建立了固结磨料抛光的平面度预测模型,根据硅片初始形貌及抛光参数值,可以预测抛光后硅片的表面形貌,并通过实验验证了该模型的可靠性.利用该模型分析了各抛光工艺参数对平面度的影响,结果表明:硅片和抛光垫转速不等时,硅片呈凸形,转速相差越大,平面度越差,但转速大小对平面度影响较小;增大偏心距有利于减小转速不等带来的影响,使平面度变好;选择较小的压力有利于平面度的提高.     

CeO2/ZrO2硅溶胶复合磨料的制备及其对蓝宝石抛光性能的影响

以硅溶胶为原料,通过化学沉淀法对硅溶胶进行铈锆改性,制备出抛光用单分散的CeO2/ZrO2硅溶胶复合磨料.考察了不同铈锆掺杂量的CeO2/ZrO2硅溶胶复合磨料对蓝宝石晶片抛光性能的影响,研究了CeO2/ZrO2硅溶胶复合磨料对蓝宝石晶片的抛光机理.通过透射电子显微镜(TEM)、扫描电子显微镜(SEM)-能谱仪(EDS)、X射线光电子能谱仪(XPS)、X射线衍射仪(XRD)对样品的组成、形貌等进行表征.以所制备的复合磨料对蓝宝石晶片进行抛光,利用原子力显微镜(AFM)检测抛光后的蓝宝石晶片表面粗糙度.结果表明:CeO2/ZrO2硅溶胶复合磨料中最佳的铈锆掺杂量为:铈掺杂量为1.5wt％,锆掺杂量为1.0wt％,材料去除速率可以达到36.1 nm/min,表面粗糙度可以达到0.512 nm,而相同条件下纯硅溶胶抛光后的蓝宝石表面粗糙度为1.59 nm,材料去除速率为18.4 nm/min,该复合磨料表现出较好的抛光性能.     

H2O2-草酸体系化学抛光不锈钢的研究

采用H2O2-草酸体系在室温条件下对不锈钢制品抛光,讨论了抛光液各组分、抛光温度及抛光时间对抛光效果的影响.实验发现:该抛光液对不锈钢在适宜条件下均可得到满意的抛光效果.     

化学机械抛光技术研究进展

通过回顾化学机械抛光技术的发展历史,概述了化学机械抛光作用机制与实际应用情况,着重阐述了几种重要抛光浆料(如CeO2、SiO2、Al2O3抛光浆料)的优缺点、抛光机理及其国内外新近制备方法,进一步展望了化学机械抛光技术的发展前景与新型抛光浆料的开发方向.     

铌酸锂晶体的抛光机理及精密加工工艺

采用Stober法制备了平均粒径分别约为50nm和300nm的SiO2抛光液.通过透射电镜、粒径测定仪、zeta电位仪测试和分析了制备的SiO2抛光液的粒径分布、分散度和稳定性.结果表明:抛光液中SiO2溶胶颗粒为球形,溶胶粒子的分散度小,并且具有较好的稳定性.用制备的粒径分别为50nm和300nm的SiO2抛光液对铌酸锂晶体样品进行化学机械抛光,研究了压力、抛光盘速度、抛光液流量及时间对抛光过程的影响.抛光结果表明:采用粒径为50nm的SiO2抛光液的抛光效果最好.最佳抛光工艺参数是:采用沥青抛光盘,50nm的SiO2抛光液,转速为40r/min,抛光液流量为3mL/min,压力为17kPa,抛光时间为60min,去除率为30nm/min.采用激光平面干涉仪、原子力显微镜检测了抛光后样品的面型精度和粗糙度,样品的最佳面型精度为0.134λ(λ=0.6328nm),粗糙度为0.32λ.     

铝材碱性电解抛光工艺的研究

针对铝材酸性电解抛光工艺废水污染严重的问题,对碱性电解抛光工艺进行了研究,并确定了碱性电解抛光中各种药品的用量及运行条件。结果表明:碱性电解抛光技术在一定程度上能够满足铝材抛光的需求。通过实验,获得了抛光效果好、使用寿命长、无磷的抛光液。     

银电化学抛光工艺研究

采用电化学抛光方法对银进行了表面处理,考察了抛光液各组分以及主要工艺参数对抛光效果的影响.结果表明,经本工艺抛光后的银表面光亮、清洁,达到镜面效果.抛光液组成简单,维护方便,操作安全,是一种理想的银电化学抛光工艺.     

黄铜饰品的等离子抛光

以由柠檬酸铵、柠檬酸、醋酸铵和乙二胺四乙酸(EDTA)为电解质配制成的抛光液对黄铜饰品进行等离子抛光.采用激光共聚焦显微镜、扫描电镜、能谱仪、测色仪、高精密电子天平等手段研究了抛光液组成和抛光时间对抛光效果的影响.通过正交试验得到的最优电解液组成为:柠檬酸铵20 g/L,醋酸铵10 g/L,柠檬酸5 g/L,EDTA ...     

硫酸-磷酸-铬酸电化学抛光对钼片表面状态的影响

以硫酸-磷酸-铬酸体系为电解液,对钼片进行电化学抛光。通过测定阴极极化曲线,研究了抛光过程中电压和电流之间的关系。表征了抛光前后钼片的微观形貌、粗糙度和尺寸等。在2.0 A/cm~2下对钼片电化学抛光30 s,可得到均匀平整、无明显坑点的表面,粗糙度由抛光前的0.20μm降至0.05μm。通过严格控制抛光时间可有效保证样品的几何尺寸精度。