镁合金浸锌前处理对化学镀镍层的影响

目的优化出镁合金浸锌前处理的处理液络合剂及工艺条件。方法研究镁合金浸锌前处理处理液的络合剂,确定出适用的络合剂,并在最佳络合剂的条件下,研究前处理液pH值和温度的变化对化学镀镍层的影响。采用电化学测试、扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射(XRD)对化学镀镍层进行耐蚀性评价,并对其微观形貌进行表征,确定出最佳络合剂和工艺条件。结果通过对镀镍层厚度的测量及SEM微观形貌观测,确定最优的前处理液络合剂为苹果酸。在该条件下确定最佳的工艺条件为:pH=10,温度80℃。所制得的化学镀镍层的自腐蚀电位为-0.6 V,与镁合金基体的腐蚀电位-1.47 V相比,提高了0.87 V,腐蚀电流密度由镁合金基体的1.26×10~(-4) A/cm~2下降到1.26×10~(-6) A/cm~2,自腐蚀电流密度降低了2个数量级。镀层的钝化区间在-0.6~0.2 V,且结合力好,外形美观。结论镁合金浸锌前处理处理液的最佳络合剂为苹果酸,最佳工艺条件为pH=10、温度80℃。     

高硅铝铸件电镀前浸锌工艺研究

研究了一种无氰的高硅铝铸件的浸锌新工艺.通过扫描电子显微镜观察了不同浸锌时间和温度的锌合金层的表面形貌,并对锌合金层的质量及镀层结合力进行了评价和测试.通过正交试验,得到较好的浸锌工艺：浸锌溶液为90 g/L氢氧化钠,9 g/L氧化锌,35 g/L硫酸镍,90 g/L无氰络合剂A,6 g/L混合添加剂B,浸锌温度25 ℃,浸锌时间第一次60 s,第二次30 s.所得的锌合金层结构致密、均匀、颗粒细小、结合力高.     

浸锌合金过程参数测定

利用扫描电子显微镜(SEM)对试片表面浸锌后质量优秀与低劣的锌合金层的微观形貌进行了比较,观察了不同浸锌时间及温度所对应的锌合金层的微观形貌,利用能谱仪(EDS)定量测定了锌合金层组成成分,利用X射线荧光能谱(XRF)定量测定了不同浸锌时间的锌合金层组成成分及膜厚.研究了锌舍金层表面明度、电位、膜重随浸锌时间的变化,膜重随浸锌温度的变化及浸锌后的试片在3.5%NaCl溶液中塔菲尔极化曲线,定性测定了试片浸锌后镀层的结合力.结果表明:锌合金层质量的好坏直接关系到镀层与基体的结合力,在浸锌合金过程中适合的参数可以间接表征锌合金层的质量.     

Influence of Surfactant on Zinc Immersion for AZ91D Magnesium Allov

研究了阳离子型表面活性剂(十六烷基三甲基溴化铵)、阴离子型表面活性剂(十二烷基苯磺酸钠)以及非离子型表面活性剂(聚乙二醇)对镁合金浸锌液的稳定性、浸锌层表面形貌和耐腐蚀性能的影响.结果表明:随着表面活性剂加入,浸锌液稳定性明显改善;表面活性剂对浸锌层的表面形貌和耐蚀性影响较大,添加阴离子表面活性剂的浸锌层细小致密,耐蚀性能良好.     

铜基材乙醇体系浸镀银工艺的研究

为解决传统水相体系浸镀银所存在的问题,笔者采用乙醇溶液体系,以硝酸银为主盐,乙二胺为络合剂,并就银离子浓度、络合剂与银离子摩尔浓度比以及镀液pH值等工艺参数,对紫铜浸镀银镀层性能的影响进行了研究.试验结果表明:当银离子质量浓度为2.0 g/L,络合剂与银离子摩尔浓度比为4∶1,镀液pH值为9.8,温度为室温时,可以在紫...     

表面活性剂对镁合金浸锌的影响

研究了阳离子型表面活性剂(十六烷基三甲基溴化铵)、阴离子型表面活性剂(十二烷基苯磺酸钠)以及非离子型表面活性剂(聚乙二醇)对镁合金浸锌液的稳定性、浸锌层表面形貌和耐腐蚀性能的影响。结果表明:随着表面活性剂加入,浸锌液稳定性明显改善;表面活性剂对浸锌层的表面形貌和耐蚀性影响较大,添加阴离子表面活性剂的浸锌层细小致密,耐蚀性能良好。     

低温化学镀镍中络合剂作用研究

研究了络合剂在低温化学镀镍槽液中的作用.试验表明,络合剂的正确选择是低温镇工艺实现的关键,络合剂的稳定性不但影响槽液的稳定,而且对镀速和镀层质量都有重要影响.络合剂的稳定性与其结构及配位原子性质、位阻效应等关系密切.选用复合络合剂,有利于调整镀速与镀层质量.络合剂的缓冲作用对提高镀速有利.     

工艺参数对镁合金表面浸锌层的影响

采用扫描电镜、极化曲线测试等方法研究了浸锌液的主要成分及工艺参数对锌层表面形貌及性能的影响。结果表明:浸锌液中主盐硫酸锌的浓度、浸锌温度及浸锌时间对浸锌层质量均有较大的影响。在本文的基础配方基础上,最佳的浸锌液组成及工艺条件为:硫酸锌30 g/L,浸锌温度70℃,浸锌时间6 min。在最佳浸锌条件下得到的锌层结晶致密、表面覆盖度较好,且具有良好的耐蚀性能。     

微量元素对热浸镀锌波形梁钢护栏防腐层质量的影响

热浸镀锌工艺目前广泛应用于高速公路波形梁钢护栏防腐处理.在生产过程中护栏及锌液中不可避免地存在或人为添加一些微量元素,这些微量元素对热浸镀锌层的质量起关键性作用,不适当的使用可能造成各种缺陷.对护栏材质中微量元素(C、Si、P、S)以及锌液中的微量元素(Fe、Al)对热浸镀锌影响成因进行了分析,并简单介绍了由此造成缺陷的解决方法.     

乙二胺对铜基材浸镀银的影响

为了克服铜基材在简单银盐溶液中浸镀银时易产生浮银层的问题,利用容量滴定法、电化学方法和扫描电子显微分析等手段,研究了添加络合剂乙二胺对铜基材浸镀银沉积速度、沉积过程以及镀层形貌的影响.结果表明:添加络合剂乙二胺后,不仅使银在铜基材表面的沉积速度减小,还使吸附的银原子沿铜基材表面生长,从而获得均匀致密的银镀层.     

常温下镁锂合金浸锌溶液及一次浸锌

为了在常温下对镁锂合金表面进行浸锌,采用有机酸盐络合剂在传统浸锌溶液基础上制备新型浸锌溶液,对镁锂合金表面进行一次浸锌研究.采用扫描电子显微镜、电化学分析仪对一次浸锌层的微观形貌和电化学性能进行分析,结果表明常温下利用新型浸锌溶液可在镁锂合金表面得到细小、致密均匀的一次浸锌层,浸锌时间为5 min时锌晶粒基本覆盖了镁锂合金表面,并且此时镁锂合金的腐蚀电位正移幅度最大,腐蚀电流最小,容抗弧半径、溶液电阻和电荷转移电阻最大,镀镍层耐腐蚀性好.与基体的结合力最好,说明一次浸锌5 min时效果最佳.     

Process of electroless plating Cu-Sn-Zn ternary alloy

1 Introduction Electroless plating tin and tin alloy is an attractive technique to produce function plating layer with prior performances of corrosion resistance and decoration[1, 2], due to the possibility of uniform deposition on complex shapes, conduct…     

铝合金电镀工艺研究

铝及铝合金性质活泼，需经预处理才能进行电镀。采取二次浸锌的方法，在铝合金表面形成了一层锌层，再电镀暗镍、亮铜及装饰铬，得到了质量较高的镀层，并对实验过程进行了分析和讨论。     

电镀防护性锌基合金镀层钝化膜的耐蚀性

防护性锌基合金镀层钝化膜的耐蚀性比锌镀层钝化膜提高２－４倍。ＸＰＳ及ＡＥＳ分析表明,合金镀层钝化膜与锌镀层钝化膜均由ＣｒＯ３、Ｃｒ２Ｏ３、Ｚｎ（ＯＨ）２、ＺｎＯ及Ｈ２Ｏ等组成,并且ＣｒＯ３／Ｃｒ２Ｏ３的相对含量和Ｚｎ（ＯＨ）２／ＺｎＯ相对含量也基本相同,它们的区别在于,合金镀层钝化膜中总铬量较高,膜层完整、致密,镀层／钝化膜界面存在铁系金属的富集层,这是锌基合金镀层钝化膜具有高耐蚀性的主要原因。     

一种光亮碱性锌镍合金的电镀及彩色钝化工艺

探究了一种光亮碱性锌镍合金的电镀工艺,镀液的基本组成为:ZnO,NiSO4,NaOH和三乙醇胺.采用中性盐雾试验方法测量了两种不同的钝化层的耐蚀性能.结果表明,低铬彩色钝化工艺,获得了光亮度好、连续的彩色钝化膜,具有较高的耐腐蚀性能.     

锌镍合金镀工艺优化及镀层耐腐蚀性的研究

目的研究锌镍合金镀层的耐腐蚀性能。方法通过正交试验法,对锌镍合金电镀工艺进行优化,获得镀液配方。通过中性盐雾试验评判优化后的锌镍合金镀层的耐腐蚀性能,并与镀锌层和镀镉层进行对比。分析主盐、络合剂、p H值、电流密度、温度等对镀层耐腐蚀性的影响。结果最优配方为:氧化锌6~14 g/L,硫酸镍20~30 g/L,氢氧化钠100~140 g/L,光亮剂4~6 g/L,络合剂50~70 g/L。该配方获得的锌镍合金镀层在中性盐雾实验中,出白锈的时间可以达到720 h以上。结论锌镍合金镀层的耐腐蚀性优良,优于镀锌层和镀镉层。     

稀土在铝合金表面处理中的应用及研究进展

评述了稀土在铝合金表面处理中的应用及研究进展,尤其是铝合金稀土表面转化膜技术和稀土对铝合金阳极氧化的影响两方面.稀土表面转化膜能够提高铝合金的耐蚀性能,工艺以化学浸泡为主;稀土对铝合金阳极氧化是有益的:它使铝合金接受极化的能力增强,同时提高氧化膜的抗蚀性.因此,稀土应用于铝合金表面处理具有良好的发展前景.     

Development of zinc oxide-rich inner layers in hot-dip zinc coating for barrier protection

The formation of ZnO composite-rich inner layers and its impact on the galvanization process and characteristics of hot-dip zinc coating were explored in the present study. Steel substrates were initially coated with a fragmented layer of ZnO and then subsequently galvanized. The presence of ZnO-rich inner layer influenced the galvanizing process substantially. The process resulted in the formation of more adherent layers with lower coating thickness. The presence of the inner oxide layer caused a modification of the inner alloy structure and the coating composition. The physical, mechanical as well as galvanic performance of the coating were also improved by the presence of the ZnO-rich inner alloy layers.     

TC4钛合金阳极氧化着色膜显色规律探讨

目的在不同电解液、电压等工艺参数下对TC4钛合金进行阳极氧化,获得彩色膜,分析探讨着色膜颜色随不同工艺参数变化的显色规律,并通过该显色规律分析着色膜显色机理。方法分别选用NaOH电解液、H3PO3电解液、Na2SiO3盐溶液对Ti6A14V钛合金进行氧化着色。通过金相显微镜、SEM、XRD、AFM和3nh色差仪等测试方法,分析氧化膜层显微组织、形貌特征、物相成分、膜层厚度与颜色变化。结果3nh色差仪测得膜层颜色值(L^*、a^*、b^*)随电压具有周期变化规律。在电压参数为120 V左右的起弧电压之前,三种电解液阳极氧化着色膜均是由非晶态的钛氧化物组成,显色规律一致,氧化膜层致密均匀,只是生长速率稍有不同。膜层显色是干涉加强光色与干涉减弱光色的互补光色的共同作用。通过钛合金氧化膜干涉光程差公式修正,推导出了薄膜厚度的理论计算公式,且AFM测试结果与理论计算得出的膜厚基本一致。随着电压继续升高,电解反应剧烈,宏观表面观察到微弧放电现象,电解过程过渡到微弧氧化阶段。结论在低电压阳极氧化阶段,TC4钛合金着色膜层是由致密均匀的非晶态钛氧化物组成,膜层生长方式是随电压均匀层状生长,显色原理主要是薄膜干涉原理。通过控制电压参数,可控制膜层厚度,继而得到理想的颜色。在Na2SiO3盐溶液中的膜层生长速率为1~1.7 nm/V。     

Influence of alloying elements on the corrosion resistance of rolled zinc sheet

The influence of alloying elements on the corrosion behaviour of rolled zinc sheet in aqueous media has been investigated by means of electrochemical techniques. All the changes in corrosion behaviour seen in this study could be attributed to modification of the formation or the stability of the passivating oxide film on the zinc surface. A low concentration of copper (0.6 wt.%) inhibited the formation of the passivating film and reduced the stability of the film. Conversely, a low concentration of chromium (0.5 wt.%) accelerated the passivation process and raised the stability of the film. The passivation and corrosion behaviour shown by a commercially produced ternary alloy containing copper and titanium additions was almost the same as the behaviour shown by a model binary alloy containing only copper. All the results obtained in this study were consistent with the hypothesis that alloying elements alter the electron-conducting and/or ion-conducting properties of the passivating oxide film.