太阳能集热管镀膜设备与工艺

本文较全面的阐述了利用磁控溅射镀膜设备镀制真空玻璃太阳能集热管选择性吸收涂层（薄膜）新技术，并对适于批量生产高效率高性能的太阳能集热管的先进设备和工艺进行了论述。其设备结构简单、操作方便、性能稳定可靠，薄膜材料来源方便、价格低廉，所镀膜层均匀牢固，使用寿命长，具有较高的集热效果，其吸收率值高达０．９５～０．９７，辐射率为０．０５～０．０８；镀管成品率较高，可达９５％以上，成本低，与化学工艺相比，可降低成本４８％。可见具有明显的经济效益。同时这一新工艺无环境污染，工作人员劳动强度低，对身体无害。     

大面积浮法玻璃深加工技术──现代建筑玻璃真空镀膜工艺技术与关键设备的研究

本文综合介绍了现代建筑玻璃的功能要求，以及大面积浮法玻璃深加工中真空镀膜工艺技术，并以实验为基础提出工业性生产样机模型，同时也着重讨论了该种设备一些设计方案问题。     

离子镀锆,氮化锆的耐蚀性研究

采用多弧离子镀技术在１Ｃｒ１８Ｎｉ９Ｔｉ表面涂覆Ｚｒ、ＺｒＮ涂层，通过Ｘ－射线衍射物相分析，可知ＺｒＮ涂层由单相ＺｒＮ（ｆ．ｃ．ｃ）组成，且有较强的（１１１）面择优取向，采用塔菲尔曲线相交法，测定了涂层在两种介质中的腐蚀电流。用室温全浸泡试验，测定了涂层在２０％ＨＣｌ和２０％Ｈ２ＳＯ４溶剂中的腐蚀速率，并在扫描电镜下观察了涂层腐蚀后的表面形貌，测量了涂层的力学性能。结果表明，Ｚｒ膜的耐蚀性明显优于     

铀上离子镀铝工艺研究

本文介绍了铀上离子镀铝使用的离子镀装置及离子镀工艺实验的主要结果。重点介 绍了过渡轰击镀的工艺措施及对提高离子镀的膜质量及抗腐蚀性能所产生的明显效果。     

HCD法镀氮化钛的设备及工艺

ＫＹＬＤ－６２０型装置是采用 ＨＣＤ法蒸镀氮化钛膜层生产设备，它开创了使离子镀膜新技术由试验室走向较大规模工艺生产的新途径。该设备功率大、产量高，结构新颖，参数合理，布局紧凑，操作方便。设备主要用这为在表带上蒸镀 ＴｉＮ装饰膜，但更换适当的夹具及反应气体，可扩大其应用范围。 该装置的研制成功，不仅扩大了装饰镀膜的应用范围，丰富了人民的物质生活，而且，为国家节省了大量的黄金。仅以表带为例，年产量为十八万条（九十万块中型表壳），每年可为国家节省黄金一万二千克。     

高速钢刀具多弧离子镀TiN涂层研究

本文结合了刀具　ＴｉＮ涂层多弧离子镀设备（美国多弧设备公司－Ｍｕｌｔｉ－Ａｒｃａｃｕｕｍ　Ｓｙｓｔｅｍ　Ｉｎｃ．生产ＭＡＶ－３２型多弧离子镀设备）实际生产需要，在工艺允许范围内改变氮气压力、工件负偏压、靶源电流和基片温度，利用电子探针、Ｘ－射线衍射仪、透射电镜和扫描电镜等分析仪器，对ＴｉＮ涂层进行了成分、相结构及显微组织分析研究，得出了比较切合实际的评价。     

复材表面电弧离子镀镀铝膜性能研究

为了减小复材天线反射器在高频段的反射损耗,利用电弧离子镀膜技术在其表面镀Al膜。用万能拉伸测试仪、表面轮廓仪、SEM、XPS、XRD、Z-82数字式四探针测试仪对其性能进行评价。发现薄膜致密、均匀、形成晶体结构,导电性能接近块体Al材。通过XPS研究发现,组成薄膜的金属元素和基底中的氧、碳等元素发生了反应。在拉拔试验中,复材基底成分层状脱落,薄膜和复材基底附着完好。说明组成薄膜的Al元素在界面处和基底材料发生反应,形成化学键,提高了附着力。     

工具材料的研究现状

综述了工具材料——高速钢、硬质合金、陶瓷刀具材料及超硬工具材料的国内外研究成果、研究现状与发展趋势。     

低能氮离子轰击对HCD离子镀Ti膜层的影响

采用ｘ－ｒａｙ衍射、电子衍射、电子探针、二次离子质谱及俄歇电子能谱等分析方法研究了低能氮离子轰击对不锈钢基材上 ＨＣＤ离子镇 Ｔｉ膜层的组成，结构及界面状态的影响。结果表明，轰击后膜层的化学组成和结构以及界面状态均发生了较大变化．在较低的基体温度下，Ｎ元素就能够渗入 Ｔｉ膜层并与之反应形成 Ｔｉ、Ｎ或 ＴｉＮ相。在适当的轰击电压下，Ｎ元素能够渗入基体，促进界面反应生成 Ｆｅ２Ｔｉ或 ＦｅＴｉ界面相，可见。低能离子轰击对于激活化学反应，降低沉积温度并改善膜基界面结合强度是十分有益的。     

新一代滚镀设备

为了解决因镀件大小、形状、品种及镀液浓度变化而需要方便、快捷调速问题,开发了一种以聚丙烯材料注塑的拼板式电镀滚筒和一种新型的、国内外先进的无级变速器,同时驱动多个滚筒的滚镀传动,从而获得最佳电镀效果,为实现滚镀自动化生产提供了理想的方案.     

离子镀钛和氮化钛镀层的电化学腐蚀特征

测定了蒸镀钛(VE-Ti)、离子镀钛(IP-Ti)、氮化钛(TiN)和添加钇改性的氮化铁(Ti(Y)N)镀层在两种酸性腐蚀介质中的极化曲线;用电子探针显微分析手段研究了镀层的电化学腐蚀特征。结果表明,小孔腐蚀是钛镀层的主要腐蚀破坏形态,但孔隙度大和粘附性差使VE-Ti呈现比IP-Ti镀层更加严重的腐蚀剥落行为;TiN镀层抗点蚀性能极好,因此,均匀腐蚀成为TiN镀层电化学腐蚀破坏基木形态,但局部存有富硫贫钛的“树枝状”堆积物。     

工作真空度对HCD法离子镀的影响——氮弧与氩弧特性的比较

自七十年代Moley把空心阴极等离子电子枪应用于离子镀,创造出HCD离子镀法以来,小宫宗治又继续做了大量工作,使之得到了大规模的生产应用.在我国迅速发展起来的多种离子镀技术中,HCD法离子镀在生产应用中占有很大的比重,它最先被普遍地应用于耐磨仿金装饰镀和刀具的超硬膜涂覆中.HCD法离子镀具有设备简单,使用安     

HCD离子镀(Ti,A1,V)N合金薄膜的实验研究

用空心阴极放电(HCD) 离子镀方法,以下TiA1V合金为蒸发源材料,生产出一种具有(Ti,A1,V) N的合金化薄膜.获得的膜是A1,V替代Ti原子的组态.A1,V的引入,组织没明显的变化.薄膜具有符合刀具膜层的较高硬度,可期望得到好的韧性和抗氧化性能.     

VRC－3200型薄绝缘环氧树脂真空浇注设备及工艺研究

本文简述了一种在干式变压器生产中具有重要意义的设备——ＶＲＣ－３２００型环氧树脂真空浇注设备。结合各个部分的作用及相应的工艺参数，介绍了整套设备的工作原理及结构特点     

管式结晶器电镀设备及其电镀工艺

本发明提供了一种方坯连铸机用的管式结晶器铜管内壁电镀设备和利用这种设备对管式结晶器进行电镀的工艺。该电镀设备包括镀液贮槽、过滤装置及相关的控制装置和连接管路，其电镀槽由作为电镀阴极的管式结晶器铜管、夹具密封盖、阳极钛篮组成，电镀工艺是将结晶器内表面脱油处理后，用含有氨基磺酸钴、钨酸钠、氯化氢、硼酸、十二烷基硫酸钠、     

精密Nd-Fe-B永磁体的HCD法防蚀涂层

本文介绍了用HCD方法在精密Nd—Fe—B永磁体表面沉积耐高温高压水蒸气腐蚀涂层技术,并研究了涂层和基底近界面处的某些成分和结构特征。     

数控工具磨床中的测量技术

数控工具磨床是现代加工制造领域中复杂形状刀具制造和修磨的关键设备,要加工出高性能的刀具,数控工具磨床必须安装高精度的自动测量和对刀系统。本文详细讨论了数控工具磨床中的刀具测量技术。