电色膜和电色器件的光电特性

介绍了电子束蒸发沉积ＷＯ３膜在０．５ｍｏｌ／ＬＨ２ＳＯ溶液和ＮｉＯｘ膜在１ｍｏｌＫＯＨ溶液中的电色性能；介绍了沉积到玻璃片上的ＩＴＯ膜作透明导电极、光学上活性的ＷＯ３阴极变色膜作工作电极，光学上活性的ＮｉＯｘ阳极变色膜作反电极（贮存电荷度样的贮存器）１ｍｏｌＬｉＣｌＯ４丙酮溶液的电解质锂离子导体组成的互补型电色器件的光电特性。     

基于WO3膜,V2O5膜和Li聚合物凝胶电介质构成的电色器件

基于玻璃／ＩＴＯ／ＷＯ３／ＰＭＡ＋ＬｉＣｌＯ４＋ＰＣ／Ｖ２Ｏ５／ＩＴＯ／玻璃结构的叠型电色器件的研制是为潜在作大面积的Ｓｍａｒｔ窗用。制备的聚合物凝胶电介质室温时最大的离子电导率为１．９２×１０＾－３Ｓ／ｃｍ,在波长４００～２０００ｎｍ范围的透射比为７５％～９０％,并且有优良的自粘两个玻璃电极的能力。对这种叠型ＷＯＰ３／Ｇｅｌ／Ｖ２Ｏ５器件,在６３３．３ｎｍ单角光作用下的透射比变化为６３％（７５６     

普鲁士蓝单膜电致变色器件

本文介绍了普鲁士蓝的电致变色性质,用电化学方法制备普鲁士蓝膜时应注意的问题以及制作单膜电致变色器件的体会。     

电色smart窗

综述了电色ｓｍａｒｔ窗的由来、设计准则、窗的基本结构。介绍了组成窗的各层膜特性，某些试制型窗的实例，还探讨了电色开关窗器件的耐久性问题。     

电色smart窗

综述了电色smart窗的由来、设计准则、窗的基本结构。介绍了组成窗的各层膜特性，某些试制型窗的实例、还探讨了电色开关窗器件的耐久性问题。     

以聚合物凝胶为电解质的多层全固态电变色器件的研究

本文在掺ＬｉＣｌＯ４与碳酸丙烯酯的聚乙二醇固体电解质离子电导特性与ＷＯ３、ＮｉＯ薄膜离子插入性能研究了基础上，设计并制备了互补型ＷＯ３／ＮｉＯ全固态电变色器件。同时研究了该器件变色过程的循环伏安特性与不同状态的可见、近红外透过特性。结果表明，互补型的ＷＯ３／ＰＥＧ－ＬｉＣｌＯ４－ＰＣ／ＮｉＯ器件在可见与近红外均具有良好的电变色特性，其漂白态在波长６００ｎｍ的透过率为７０％，着色态为２０％。     

ECR Plasma CVD淀积光电器件介质膜的工艺模拟

以实验数据为基础,运用人工神经网络方法,建立了电子回旋共振等离子体化学气相沉积（ＥＣＲ Ｐｌａｓｍａ ＣＶＤ）淀积硅的氮、氧化物介质膜的折射率、速率与气流配比Ｑ（Ｎ２）／Ｑ（ＳｉＨ４）和Ｑ（Ｏ２）／Ｑ（ＳｉＨ４）关系的数学模型,此模型在给定气流配比Ｑ（Ｎ２）／Ｑ（ＳｉＨ４）和Ｑ（Ｏ２）／Ｑ（ＳｉＨ４）时所预测的成模折射率跟实验值符合得很好,为ＥＣＲ Ｐｌａｓｍａ ＣＶＤ淀积全介质光学膜的工艺打下坚     

电致变色器件关键材料凝胶聚合物电解质研究进展

凝胶聚合物电解质是构成电致变色器件(ECD)的关键材料,其在器件中作为电极间的传导介质,为电致变色反应提供补偿离子.利用不同基体材料制备的凝胶聚合物电解质对提高电致变色器件性能具有重要影响.综述了聚环氧乙烷(PEO)、聚丙烯腈(PAN)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚偏氟乙烯(PVDF)、聚偏氟乙烯-六氟丙烯(PVD...     

电致变色材料、器件及应用研究进展

电致变色材料具有结构可控、色彩丰富、成本低廉、节能低耗等特点,是目前最具应用前景的智能材料之一.概述了电致变色器件的基本结构、变色机理,着重介绍了电致变色器件各层材料(透明导电层、电致变色层、电解质层、离子储存层)的特性要求及研究现状,举例说明了其在智能窗、防眩目汽车后视镜、电子纸、传感器、军事伪装中的应用.     

聚苯胺-普鲁士蓝全固态电致变色器件的制备及特性

电沉积法制备的聚苯胺-普鲁士蓝(PANI-PB)电致变色层与KCl掺杂的聚2-丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸(PAMPS)的离子导电层相结合,组装制得8.5×12.5cm2全固态电致变色器件.该器件只需1～2 V的驱动电压,即可显示出良好的着、退色性能,当驱动电压为零,器件自身着色.紫外-可见分光光度计表征表明,该器件在600nm处的光可调节范围达到60%,具有较好的应用前景.     

氧化铟锡(ITO)膜的光学及电学性能

在基片加热状态下，利用直流平面磁控反应溅射技术制备重掺杂In2O3：Sn薄膜，研究其光学及电学性能。从光谱测量出发计算了膜的折射率及消光系数，并确定了膜的有效禁带宽度为4．25eV，比未掺杂的In2O3有更宽的禁带宽度。测量In2O3：Sn．膜的霍耳系数，并从介电常数的计算获得了膜的电子浓度约1020／cm3。     

酞菁LB薄膜及其旋涂膜光学性质的研究

制备了四新戊氧基酞菁锌的ＬＢ膜和旋涂膜,测定了这两各大不同温度退火后的吸收光谱,采用ｐ－ｗ偏振双面反射法测定了两种薄膜在不同温度退火后的折射率ｎ和消光系数ｋ,发现这两种薄膜不仅具有相似的光学常数的数值,而且表现出相似的随温度变化的趋势。     

Ti1-xVxO2薄膜的制备及光电性能

用溶胶凝胶法制备了Ti1-xVxO2薄膜，用X射线衍射分析了Ti1-xVxO2的结晶性能，用Lambda紫外－可见光光度计测量了吸收光谱，用ZC36高阻仪测量了Ti1-xVxO2薄膜样品的电性能，结果表明，钒含量的增加导致Ti1-xVxO2薄膜光学吸收限红移，在形成固溶体后薄膜的电阻率随钒含量增加而下降，在x=0.15时，V2O5相的出现使Ti1-zVxO2薄膜的电阻出现一峰值，Ti1-xVxO2薄膜电阻率的这种变化规律是由于V的3d电子的引入和薄膜结晶性的变化。     

等离子体聚丙烯薄膜的电子及温敏性能

在射频辉光放电条件下制备出等离子体聚丙烯薄膜，用红外吸收光谱、用Ｘ射线光电子能谱分析了聚合膜的本体及表面结构；测量了聚膜的电气特性和湿敏特笥。     

等离子体聚丙烯薄膜的电气及湿敏性能

在射频辉光放电条件下制备出等离子体聚丙烯薄膜．用红外吸收光谱（ＩＲ）、用Ｘ射线光电子能谱（ＸＰＳ）分析了聚合膜的本体及表面结构；测量了聚合膜的电气特性和湿敏特性。     

TO与ITO透明导电薄膜光学性质研究

研究了非标准配比SnO_x(TO)及In_2O_3重掺杂锡(ITO)的透明导电薄膜的光学性质,采用透-反射法及透射法确定了它们的光学常数n与k,讨论了透-反法中的多值问题。俄歇电子分析表明ITO中Sn原子浓度约6.5%。     

真空度对TiO_2薄膜光学和结构特性的影响

为制备高性能TiO2光学薄膜,采用离子束辅助,电子束蒸发沉积的方法,研究不同真空度对薄膜性能的影响。真空度随真空室内通氧量增大从1.3×10-3Pa变化到2.5×10-3Pa,得到不同光学和结构特性的TiO2薄膜。采用分光光度计测试其光谱,SEM测试其表面形貌。测试结果发现,TiO2薄膜的透过率峰值随真空度降低而增大,折射率和消光系数随真空度降低而减小,薄膜表面形貌随真空度降低从致密变粗糙。在真空度2.0×10-3Pa的工艺条件下,成膜质量最佳,此时最大透过率92%,折射率在2.45～2.20之间,消光系数在10-4以下。根据Cauchy公式拟合其色散规律,拟合曲线和采用包络法计算得到的曲线较好重合,折射率随波长的变化公式为n(λ)=2.12+5.69×104/λ2+8.07×107/λ4。     

软基片上ITO薄膜的光电特性

利用直流反应磁控溅射技术,室温下在聚脂膜基片上制备了优良的ITO透明导电薄膜．研究了沉积速率,靶基距,氧流量以及厚度对薄膜光电性能的影响．所得薄膜的最低电阻率为4．23×10-4Ω·cm,可见光区平均透射率大于78％．对应于低电阻率（～10-4Ω·cm）和高透射率（～78＄）的反应窗口较文献中已报道的数据明显扩大．     

类金刚石碳膜的红外特性研究

用射频等离子体方法分解甲烷，在Ge片上制备了类金刚石碳（DLC）膜。该膜折射率在2左右，具有较好的增透作用。双面镀DLC膜系统的红外透射比，随膜厚不同，其极大值在3．8～10．6μm范围内，在10．6μm处红外透射比达94．5％、镀制在直径为100mmGe基片上的DLC／Ge／DLC膜系、在10．6μm处，膜片中心的红外透射比为93．9％，距中心不同距离的5个点的红外透射比为91．1％，该膜系具有非常好的均匀性和红外增透性。通过计算获得了DLC膜的光学吸收系数曲线，该膜在3．8μm附近吸收系数为10cm-1；在10．6μm处吸收系数为600cm-1，并对该吸收曲线进行了讨论。