激光束外延促进超导薄膜生长

激光束外延促进超导薄膜生长大贩大学已发展一种用激光分子束外延生长１５０～１７０Ｋ氧化钙银铜（ＣａｏｓＳｒｏ，ＣｕＯ；。）高温超导薄膜的技术。该技术具有产生不连续界面，可进行原子水平的单层淀积控制。用激光烧蚀和计算机控制的分子束外延装置淀积（Ｃｈ，Ｓｒ...     

激光分子束外延

激光分子束外延是在传统分子束外延和普通激光淀积技术基础上发展起来的一种最新制备薄膜和人工超晶格方法。本文介绍了激光分子束外延的工作原理，与传统分子束外延和普通激光淀积技术的区别，主要特点和发展现状，并对其前景进行了简要的评价。     

影响1.06μm光学薄膜激光损伤因素的实验研究

本文对光学薄膜淀积过程中真空室的真空环境对薄膜激光损伤的影响了理论与实验方面的分析，对分子泵，扩散泵真空系统及扩散泵＋离子束辅助淀积（ＩＡＤ）制备出的膜系样品所进行的损伤实验表明，分子泵系统制备出的薄膜显示出较高的损伤阈值。     

激光诱导化学气相淀积SiO_2薄膜

已经证明,用气相施主分子,可以快速（3O00A/分）的进行光化学淀积二氧化硅。利用ArF激光器（193nm）来激励并离介硅烷（SiH_4）和笑气（M_2O）分子进行淀积,与早期的用汞灯不相干光进行辐照淀积氧化物相比,其淀积速度快,可达到汞灯的20倍的淀积速率,在特定范围内,受离介反应的限制。并受紫外光（UV）对衬底直接碰撞的影响。     

深冷中性铝团簇的产生和光电离

报道了用激光蒸发／分子束方法产生深度冷却的中性金属团簇。产生的铝团簇Ａｌ．（ｎ＝２，……，６，７）用１９３ｎｍ的准分子激光电离，由飞行时间质谱（ＴＯＦＭＳ）探测。对激光蒸发／分子束技术产生的团簇束的特点作了简单评述并与其它团簇源作了比较。     

激光等离子体淀积硅薄膜过程动力学研究

采用强TEA CO_2脉冲激光辐照SiH_4/H_2系统,对SiH_4激光等离子体淀积硅膜进行了研究,测量了膜淀积及膜性能随淀积条件的变化关系.同时采用光学发射光谱、光声激光偏转方法对其基本的微观和宏观动力学过程进行了研究,在此基础上初步建立了膜淀积的物理模型,计算了膜淀积速率、膜面积等,结果与实验符合得较好.     

激光辅助固态薄膜淀积技术的进展

本文综述了近年来激光辅助固态薄膜淀积技术的进展。简要概述了脉冲激光蒸发淀积(PLED)和激光诱导化学气相淀积(LCVD)的基本原理、淀积系统和激光器。侧重详细介绍了这种技术在制备微电子器件所需要的高Tc超导体膜、金属膜、半导体膜和介质膜中的应用。     

激光在玻璃内诱导功能晶体新进展

玻璃在外部激光的连续辐照下,由于材料的线性或非线性吸收激光能量不断淀积于玻璃体内,并在激光焦点区域形成热积累效应导致相关区域的玻璃材料转变成晶体.通过选择不同的激光器和玻璃基体,在玻璃体内能在二维或三维空间内控制晶体的形成.综述了国内外利用激光在玻璃材料中诱导非线性光学晶体的相关成果和最近进展以及作者在这方面开展的工作,并就激光选择性诱导晶体的理论作了一些简要介绍.     

有机半导体波导和双异质结构器件的激光作用

自60年代后期首次演示接染料凝胶和分子晶体的激光作用以来，固体有机材料光泵所产生的受激发射已变得众所周知。对该领域的兴趣也因聚合物有机薄膜和轻分子量有机薄膜的高效、长寿命和很强电致发光的演示而复苏，此种现象象征着这些材料具有产生激光作用的可能性。最近对光泵聚合物几个研究的报导意味着有激光发射的现象。这里介绍圆盘波导和双异质结构中光泵真空淀积有机分子薄膜时产生激光作用的明显证据。在有机导电薄膜中实现激光作用将开辟发展新一类电泵浦激光二极管的道路。根据如下五个现象可对激光发射（与放大自发辐射不同，这里…     

《薄膜物理学》

本书第二版在第一版的基础上进行了修订,并在内容上有所增加。近几年来,薄膜物理学和薄膜技术的发展令人瞩目,本书力图阐述这些发展中最重要的特征。目前,在淀积方法中最令人注目的是离子加速法和分子束外延。本书导言中介绍了电子束淀积,离子束淀积和激光淀积。对于较先进的薄膜诊断方法以及成膜和薄膜物理特性补充了新的见解。其内容致力于应用,力图使读者把注意     

具有分束和聚焦功能的氮化硅二元位相型光学元件

报道了自行设计的将二维Ｄａｍｍａｎｎ光栅和Ｆｒｅｓｎｅｌ波带板集成为一体的同时具有分束和聚焦功能的二元位相型光分束器，并用等离子体增强化学气相淀积法（ＰＥＣＶＤ）制备的非晶氨化硅（α－ＳｉＮｘ：Ｈ）薄膜制作了这样的元件，成功地实现了设计的功能，分束阵列为３×３，焦距为１８ｃｍ，分束后的光强分布相对误差小于５％。     

离子辅助淀积镀膜技术的应用

在亚利桑那大学和其它单位正在继续进行一项有很大希望的离子辅助淀积镀膜技术。用普通方法淀积的透射膜，各次工作之间的折射率会发生变化，有时甚至单层膜也如此。周围环境的湿度由于微气孔对水的吸收或解吸也使折射率变化。因此清除这些气孔和其它结构特性(由于到达基底的附加原子的有限迁移率所致)，可以形成更致密、更稳定和更均匀的淀积层。这样，就能制作更完善的多层光学膜。     

激光化学汽相淀积薄膜微透镜的设计与实践

本文介绍了采用激光化学汽相淀积（ＬＣＶＤ）技术淀积氮化硅薄膜微透镜的系统与工艺的设计。实践表明，按要求建立了ＬＣＶＤ的实验装置后，只要适当控制源气体的化学配比与浓度，调节激光功率与衬底上的光斑尺寸，选择淀积时间，就可以淀积出不同直径、透明、表面光滑的氮化硅薄膜微透镜。     

激光技术在分子束外延中的应用

激光具有波长选择范围宽，强度高和方向性好等优点，已在许多科学技术领域发挥了重要的作用。近年来，激光又被用于分子束外延（ＭＢＥ）技术中，并取得了很大进展。本文论述了在ＭＢＥ薄膜生长中，激光气体离化原位分子束组分监测，激光溅射产生外延分子束源以及这些新技术在材料生长中的应用。     

溅射和激光淀积的ZnO多晶薄膜的结构和发光性质

我们分别通过直流反应溅射及脉冲激光淀积法制备了ZnO多晶薄膜。X射线衍射结果显示出薄膜的c轴取向。原子力显微镜证实薄膜的多晶结构。两种方法制备的ZnO在光子激发下都发射较强的带边荧光。绿色荧光未被观察到。激光淀积在(001)硅表面的ZnO的发光源自“自由激子”辐射。激光淀积在(0001)氧化铝晶体表面的ZnO的发光机制则在相当宽的激发强度范围内都呈现出电子．空穴等离子体(electron-hole plasma)的复合特性。     

中红外薄膜的离子辅助淀积

本文研究了用离子束辅助淀积的中红外ＺｎＳ，ＺｎＳｅ，ＹｂＦ３，ＢａＦ２，ＢａＦ２＋ＣａＦ２（６：４）膜在３．８μｍ波长处光学特履和其它性能，用透射电镜和光电子能谱仪研究了这些单层膜微结构和化学计量比。实验发现离子束辅助淀积膜层填充密度增加，附着力增强，机械强和环境稳定性得到明显改善。用离子束辅助淀积的中红外反射膜在３．８μｍ波长反射率大于０．９９４。     

激光蒸发淀积法制备高Tc超导薄膜

本文简要介绍了激光蒸发淀积法制备高Tc超导薄膜的原理和实验装置，以及激光蒸发淀积技术在制备高Tc超导薄膜中的应用。     

脉冲激光纳米薄膜制备技术

脉冲激光薄膜沉积（ＰＬＤ）是近年来受到普遍关注的制膜新技术。简要介绍了该技术的物理原理;探讨了脉冲激光沉积制膜的物理过程,激光作用的极端条件及等离子体羽辉形成的控制对薄膜成长的影响;评价了脉冲激光沉积技术在多种功能材料薄膜,特别是纳米薄膜及多层结构薄膜的制备方面的特点和优势,结合自行研制的设备,介绍了在ＰＬＤ基础上发展起来的兼具分子束外延（ＭＢＥ）技术特点的激光分子束外延技术（Ｌ－ＭＢＥ）,指出脉冲激光沉积技术在探讨激光与物理相互作用和薄膜成膜机理方面的作用,尤其是激光分子束外延技术在高质量的纳米薄膜和超晶格等人工设计薄膜的制备上显现出的巨大潜力。     

影响激光诱导等离子体喷射速度的因素

利用光学多通道分析仪（ＯＭＡⅢ）分析了脉冲激光沉积ＢａＴｉＯ３薄膜过程中激光诱导等离子体束的飞行时间谱。根据不同实验参数与条件下等离子体束的飞行时间谱的特征，讨论了条件对等离子体喷射速度的影响。结果表明，在脉冲激光沉积薄膜的情况下，喷射等离子体的飞行速度主要依赖于作用于靶面的激光能量密度。     

超短高功率脉冲激光与物质相互作用及其应用

超短高功率脉冲激光系统的小型化实用化极大地促进了激光与物质相互作用的物理和应用研究。回顾加拿大魁北克大学国立科学研究院材料研究所（简称ＩＮＲＳ）的超短高功率脉冲激光产生高温高密度等离子体的最新研究成果及其在分子物理和辐射约束高温高密度等离子体物理中的应用。