LIGA掩模板的制备与同步辐射X射线深度光刻的研究

采用同步辐射进行深度Ｘ射线光刻是ＬＩＧＡ工艺的关键工序,它包括ＬＩＧＡ掩模板的制备、光刻胶的涂制与深度Ｘ射线光刻等多个工艺环节,该技术在深度比要求高的微光、微机械及微机电系统的元件制造领域有独特优势＾［１］,报道采用ＬＩＧＡ工艺制作微齿轮所涉及上述工艺的研究结果。     

LIGA技术制造微齿轮中X光掩模板图形的CAD设计

介绍了用ＬＩＧＡ技术研制用于微行星齿轮减速器的微齿轮过程中,Ｘ光掩模板图形的ＣＡＤ设计。它包括微齿轮的建模和图形的生成,微齿轮图形的分割及图形的拟合。     

一种可抵抗RS掩密分析方法的掩密算法

Fridrich提出的RS掩密分析方法,适合于检测采用随机嵌入的LSB掩密算法,不但可以检测信息的存在,还可以检测出嵌入信息的长度。文中对现有的空域LSB掩密算法加以改进,使改进后的算法可以抵抗RS攻击,从而进一步提高了LSB掩密算法的安全性。     

用相干激光束曝光孔点阵列图形的几种方法

将涂有光致抗蚀剂的硅片或其它光敏材料置于由多束相干光以某种方式组合构成的干涉场中,可以在大视场和深曝光场内形成孔、点或锥阵周期图形,光学系统简单廉价,不需掩模和高精度大NA光刻物镜,采用现行抗蚀剂工艺。文中介绍的双光束双曝光法得到的阵列图形周期d的极限为dm i n=λ/2,四光束单曝光的周期略大,为前者的2倍,三光束单曝光得到2/3 d周期的图形,并且图形不受基片在曝光场中位置的影响,适合大面积尺寸器件中周期图形的制作,而三光束双曝光和五光束曝光的结果是周期为2d的阵列图形,并且沿光轴方向光场随空间位置也作周期变化,适合在大纵深尺寸范围内调制物体结构。     

相位掩模板接缝相差对光栅时延纹波的影响

电子束刻蚀啁啾相位掩模板采用的是分步啁啾法,而掩模板制造过程中分步之间的接缝误差是啁啾光纤光栅产生时延纹波的一个重要因素。该文以分步步长1 mm,总长度140 mm的相位掩模板为例,理论分析和比较了不同接缝误差对啁啾光纤光栅时延纹波的影响。分析表明,最大相位误差为0.05 rad和0.08 rad时,光栅时延纹波的统计平均分别为14.491 ps和22.38 ps。进行相关试验研究以上相位掩模板写入光栅的时延特性,得出结论与理论分析一致。     

一种新的SOI射频集成电路结构与工艺

立足于与常规CMOS兼容的SOI工艺，提出了电子束／I线混合光刻制造SOI射频集成电路的集成结构和工艺方案。该方案只使用9块掩模版即完成了LDMOS、NMOS、电感、电容和电阻等元件的集成。经过对LDMOS、NMOS的工艺、器件的数值模拟和体硅衬底电感的初步实验，获得了良好的有源和无源器件特性，证明这一简洁的集成工艺方案是可行的。     

电子束刻蚀分步啁啾相位掩模板的优化

掩模板制造过程中采用的是分步啁啾方法,分步间长度容易出现误差,这种接缝误差是引起啁啾光纤光栅（CFBG）时延纹波的系统误差。理论分析了相位掩模板的接缝误差对CFBG时延纹波的影响。分析表明,对长度为140mm的掩模板采用1．4mm的步长,接缝误差影响最小。并进行了实验验证。     

基于波前编码的红外无热化光学系统相位掩模板热效应特性分析

分析了基于波前编码技术的无热化光学系统中相位掩模板的自身热效应,得到了不同温度下光瞳处相位板相位函数的变化.分析了由相位板热效应引起的波前编码系统成像特性的变化.通过数值及图像仿真证明了相位板热效应对波前编码无热化光学系统性能产生的影响.结果表明,相位板热效应对系统MTF(调制传递函数)的离焦不变特性和编码图像的可复原性产生严重的影响.     

基于相位掩模板的常规光纤制备弱反射光栅

为了探索采用常规单模光纤制备弱反射光纤光栅的可行性,以降低材料成本和传输损耗,基于相位掩模板法,在常规单模光纤上刻制弱反射光纤布喇格光栅(WFBG),并进行了实验验证.建立相位掩模板刻栅系统光场统一方程,分析光场分布对光纤布喇格光栅(FBG)中心波长和反射率的影响;采用传输矩阵法分析相位掩模板长度、平均折射率变化对FB...     

一种新型的快速模板匹配算法

提出了一种基于快速傅立叶变换的快速模板匹配算法。针对现有模板匹配算法运算量大,计算速度在现有技术条件下受到制约的问题,提出基于快速傅立叶变换的快速模板匹配算法,利用傅立叶变换中的卷积定理,结合快速傅立叶变换(FFT),将计算量大为减少,同时使用单指令多数据流(IMD)算法实现了加速,收到了良好的效果。     

一种自适应角域模板建立方法研究

模板匹配方法是一种常用的一维距离像识别方法。针对该方法应用中的姿态敏感性问题,提出了自适应姿态角域平均一维距离像模板建立的方法。通过理论分析证明平均一维距离像具有良好的稳健性。姿态角域平均一维距离像相关性分析表明自适应姿态角域平均一维距离像可以表征目标不同姿态下的一维距离像。利用实测数据,通过仿真测试表明自适应姿态角域平均一维距离像模板建立方法是可行的。     

一种新模板的图像边缘提取方法

为解决拉普拉斯和梯度等类算子提取图像边缘时算法复杂、程序化实现较为困难的问题,提出了一种新的横向和纵向模板算法,通过仿真实验,获得了优于梯度算子提取图像边缘的结果。并对以上算法进行改进,在边缘图像信息衰减微小的情况下,有效地改善了图像边缘的提取时间。利用该算法,对图像定位与匹配等领域进行了进一步的研究。     

一种数字光栅无掩模光刻对准方法

针对数字微反射镜装置(DMD)无掩模光刻系统,提出并研究了一种数字光栅无掩模光刻对准方法,将硅片的微位移放大显示在数字光栅与硅片物理光栅叠加产生的叠栅条纹中。建立了基于DMD的数字光栅无掩模光刻对准模型,设计了对准标记以及具体的实现方案,并对模型进行了数值仿真和初步的实验验证。结果表明,采用频率可变、图像干净、具有良好周期性结构的数字光栅代替传统的真实掩模光栅,真正实现了零掩模成本;并且采用变频率数字光栅可以扩大测量范围,减小位移测量误差。最终可以实现深亚微米的对准精度,满足目前无掩模光刻对准精度的要求。     

一种保持直方图特性的JPEG图像掩密算法

传统的JPEG图像掩密算法往往因为改变了载体图像的DCT系数直方图而不能抵抗各种基于直方图的攻击,或者为了矫正直方图而降低了隐藏容量,该文提出一种新的保持直方图特性的算法。该算法在嵌入秘密消息时,动态建立Adjust_info表记录系数直方图被改变的情况,然后根据该表调整系数的变化方向,这样不但可以补偿直方图的改变,而且并不降低隐藏容量。对多幅图像的实验表明,该算法不但能够达到13%的高隐藏容量(压缩因子为75),而且掩密后图像总体DCT系数直方图的平均失真率为0.81%。由改进算法掩密后图像低频DCT系数直方图的最大失真率为3.83%,平均失真率只有1.98%,仅对直方图做了微小的改变,因此可以有效抵御各种直方图攻击,从而为安全掩密提供了可靠保证。     

一种压缩语音识别模板库容量的方法

在非特定人孤立词语音识别系统中,模板库的容量成为限制识别范围和性能的重要原因,过大的模板库在成本和实时性方面都不利于语音识别系统的大规模使用。提出了一种用于大幅压缩语音识别模板库容量的方法,适用于非特定人孤立词识别系统。该算法借鉴生态学上各物种对专一环境和普通环境的适应程度上的折衷,通过类似不同生物间争夺食物的演化过程选出最具代表性的模板组成模板库。模拟结果表明,该算法通过去除近似雷同的模板以及在某些情况下用一个大模板取代数个模板,能在不显著影响识别率的前提下,明显减少所需模板库的容量。     

一种双目视觉的匹配模板优化方法

模板尺寸是双日图像灰度模板匹配算法的重要参数,针对单层砂轮的局部双目图像,提出了一种模板尺寸的优化选择方法.首先,对左图上的特征像素,给定模板尺寸,根据顺序相似性检测算法,求出该像素在右图上的匹配像素,同时求出相应的匹配曲线和匹配曲面;然后,改变模板大小,得到一族匹配曲线和匹配曲面;最后,在分析其物理意义和变化趋势的基础上,制定出合适的优化策略,得到优化匹配模板.实验结果表明,用优化模板进行的匹配运算,具有匹配精度高、运算速度快、抗噪能力强和误配率低等优点,具有一定的实用价值.     

一种新型全加器结构的设计

全加器是算术运算的基本单元，设计结构简单的全加器有利于缩小数字自理芯片的面积。根据最新的ＸＯＲ门结构设计了一种新的全加器，这种结构的一位全加器只用２０只ＭＯＳ管，对这种新的全加器，用ＰＳＰＩＣＥ进行了晶体管级模拟。结果显示，这种新的全加器能正确完成加法器的逻辑功能。     

一种用于暗域交替式相移掩模设计的自适应版图划分方法

提出了一种新的用于加速130nm以下工艺交替式相移掩模设计流程的版图划分方法,该方法能够自适应调整版图划分的粒度.讨论了消除相位冲突的方法和版图压缩中相位兼容性保持的策略.利用上述算法实现的CAD原型系统经多个工业界例子的测试表明能够有效地适应随版图尺寸而快速增长的相位冲突复杂性,同时提供较好的PSM设计质量,并能满足不同求解精度和加速比的要求.