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电子束光刻技术与图形数据处理技术 总被引:3,自引:2,他引:1
介绍了微纳米加工领域的关键工艺技术——电子束光刻技术与图形数据处理技术,包括:电子束直写技术、电子束邻近效应校正技术、光学曝光系统与电子束曝光系统之间的匹配与混合光刻技术、电子束曝光工艺技术、微光刻图形数据处理与数据转换技术以及电子束邻近效应校正图形数据处理技术。重点推荐应用于电子束光刻的几种常用抗蚀剂的主要工艺条件与参考值,同时推荐了可以在集成电路版图编辑软件L-Edit中方便调用的应用于绘制含有任意角度单元图形和任意函数曲线的复杂图形编辑模块。 相似文献
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在一种新的电子束曝光机二次曲线单元图的基础上定义了一种中间图形数据格式。该数据格式是为了将版图制造业标准数据格式转换为电子束曝光机专用数据格式服务的。它采用Niklans Wirth的表示方法进行定义,消除了二义性。经过实验性的程序验证,它不仅能很好地解决版图制造业标准数据格式不支持二次曲线的问题,而且图形设计人员可以直接以该数据作为标准,进行曝光图形的设计与存储。该数据格式的出现,为二次曲线单元图形在电子束曝光技术中的广泛应用奠定了良好的基础。 相似文献
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微光刻与微/纳米加工技术 总被引:2,自引:1,他引:1
介绍了微电子技术的关键工艺技术——微光刻与微/纳米加工技术,回顾了中国制版光刻与微/纳米加工技术的发展历程与现状,讨论了微光刻与微/纳米加工技术面临的挑战与需要解决的关键技术问题,并介绍了光学光刻分辨率增强技术、下一代光刻技术、可制造性设计技术、纳米结构图形加工技术与纳米CMOS器件研究等问题。近年来,中国科学院微电子研究所通过光学光刻系统的分辨率增强技术(RET),实现亚波长纳米结构图形的制造,并通过应用光学光刻系统和电子束光刻系统之间的匹配与混合光刻技术及纳米结构图形加工技术成功研制了20~50nm CMOS器件和100nm HEMT器件。 相似文献
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MOS电路的版图图形设计方法,大致可划分为三种:任意布线法、基本单元图形标准化法、PLA设计方法。本文用前三部分分别介绍这三种方法。第四部分对这三种方法进行比较,第五部分介绍复杂逻辑电路版图的总体考虑。 相似文献
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系统级芯片设计语言和验证语言的发展 总被引:1,自引:0,他引:1
由于微电子技术的迅速发展和系统芯片的出现,包含微处理器和存储器甚至模拟电路和射频电路在内的系统芯片的规模日益庞大,复杂度日益增加。人们用传统的模拟方法难以完成设计验证工作,出现了所谓“验证危机”。为了适应这种形势,电子设计和验证工具正在发生迅速而深刻的变革。现在基于RTL级的设计和验证方法必须向系统级的设计和验证方法过渡,导致了验证语言的出现和标准化,本文将对当前出现的系统级设计和验证语言进行全面综述,并论述验证语言标准化的情况。分析他们的优缺点和发展趋势。最后简单评述当前的验证方法,说明基于断言的验证是结合形式化验证和传统模拟验证可行的途径。 相似文献
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针对目前印制板保存格式多样和查错功能不够完善的问题,介绍了一种能读取多种印制板数据文件格式的方法,采用用户自定义规则与基本查错规则相结合对印制板进行审查并且能够直接在图形界面上对PCB板进行纠错,能按指定格式保存修改后的数据.该方法基于通用数据结构,使用多接口读取印制板文件,多出口反写文件,可以使多种EDA工具的印制板进行转换.基于这种方法实现的审查软件结构紧凑、占用磁盘空间少,可以根据个人需要查找印制板设计上的错误,降低设计周期,提高设计效率. 相似文献
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文章针对如何提高数字电子技术实验课程的实践性问题,介绍了EDA技术及多种主流EDA设计工具,比较了多种EDA软件实现数字电路的方法和各个软件实现的侧重点。提出了基于EDA技术的虚拟实验系统框架的构建设想,介绍了实验主框架和各个具体实现模块。 相似文献
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在摩尔定律的推动下,工艺节点在不断演进,集成电路设计复杂度也在不断增加,电子设计自动化(EDA)技术面临着来自运行时间与计算资源等诸多方面的挑战。为了缓解这些挑战,机器学习方法已被纳入EDA工具的设计流程中。与此同时,鉴于电路网表作为图形数据的本质,图神经网络(GNN)在EDA流程中的应用正变得越来越普遍,为复杂问题的建模以及最优问题的求解带来了新思路。该文首先对GNN与EDA技术的概念内涵进行了简要的概述,详细地梳理了GNN在高层次综合(HLS)、逻辑综合、布图规划与布局、布线、反向工程、硬件木马检测以及测试点插入等不同EDA设计流程中的主要作用,以及当前基于GNN的EDA技术的一些重要探索。以希望为集成电路设计自动化以及相关领域的研究人员提供参考,为我国先进集成电路产业的发展提供技术支持。 相似文献
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当今集成电路设计与制造流程中,必须使用EDA工具。设计人员在开发IC新产品时使用EDA工具,将极大地降低成本、节省设计时间和提高产品的可靠性。基于虚拟化技术的网络基础架构,设计并实施了自主千万门级FPGA课题产品开发平台。该平台集成了FPGA软件开发环境和集成电路芯片设计环境,利用SVN、SOS版本管理软件和bugzilla缺陷追踪软件,对FPGA软硬件开发流程进行规范化、标准化管理。该平台采用虚拟化技术,有效地降低配置成本、提高管理效率、增加数据安全性。 相似文献
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Virtual prototyping environments are emerging as a new generation of EDA tools. Such a tool will allow the designer to test interactively complex electronic systems on an enhanced-reality virtual workbench, by concurrently running multidomain (mechanical, electrical, thermal, etc.) what-if experiments. Virtual prototyping will shorten the design cycle, improve the product quality, and reduce the time to market. Advanced computational techniques are needed to reduce the execution time, especially for the field (EM and thermal) models used in these virtual prototyping environments. This article shows how neural networks could be used efficiently for 3D EM field modeling. Neural network models have much better real-time performance than classical numerical EM-field modeling methods, and this is particularly important when the field analysis is coupled with system optimization 相似文献
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提出了基于EDA仿真技术的多层PCB设计方法,借助EDA仿真技术可以使设计者对PCB板的信号完整性以及电源完整性做出更精确的判断。这对于多层PCB板的设计具有实用意义。 相似文献