化学镀Co-Ni-P合金薄膜化学成分的考察

考察了影响化学镀Ｃｏ－Ｎｉ－Ｐ合金薄膜化学成分的因素,镀液中ｃｃｏ＾２＋／（ｃｏ＾２＋ｃＮｉ＾２＋）的比值越高和总金属离子浓度越低,薄膜的钴含量越高,镍和磷的含量越低。较高的ｐＨ值和较厚的薄膜会提高薄膜的钴含量,降低镍含量,磷元素倾向于偏聚在晶界上。     

溶液pH值对化学镀Ni-Co-P合金的影响

在化学镀中镀液的ＰＨ值不仅影响施镀过程的沉积速度,而且还将直接影响镀层成分及镀层性能。着重研究了溶液ＰＨ值对化学镀Ｎｉ－Ｃｏ－Ｐ的影响,比较了化学镀Ｎｉ－Ｃｏ－Ｐ和Ｎｉ－Ｐ镀层的性能,以及热处理对镀层性能的影响。     

纳米氧化镁合成工艺条件的研究

常温碱性条件下化学镀所得的低Ｐ含量的Ｎｉ－Ｐ／Ｃｏ－Ｐ阴极具有优良的析氢性能。为提高其稳定性，本文采用Ｆｅ基体上内层为化学镀Ｎｉ－Ｐ，外层为化学镀Ｃｏ－Ｐ的镀层结构。与单一镀层阴极相比，该复合阴极具有较好的抗反电流性能和长期的电位稳定性。     

联氨化学镀液的研究概况

联氨化学镀工艺所获得的镀层纯度很高，不含Ｐ、Ｂ等非金属元素，不存在还原剂的氧化产物累积，近年来在许多合适和特定场合应用时受到人们重视。总结了联氨化学镀类型，其中包括化学镀Ｎｉ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｃｕ、Ｎｉ－Ｍｏ、Ｎｉ－Ｃｏ、Ｎｉ－Ｆｅ及Ｎｉ－Ｓｎ－Ｗ等多种镀液，提供了这些镀液的组成、工艺条件。并介绍了联氨的还原性质、获得的一些镀层特性及其应用。     

化学镀非晶质电阻膜的现状与展望

叙述了化学镀非晶质电阻膜分类和制作技术，其中包括Ｎｉ－Ｐ，Ｎｉ－Ｗ－Ｐ，Ｎｉ－Ｍｏ－Ｐ，Ｎｉ－Ｃｒ－Ｐ，Ｎｉ－Ｂ，Ｎｉ－Ｗ－Ｂ，Ｎｉ－Ｍｏ－Ｂ，Ｎｉ－Ｂ－Ｐ，Ｎｉ－Ｐ－ＳｉＣ以及Ｎｉ－Ｂ－ＳｉＣ等非晶质电阻膜的化学镀技术。介绍了化学镀非晶质电阻膜的形成机理。归纳了化学镀非晶质电阻膜的优点，指出了今后的发展方向。     

化学镀Ni－Sn－P合金的工艺研究（Ⅰ）

研究了以复合配位剂的化学镀Ｎｉ－Ｓｎ－Ｐ合金镀液、镀液组分和操作条件对沉积速度的影响。综合考虑镀层的组成，镀液的稳定性，确定了化学镀Ｎｉ－Ｓｎ－Ｐ合金的镀液最佳组成和工艺条件。     

化学镀Co—P／Ni—P磁记录介质的研究

对用化学镀制取Ｎｉ－Ｐ／Ｃｏ－Ｐ磁记录介质的工艺进行了研究，结果表明，对基片进行合适的预处理后，首先化学镀一层Ｎｉ－Ｐ合金层，厚度在２４μｍ左右，然后再化学镀Ｃｏ－Ｐ磁性合金，可获得良好的磁记录性能。     

化学镀Co－P／Ni－P磁记录介质的研究

对用化学镀制取Ｎｉ－Ｐ／Ｃｏ－Ｐ磁记录介质的工艺进行了研究。结果表明，对基片进行合适的预处理后，首先化学镀一层Ｎｉ－Ｐ合金层，厚度在２４μｍ左右，然后再化学镀Ｃｏ－Ｐ磁性合金，可获得良好的磁记录性能。     

化学镀Co—W—P三元合金的研究

研究了镀液中各组分及ｐＨ值与镀层中钨、磷含量的关系，获得Ｃｏ７３Ｗ１６Ｐ１１合金镀支，并通过人工汗液浸泡试验比较了Ｃｏ－Ｗ－Ｐ合金镀层与不锈钢、Ｃｏ－Ｐ、Ｎｉ－Ｗ－Ｐ、Ｎｉ－Ｐ合金镀层的耐蚀性。     

化学镀镍—磷／钴——磷复合析氢阴极的性能研究

常温碱性条件下化学镀所得的低Ｐ含量的Ｎｉ－Ｐ／Ｃｏ－Ｐ阴极具有优良的析氢性能，为提高其稳定性，本文采用Ｆｅ基体上内层为化学镀Ｎｉ－Ｐ，外层为化学镀Ｃｏ－Ｐ的镀层结构，与单一镀层阴极相比，该复合阴极具有较好的抗反电流性能和长期电位稳定性。     

组织结构对Co-Ni-P薄膜形貌和磁性的影响

化学镀 Co- Ni- P薄膜镀态下为非晶态结构 ,表面较为平整 ;经 30 0℃× 1 h热处理 ,发生了晶化转变 ,表面由“圆锥峰“所构成 ;随加热温度的提高 ,镀层析出了 Co2 P相 ,并发生了由密排六方结构的α- Co向面心立方结构的β- Co的同素异构转变。非晶态 Co- Ni- P薄膜的矫顽力较低 ,矩形比较高 ;薄膜向晶态转变时 ,矫顽力和矩形比皆呈上升趋势 ;50 0℃× 1 h热处理 ,薄膜由α- Co和 Co2 P相构成时 ,且在晶界上偏聚较多磷的影响下 ,矫顽力和矩形比的值达到最高 ;温度继续升高 ,晶粒长大 ,第二相粗化时 ,薄膜的矫顽力和矩形比都减小。化学镀 Co- Ni- P薄膜具有优秀的高密度垂直记录特性。     

热处理对化学镀钴磷薄膜组织结构和磁学性能的影响

化学镀钴磷薄膜具有优良的磁学性能。研究了不同的热处理条件下薄膜组织结构对磁学性能的影响。化学镀钴磷薄膜镀态下为单一的α－固溶体,矫产力和矩形比较高,具有磁各向异性。     

化学镀Ni—W—P合金镀层的XPS分析

利用红外光谱和Ｘ射线光电子能谱对化学镀Ｎｉ－Ｗ－Ｐ合金镀层表面膜进行了研究,结果表明,Ｎｉ－Ｗ－Ｐ合金镀层表面存在一层薄而致密的氧化膜,而镀层内的Ｎｉ、Ｗ、Ｐ则均以零价态形式存在。     

汽车用镁合金磷化处理及化学镀Ni-Sn-P合金镀层

先对汽车用AZ31B镁合金进行了磷化处理,然后在磷化膜表面化学镀Ni-Sn-P合金镀层,并对化学镀Ni-Sn-P合金镀层的成分、表面形貌及耐蚀性等进行了研究。研究发现:镁合金磷化属于一种磷化膜生成和溶解的动态过程。磷化膜较为均匀、致密,存在少量微裂纹,厚度约为6μm。化学镀Ni-Sn-P合金镀层由大量均匀、致密的胞状颗粒堆积而成。经过磷化和化学镀Ni-Sn-P合金镀层后,镁合金的耐蚀性显著提高。     

磁控溅射法制备铁氧体薄膜的磁性能研究

采用溶胶-凝胶法制备纳米晶镍锌钴铁氧体/二氧化硅复合粉体,并将该粉体制成靶材.采用磁控溅射法在单晶硅基底和玻璃基底上沉积镍锌钴铁氧体复合薄膜,并对其进行磁性能研究.研究结果表明:镍锌钴铁氧体/二氧化硅复合薄膜具有较好的软磁性能;在相同的溅射条件下,两种基片上的薄膜的矫顽力都较小,但硅基片上薄膜的饱和磁化强度较玻璃基片上的大,软磁性能更好;经后退火处理,薄膜的饱和磁化强度得到明显地提高,软磁性能得到改善.     

镁合金基体上镍磷镀层的阳极退除

采用阳极退除方法退除镁合金上化学镀镍磷镀层,研究了退除液成分对镀层退除的作用,对常用的镁合金化学镀镍层的退除工艺（HF＋NaNO3）进行了改进。退镀液中含有一定浓度的F^-,可保护基体不受腐蚀;溶液中的NaNO3对保护膜起破坏作用;生成的保护膜主要为MgF2。     

(Ni-P)-纳米TiO2微粒化学复合镀层的摩擦特性

通过对化学镀Ni-P合金,化学复合镀（Ni-P)-微米SiC微粒复合镀层和化学复合镀（Ni-P)-纳米TiO2微粒复合镀层研究与比较,探讨了化学复合镀（Ni-P)-纳米TiO2微粒复合镀层的摩擦学特性;研究发现化学复合镀（Ni-P)-纳米TiO2微粒复合镀层由于其良好的组织与性能,滑动磨损过程中具有低的摩擦系数和高的耐磨性。这种良好的摩擦学特性在高载荷下更为突出。     

螺杆表面化学镀镍

本文介绍了一种新的螺杆表面处理方法化学镀Ni P合金(又称化学镀镍)。化学镀Ni P合金层具有优良的耐磨耐蚀性,与表面电镀铬,气体氮化,堆焊或热喷涂双金属层相比,螺杆表面化学镀镍工艺简单,操作方便,生产效率高,成本低,性能好等优点,是一种新的螺杆表面处理方法     

ABS基材化学镀镍磷工艺研究

本文主要研究了ABS基材的化学镀镍磷以及前处理工艺。着重研究了敏化浓度和活化浓度对化学镀的影响，以及研究不同pH值对化学镀层含磷量的影响。