空心微珠表面磁控溅射和化学镀金属膜的特性比较

通过采用磁控溅射方法和化学镀的方法,对无机空心微珠颗粒表面进行了镀金属膜的研究.采用化学镀方法所得的颗粒表面所镀金属层疏松、不均匀、还有未被金属遮盖的孔洞,金属层与空心微珠表面的附着力小,金属薄膜容易脱落.采用磁控溅射方法所镀的空心微珠表面没有明显的金属颗粒,表面所镀金属致密、均匀,表面覆盖完全,没有孔洞,金属层与空心微珠之间的附着力大,即使采用挤压等方法也没有发现金属层与空心微珠表面分离的现象出现.XRD测试表明,采用两种方法所镀的金属其金属的结构和性质几乎没有区别,可以达到同样的应用效果.另外,化学镀方法流程较复杂,易产生环境污染,但适合于超微细颗粒的镀膜.磁控溅射方法是物理方法,没有环境污染,流程也比较简单,但在处理超微细颗粒时必须采用强有力的分散手段保证每个颗粒均匀镀膜.     

高温小规格产品金属釉的研发与生产

1 金属釉的种类、原理和使用 1.1 涂液体颜料,烤花获得金属效果 将黄金水、白金水、电光水涂在陶瓷制品上,再经低温(800-1000℃)烤花,得到金属涂层,其一般在日用瓷和腰线砖等产品上使用. 1.2 陶瓷釉面镀膜,得到金属效果 在陶瓷制品表面镀铜、钛、氮化钛、铝等仿金属膜.通常采用真空蒸发镀,磁控测射离子镀等几种方法进行陶瓷镀金属膜,通常在外墙砖上使用.     

空心微珠表面金属化研究

采用化学镀膜的方法,在空心微珠(沉珠和漂珠)表面进行金属化处理.采用常用的胶体钯活化工艺在沉珠和漂珠表面包覆铜、镍等金属膜,并根据漂珠表面的性质,采用了直接镀银的方法在漂珠表面包覆金属膜,取得了比传统胶体钯活化工艺更好的效果,并在镀银的漂珠表面包覆铜、镍等金属膜,实现了在漂珠表面包覆单层和多层金属膜.其中直接镀银的方法所获得金属膜表面比采用胶体钯活化工艺所获得金属膜表面更加光滑.     

聚丙烯成型物真空镀金属膜

本发明系关于与金属膜有良好粘结性的金属蒸镀聚丙烯成型物制造方法。以往聚丙烯成型品蒸镀金属,可制成金银丝等装饰丝、包装用装饰薄膜、绝热材料、电容器、照相机、闪光灯反射板等,由于聚丙烯的明显化学钝性,其成型物表面与蒸镀金属的粘结性差,因而金属蒸镀困难。倘若可以蒸镀金属膜、弯曲或摩擦亦容易剥离。因此,为了获取与聚丙烯成型物表面能进行良好的蒸镀,而提出如下的蒸镀方法:     

高端金属膜与非金属陶瓷膜对比

目前,在国内高端的产品大多数是以磁控溅射金属膜为主。金属膜有着不错的隔热性能,特别是采用磁控溅射技术生产的多层膜系结构的金属膜在隔热领域达到了登峰造板的水平。但是金属膜一直存在着先天缺陷,如易氧化、屏蔽ETC、GPS信号、反光高等问题,普通单层金属膜虽然价格较便宜,但是隔热性能一般,反射热量的效果并不是大家想象的那样好,更多的还是通过对热能的阻隔来达到隔热的效果。     

镁合金Ni-P纳米颗粒化学复合镀研究现状

介绍了Ni-P纳米颗粒化学复合镀的研究现状及镁合金纳米颗粒化学复合镀技术的研究现状,包括化学镀Ni-P二元基础材料上添加纳米颗粒、三元基础材料上添加纳米颗粒的研究现状。在镁合金表面处理技术中,用化学镀的方法在镁合金Ni-P基上沉积纳米颗粒有着良好的发展前景。     

直流磁控溅射沉积N-Ti-TiN镀膜耐蚀性能

通过固定N层和Ti N层的沉积时间,改变Ti层沉积时间,在AZ31镁合金表面采用直流磁控溅射技术制备N-Ti-Ti N镀膜,研究镀钛时间对N-Ti-Ti N镀膜的形貌、腐蚀性能的影响。利用扫描电镜(SEM)、能谱仪等手段分析镀膜的表面形貌和成分,通过动电位极化试验,研究镀膜的耐蚀性。结果表明:改变不同镀钛时间获得的N-Ti-Ti N镀膜的厚度在1~1.4μm之间,镀膜分布均匀,随着镀钛膜沉积时间的增加镀膜的厚度增加,膜间结合性好;与镁合金基体相比,不同镀钛时间的N-Ti-Ti N镀膜均能提高材料的耐蚀性,镀钛时间为20 min的N-Ti-Ti N镀膜的耐蚀性更为优异。     

六方BN微颗粒表面化学镀镍

研究了以肼为还原剂、氨为配合剂的六方BN微颗粒表面化学镀纯镍反应新体系. 热力学计算表明，此镀镍体系是可行的. 实验发现，新的镀液体系比传统酒石酸盐镀液体系具有更好的热稳定性和化学稳定性. 镀层的XRD分析表明，不同体系镀层相结构相同. SEM观测和EDS分析显示，新体系镀层更为致密.     

钼丝表面镀铂工艺的研究

采用电镀方法在钼丝表面制备了结合力好的金属铂层。研究了工艺参数和预镀镍层对镀铂层结合力的影响,优化了镀液组成与工艺条件。采用SEM对镀铂层的表面形貌进行了表征。通过实验确定了镀铂的最佳工艺条件为:6mA/dm2,室温,15min。采用预镀镍的方法能够提高镀层与基体的结合力。     

18K金表面磁控溅射铑薄膜的颜色

首饰表面常通过电镀铑来改善颜色和耐蚀性，但是多数电镀工艺存在较严重的环境污染问题。采用真空磁控溅射工艺在18K金试片及试盒表面沉积铑薄膜，并采用分光光度计检测了不同工艺条件下所得铑薄膜的颜色及其分布均匀性。结果表明，镀膜时间、靶电流、镀膜室温度、本底真空度、镀件结构和悬挂方式都对铑薄膜颜色及均匀性有不同程度的影响。在合适的工艺条件下对18K金表面磁控溅射所得铑薄膜与电镀铑薄膜的颜色非常接近，可以满足现有镀铑膜颜色的需求。