小角衍射法精确测定Mo/Si软X射线多层膜的结构

通过对周期性Mo/Si多层膜Cu靶K_(?)线小角衍射曲线的分析,并进一步采用对局部曲线进行分步数值拟合的方法,确定了多层膜的结构参数及界面质量。估算了多层膜样品在λ=20nm附近的正入射反射率接近10％。     

制备超薄多层膜的自动转速控厚法

在转速控厚法的基础上 ,排除了射频溅射的电磁干扰 ,实现了自动转速控厚法。用这种方法镀制超薄多层膜时 ,可以实时记录下镀制每层膜的沉积时间、自动切换转速、完成设定周期后自动停止转动。自动转速控厚法与转速控厚法相比 ,明显降低了多层膜制备的劳动强度 ,提高了多层膜制备的成品率和监控精度。而且将在镀制复杂膜系多层膜时 ,具有更加明显的优势     

微晶／非晶Si：C：H半导体多层膜的结构研究

采用普通辉光放电分解硅烷的方法，沉积具有交替微晶和非晶Ｓｉ：Ｃ：Ｈ亚层的多层样样品。从喇曼散射结果分析，样品具有明显的微晶和非晶两仃结构；在低角度Ｘ射线衍射谱中，观察到了多级的衍射峰，了多层结构的存在。     

软X射线多层膜光栅

详细介绍了软X射线多层膜光栅的国内外发展概况和广阔的应用领域，全面分析了它的制作工艺，并指出制作多层膜光栅的关键技术及解决方案。     

磁控溅射Ge/Si多层膜X射线低角衍射界面结构分析

本文对磁控溅射不同结构的Ｇｅ／Ｓｉ多层膜样品进行了Ｘ射线衍射的测试和分析,并进一步采用有过渡层的光学多层膜衍射模型对衍射谱进行了拟合;获得了扩散层厚度和分层厚度等多层膜的结构参数,定性讨论了多层膜中互扩散与分层厚度铁关系。计算结果与实验结果符合较好。     

微晶/非晶Si∶ C∶ H半导体多层膜的结构研究

采用普通辉光放电分解硅烷的方法，沉积了具有交替微晶和非晶Ｓｉ∶Ｃ∶Ｈ亚层的多层膜样品。从喇曼散射结果分析，样品具有明显的微晶和非晶两相结构；在低角度Ｘ射线衍射谱中，观察到了多级的衍射峰，证明了多层结构的存在     

X射线多层反射膜

评述X射线多层反射膜原理、现状和问题。讨论了投影X射线光刻和X射线毛细管放电重复率激光器所用的反射镜。     

90年代多层膜软X射线反射镜的发展状况与未来动向

1　引言　　多层膜软 X射线反射镜简单地说是从E.Spiller开始 ,由 T.W.Barbee,Jr,A.V.Vinogradov,J.H.Underwood等人建立的基础 ,后来又有众多研究人员加入到此多层膜软 X射线反射镜的研究和应用研究中 ,不仅实现了反射镜的高品质化 ,而且还将其应用于分光、聚光、X射线望远镜、X射线显微镜、X射线激光器、激光核聚变等离子体观察、X射线缩小曝光 (极紫外光刻 )等 ,还开发了用于 X射线光束分离器、多层膜衍射光栅、超级反射镜、软 X射线偏光子等的元件 ,并取得了一定成果 ,到了 2 0世纪 90年代 ,多层膜软 X射线反射镜的品质 ,尤其…     

软X射线多层膜界面粗糙度的计算

提出一个在小角范围内计算多层膜界面粗糙度的理论计算公式 ,通过不同样品的小角度衍射曲线进行计算 ,结果表明由该公式根据不同周期、不同级次衍射峰计算的粗糙度相差比较小 ,而在相同条件下用已报道公式给出结果相差比较大。该理论公式获得的计算结果与实际观测结果比较一致。     

Influence of Transited Layer of Multilayer on X-ray Diffraction Intensity and Calculation of the Thickness

This paper integrates the roughness with the diffuse layer as a transited layer factor for study of influence of the practical interface on the X-ray diffraction intensity of multilayer. By the study of a simple model of transited layer presented in this paper, it is given a formula to describe the quantitative relation of the transited layer with the X-ray diffraction intensity. The calculated thickness of transited layer of Mo/Si multilayer is given, which is consisted with the values measured with the high resolution microscopy.     

极紫外多层膜光栅技术研究进展

极紫外多层膜光栅是一种人造二维周期性结构,它将横向结构上的光栅衍射与深度结构上的多层膜布拉格衍射相结合,使得在极紫外波段采用非掠入射、高衍射效率、高光谱分辨率的分光元件成为可能,在天文学、物理学、材料科学等领域具有广阔的应用前景。介绍了极紫外多层膜光栅的应用;从光栅衬底制备与多层膜沉积两方面对多层膜光栅制备技术的研究进展进行了分析;并从实际应用角度出发,对未来多层膜光栅技术研究的发展趋势作了展望。     

制备软X光多层膜的转速控厚法

本文提出了一种新的监控软X光多层膜膜厚的方法——转速控厚法,利用这种方法镀制的设计周期厚度分别为8.4和10nm,周期数达50对和30对的W/C多层膜,经小角X光衍射测试,结果表明周期厚度随机误差在0.1nm左右。     

浅谈多层埋／盲孔厚铜板的厚度控制

简要概述了带有埋/盲孔厚铜箔多层印制板制作过程中的厚度控制要点和方法。     

软X光激光用多层膜反射镜的制备与检测

介绍在制备和检测软Ｘ光激光用多层膜反射镜中听做的研究工作。重点是制备过程，包括基板、镀膜设备、膜厚控制方法，以及经大量实验得出的镀膜工艺条件、给出了利用Ｘ光射线衍射仪所做的周期结构检测结果，以及利用激光等离子体作光源的精密反射率计所作的反射率测量结果。最后，对工作进展和存在的问题做了简略评述。     

C/Al软X射线多层膜反射镜

在λ=285nm波长处,选择了一种新的多层膜材料对C／Al。与Mo／Si,C／Si软X射线多层膜相比,正入射C／Al多层膜在150nm附近有很低的二级衍射峰。用磁控溅射法制备了C／Al软X射线多层膜样品,并用X射线小角衍射法对其结构进行了测试。     

小周期多层膜的小角X射线衍射强度研究

水窗波段X射线反射元件的特征是周期比较小,吸收层和间隔层很难形成连续的膜面.提出了这种膜系内密度变化的简单物理模型,通过理论衍射强度计算和小角X衍射实验证明这种模型是合理的.同时理论上证明这种模型仍然有较强的小角X射线一级反射强度,其强度相当于结构参数相同的理想尖锐界面多层膜一级反射强度的70%～80%.对于小周期的多层膜设计,具有一定的参考价值.