离子束轰击法金刚石薄膜抛光

本文采用氩离子束轰击法,对不同晶体学表面形貌的CVD金刚石膜进行抛光处理。结果表明,对不同表面形貌的金刚石膜,应合理选择离子束轰击入射角,提高离子束加速电压有利于提高抛光效率,(100)择优生长的金刚石膜最容易得到高的表面平整度。     

离子束技术

离子束作为材料合成、加工技术在飞速发展,有着巨大的科学上和工业上的意义。本文就离子束技术目前的发展及其在某些重要领域中的应用作一概括介绍。     

铬的野外半定量法

为了普查找矿,及时了解矿石品位,指导施工,因此结合野外条件,经过实验,制定了铬矿野外简易半定量分析法.     

金属热法冶炼铬硼合金

本文介绍了铬硼合金的冶炼原理、工艺操作,并简要分析了炉衬材料、还原剂种类及单位炉料热量对冶炼工艺的影响。     

钒铬溶液离子交换法提钒研究

根据现有钒渣钠化提钒工艺的特点,巧妙规避钒、铬分离难题,提出了钒铬液离子交换法选择性提钒技术:选用阴离子树脂从高浓度含铬钒液中选择性吸附部分钒,交换余液返钠化提钒主流程继续生产氧化钒产品(冶金级)。分别研究了树脂型号、p H、反应时间与树脂吸附钒铬的关系,结果表明:将D201树脂用硫酸钠转型,在8.5p H10条件下,反应30~60 min可选择性吸附钒,含钒树脂经Na OH溶液解吸,沉钒、煅烧即制得纯度达99.83%的氧化钒产品。     

新的离子束技术装置

Z-200离子束增强沉积装置能生产硬而耐蚀的薄膜涂层,这种涂层对基体的粘结性比一般的化学气相沉积(CVD)或离子束外延生产的涂层优良。该装置能离子束注入、离子束混合和离子束增强沉积,它的典型应用是金属和半导体工业中的薄膜金     

无熔剂法硅铬合金生产的控制

通过对无熔剂法硅铬合金电炉停炉后的解剖，分析了炉内的反应机理。该过程中碳化硅的生成和破坏的平衡起着重要的作用。而保持碳平衡和及时排除碳化硅含量很高的炉渣是使唤生产受控关键。     

离子交换法处理废水中的铬(Ⅵ)

研究了D201和ZGA451阴离子树脂对含铬(VI)废水中铬离子的去除能力。试验结果表明,最佳静态吸附铬的工艺条件是:温度为30℃,吸附时间为12 h,D201最佳吸附p H为6,而ZGA451最佳p H则在4左右,搅拌能加快离子交换反应的速率。     

一种不含铬的铝表面镀膜法

该方法首先需清除铝或铝合金表面污染,然后将其用50～100℃的水清洗并形成极化膜、再把极化腹投入含有铈盐和温度为70～100℃的金属硝酸盐溶液中,此时,由     

容量法准确快速测定铬铁中的铬含量

铬铁中铬含量是铬铁质量判定和计价的依据。本方法测定铬铁中的铬含量具有简便、快速、准确的特点,满足检测分析要求,适用于铬铁中铬含量的测定。     

金属热法冶炼硼铬合金的研究

采用金属热法冶炼硼铬合金,从渣型出发,讨论了诸多因素对冶炼效果的影响。     

硅铬合金堆底法生产微碳铬铁简介

介绍了硅铬合金堆底起弧新操作法,取得经济效果,提高了产量,降低了电耗,铬回收率、一级品率和合格率均有所提高。     

三维重离子束分析显微镜

日本政府研究院研制成一种三维、高速、重离子粒子显微镜对材料进行原位分析。与一般的离子束显微镜比较,该种重离子束分析增强了灵敏度、涤度分辨率、质量分离。该设备可以产生微米尺寸低兆电子伏特能级的光束,这种光束可以在试样小截面上进行辐射。该设备可以产生二     

铬渣炉衬在铝热法冶炼中的应用

铬渣在过去一直被人认是废物而扔掉,无产阶级文化大革命中,遵照毛主席关于“综合利用大有文章可做”的伟大教导,我们对铬渣进行了仔细的分析,反复的试验,终于给铬渣找出了新出路。现在已得到了广泛的应用,使废物变成了宝。炉外法生产金属铬过去一直是用铸铁炉壳,内砌镁砖进行冶炼。这种方法要消耗大量的镁砂、镁砖、铸铁炉壳。为了节省镁砖、镁砂和铸铁炉壳,改进炉衬,一九六九年我们学习了兄弟厂的经验,结合自己的实际情况,试验成功了用铬渣打结炉衬的新方法。     

直接氮化法制备氮化铬粉末的热力学研究

对金属铬粉在氮气气氛下直接氮化制备氮化铬粉末进行了热力学计算,并分析讨论了Cr-N体系的热力学特征。通过理论计算,得到计算结果的应用条件的适用性,并进行试验验证,为直接氮化法制备氮化铬粉末提供了理论参考。