金属表面处理的清洁生产新工艺

AP-1铝无黄烟化学抛光工艺：铝件在电解氧化前需要进行化学抛光处理，常用磷酸、硫酸和硝酸。硝酸在化学抛光过程中逸出大量氮氧化物，对人体危害极大。AP-1铝件化学抛光新工艺，不含硝酸，从根本上解决环境污染，还可降低成本30％左右，这一新工艺已在一些单位使用．效果良好。     

WXP铝件无黄烟化学抛光

我厂的铝阳极氧化生产线,是在军转民中开发起来的。开始,我们对其中化学抛光是采用了传统的三酸(磷酸、硫酸、硝酸)化学抛光工艺。硝酸化学抛光,带来大量氮氧化物黄烟污染,对操作工人的健康十分不利。后来我们采用了“铝件无黄烟化学抛光添加剂WXP”,这种添加剂用于磷酸、硫酸抛光的发光剂,并兼有抑制酸雾的作用。根据我们的试验和实际投入使用的结果,效果良好。认为采用这种新的添加剂的铝件无黄烟化学抛光工艺可以取代原来的硝酸型即三酸化学抛光工艺,抛光质量可与原工艺相媲     

表面损伤层对Hg1-xMnxTe晶片电学参数的影响

采用范德堡法在77K下对多个Hg1-xMnxTe晶片化学抛光前后的电学性能进行了Hall测量。结果发现：与化学抛光后所测值相比，抛光前所测得的电阻率和霍尔系数值相对较小，而霍尔迁移率和载流子浓度相对较大，其中电阻率和霍尔迁移率在化学抛光前后变化幅度分别高达25％和31％，而霍尔系数和载流子浓度的变化幅度只有2％左右。化学抛光前，晶片表面损伤层内存在大量位错，对载流子的迁移造成散射，使得损伤层中的霍尔迁移率降低，但化学抛光前所测得的霍尔迁移率反而比抛光后的大，增幅最小的也达到了21％。本研究在3层模型的基础上，通过理论分析和计算，对这一反常现象以及化学抛光前后其它电学参数的变化进行了解释。     

应用化学抛光法检查钢的正火晶粒度

化学抛光是采用化学试剂浸蚀作用得到光亮的抛光表面。这种抛光方法操作简便,成本低廉,可代替繁琐的机械抛光,对工厂的日常检验效果更显著。我厂生产的曲轴(36CrMo钢)正火后需100％检查晶粒度,我们采用化学抛光法抛光,试剂为:草酸2.5g,过氧化氢(结晶)1.3g,硫酸0.01ml,蒸馏水100ml。过氧化氢结晶也可用3％的双氧水,其效果相同,其配方为草酸2.5g,3％双氧水43.5ml,硫酸0.01ml,蒸馏水55ml。浸蚀温度为室温。化学抛光兼有化学浸蚀作用,可直接进行显微组织观察。实践证明,采用化学抛光法进行生产检     

化学抛光对Au/Hg3In2Te6接触特性的影响

采用真空蒸镀法在n型Hg3In2Te6(简称MIT)表面制备了Au和In金属电极,探讨了MIT晶片的化学抛光工艺对其表面成分偏析和Au/MIT接触特性的影响规律与机制,优化了MIT晶体的化学抛光工艺参数。结果表明,MIT晶片采用5%Br2-C3H7ON溶液化学抛光2 min后,MIT晶片表面元素组分更接近标准计量比,所制备出的Au/MIT接触的反向漏电流最小。     

技术转让

该成果采用正交试验方法。对化学抛光技术的主要工艺参数抛光液组成及含量、抛光液温度、抛光时间等进行了分析和优化,得到最佳的化学抛光参数,经新工艺处理的模具工作带表面粗糙度低,所挤压     

技术转让

该成果采用正交试验方法。对化学抛光技术的主要工艺参数抛光液组成及含量、抛光液温度、抛光时间等进行了分析和优化,得到最佳的化学抛光参数,经新工艺处理的模具工作带表面粗糙度低,所挤压     

技术转让

铝及铝合金碱性化学抛光是一种表面精饰技术,可广泛应用于各种铝制品。该技术可以取代传统的由磷酸、硫酸、硝酸组成的“三酸”化学抛光工艺,消除NOX气体污染,是碱性化学抛光溶液。它以NaOH溶液为腐蚀基液,加入光亮剂、络合剂、缓蚀剂、碱雾抑制剂,防止溶液中沉淀物的产生,提高了化学抛光表面质量。 纯铝、铝镁、铝锰等铝合金经该工艺抛光后,表面光亮、平整、均匀,符合中国机械工业JB8-82标准。该工艺集除油、抛光过程于一体,抛光速度快,提高工效2倍;溶液稳     

4种不同金相组织的仿古铸铁在土壤中局部腐蚀行为的差异

为了加强铸铁文物的保护，采用动电位扫描极化、模拟闭塞电池、交流阻抗等电化学方法，以及光镜、扫描电镜等显微组织分析手段，研究了4种仿古铸铁在模拟土壤介质（0．06mol／L NaCl＋0．03mol／L Na2SO4＋0．01mol／L NaHCO3溶液）中的局部腐蚀行为，详细探讨了组织差异对仿古铸铁局部腐蚀的影响。结果表明：珠光体灰口铸铁的自腐蚀电位负移最为明显，在模拟土壤条件中裂纹和腐蚀孔洞相对其它几种仿古铸铁较多。在闭塞电池中，仿古铸铁的pH值下降，Cl^-和SO4^2-增加，仿古铸铁耐蚀性依次递减的顺序为白口铸铁、麻口铸铁、珠光体＋铁素体灰口铸铁、珠光体灰口铸铁。     

注塑模具的化学抛光

研究45钢化学抛光液及化学抛光的工艺参数,以注塑模为实例介绍了化学抛光的步骤和效果。     

Ta表面氧含量的调控及Pd/Ta复合膜的制备研究

以Ta箔为研究对象，分别采用机械抛光和化学抛光的方法进行了Ta箔表面氧含量的调控研究，研究结果表明，机械抛光目前较难获得相对“洁净”的Ta表面，需结合氩离子溅射才可以获得氧含量很低的Ta膜；化学抛光能获得相对“洁净”的Ta表面。Ta箔表面经化学抛光处理后，进行Pd/Ta复合膜的化学镀制备研究。通过控制化学镀的时间，在Ta箔表面获得了完整均匀且无孔洞的Pd膜，该Pd膜的厚度约2.8μm。     

“一步热脱脂+烧结”工艺对注射成形硬质合金显微结构与性能的影响

采用注射成形．溶剂脱脂．“一步热脱脂＋烧结”工艺制备了硬质合金。系统研究了一步热脱脂气氛和烧结工艺对合金性能的影响。结果表明：溶剂脱脂率控制在55％～58％时,通过“一步氢气热脱脂＋气压烧结”可以有效解决合金的控碳难和致密度低的问题。制备出的YG10X硬质合金制品抗弯强度达2690MPa,比常规模压．烧结法制备的合金性能大大提高。其硬度、钴磁、矫顽力控制在正常范围之内,它们分别是：维氏硬度为1320MPa,钴磁为8．6％。矫顽力为12．5kA·m^-1。     

氰化光亮镀银

目前我国大部分单位还是采用非光亮氰化镀银,为了达到光亮,基本上是用化学抛光或刷光再浸银,这样白白浪费了大量白银。根据这种情况,文章介绍一种较为适用的氰化光亮镀银配方,可节约白银25％左右。     

电镀前处理

1化学抛光在电镀生产线上,工件在电镀前进行的一系列前处理都是为了得到更好的镀层,而化学抛光在整个前处理中是很重要的。化学抛光是指在合适的溶液中,不使用外接电源,依靠化学浸蚀作用对工件进行的抛光。在化学抛光过程中,由于金属微观表面形成了不均匀的钝化膜,或由于形成了类似电解抛光过程中所形成的稠质黏膜,从而使表面微观凸出部分的溶解速度显著大于微观凹入部分,因此降低了零件的表面显微粗糙程度,使零件表面比较光亮和平整。化学抛光广泛应用于不锈钢、铜及铝合金等的抛光,     

GCr15药片冲压钢模的化学抛光研究

对GCr15药片冲压钢模的化学抛光工艺进行了试验研究,并应用回归分析方法,得出化学抛光的优化工艺。     

45钢注塑模具的化学抛光

一、45钢化学抛光液注塑模的型腔经铣削或电加工后表面较粗糙,若采用手工抛光,就要耗费大量工时。若选用化学抛光方法,可在半小时内获得平整和光泽的表面。这种方法不需要复杂的装置,不消耗电能,不受模具型腔大小和复杂程度的限制。因此是一种高效快速的抛光方法。目前,介绍化学抛光的国内外资料虽较多,但一般都选用强腐蚀、强刺激性的无机酸,在加热条件下抛光。由于它要产生强烈的刺激性气味,所以阻碍了在模具行业的推广应用。苏州电加工     

钽板的电解抛光和化学抛光

本文论述了电解抛光和化学抛光对钽板性能的影响,给出了钽阳极溶解曲线和溶解速度曲线,并讨论了抛光机理。研究结果表明：钽板的表面粗糙度随抛光前的表面粗糙度的升高而增高,但抛光后表面的反射系数提高较小,电解抛光后的表面粗糙度比化学抛光的高。试验发现,抛光后的钽板经轧制后,其表面反射系数较轧制前提高了近30%。     

化学分离法分析大型纸浆发电厂废渣中生物质底灰和飞灰成分(英文)

采用三步分离法,其中第一步用水,第二步用乙酸铵,第三步用盐酸,提取纸浆发电厂生物质飞灰和底灰的组分,以评估这些残渣的浸出行为。除了Mo、S、Na以及那些浓度低于检测范围的元素外,在这两种灰份中,对于其他元素这三种浸出剂的浸出能力从弱到强的顺序为:水、乙酸铵和盐酸。采用三步分离法处理的废渣中元素浓度比前期用BCR连续提取法得到的低。     

浅淡低碳钢零件化学抛光及抛光剂

1前言 低碳钢化学抛光,是指低碳钢零件在化学抛光溶液中进行化学浸蚀,在这一浸蚀过程中,金属表面被溶液浸蚀和整平,从而获得非常光亮的表面,常有“一抛即亮,光亮如铬”的美称。     

铜及铜合金全光亮化学抛光新工艺

本文介绍一种含H_2O_2-H_2SO_4及高效添加剂体系的铜及铜合金化学抛光新工艺。它能获得全光亮的加工表面;溶液成份简单、稳定、使用寿命长、成本低、无毒性、可连续补充使用。文章探讨了化学抛光的机理,并对工艺流程及配方,各成份作用与影响,溶液配制与生产过程中需注意的事项都作了详细说明,便于生产实践、推广使用。