乱流洁净室换气次数的讨论

分析了乱流洁净室净化空调设计中室内发尘量和新风比对换气次数的影响。讨论了换气次数的正确选取方法。引入当量人员密度,提出了规范中换气次数上限适用的当量人员密度限值。     

药厂洁净室的运行管理

洁净室的软硬件设施是洁净工业能否生产合格产品的前提保证,也是制药企业ＧＭＰ认证的关键指标,本文主要探讨了药厂洁净室运行管理中的一些热点问题,阐明了作者的观战邮运行管理中的一些注意事项,力争在确保产品符合相应的质量要求,制药企业能够顺利通过ＧＭＰ认证的前提下,尽可能地加强管理,减少运行费用,使洁净室能够长期,安全,高效的运行。     

医院手术室不同通风情况的生物污染控制

在同样房间换气次数下,改变送风速度和出风面积,对OR.B手术室进行了数值模拟以比较在手术关键区(围绕患者手术切口的三个相连区域)的细菌沉降数量。结果表明改进气流流型可以降低关键区域的微粒沉降量,但效果并不如增加换气次数至某个恰当量那么明显。     

浅析洁净室洁净度的污染源及其控制方法

洁净室的洁净度在日常运行管理中十分重要.在洁净室内空气污染源及其传播途径分析的基础上,提出相应的切实可行的控制方法,以保证洁净室洁净度持续处于受控状态.     

室内气溶胶颗粒物沉积特性的实验研究

气溶胶对室内空气品质的影响日益受到重视,可吸入颗粒物和其可能携带的病毒对人体的健康造成直接威胁。为了深入了解气溶胶颗粒在室内的沉降与扩散规律,有必要通过实验对不同粒径颗粒在不同换气次数下的浓度衰减规律进行研究。研究发现:对于粒径在0.3μm以上的颗粒,随着粒径的增加,颗粒沉积衰减系数值总体上呈上升趋势;随着室内换气次数的增加,各个粒径颗粒的沉积衰减系数趋于一致。     

各国人工尘标准的比较

介绍了人工尘的用途、人工尘和大气尘之间的联系。分析了国外五个标准中有关人工尘的部分,并对五个标准中人工尘的组成和各成分的质量百分数、粒径分布以及化学成分三个方面的问题进行了详细的比较、分析。详细列出了国内人工尘在粒径分布、化学成分及研究制备方面尚存在的问题。     

硅片缺陷粒径分布参数的提取方法

利用电学测量方法,给出了在集成电路制造过程中,影响光刻工艺的各种颗粒尘埃(缺陷)的粒径分布参数提取方法.首先基于双桥微电子测试结构,通过具体制造工艺得到数据,然后处理得到故障的粒径分布.再利用缺陷与故障之间的关系,进一步推导出缺陷粒径分布的参数.结果表明该方法适合于不同的缺陷粒径分布模型,而且得到的参数可以用于集成电路成品率预测.     

硅片缺陷粒径分布参数的提取方法

利用电学测量方法,给出了在集成电路制造过程中,影响光刻工艺的各种颗粒尘埃(缺陷)的粒径分布参数提取方法.首先基于双桥微电子测试结构,通过具体制造工艺得到数据,然后处理得到故障的粒径分布.再利用缺陷与故障之间的关系,进一步推导出缺陷粒径分布的参数.结果表明该方法适合于不同的缺陷粒径分布模型,而且得到的参数可以用于集成电路成品率预测.     

光聚合法对聚异丙基丙烯酰胺纳米凝胶粒径及形状的控制

纳米凝胶粒径和形貌的控制一直是纳米凝胶领域的研究热点。本研究利用光聚合的方法 ,无需其他有机添加剂 ,合成出 5～ 10 0nm范围的聚酰胺凝胶。其粒径分布范围可控制在 10nm以内。通过SEM对纳米凝胶形貌进行了表征。从结果看 ,可在纳米尺度上对凝胶的形状进行控制 ,并合成出树枝状、球状、核壳结构的纳米凝胶。这些结果未在文献中报道过     

光聚合法对聚异丙基丙烯酰胺纳米凝胶粒径及形状的控制

纳米凝胶粒径和形貌的控制一直是纳米凝胶领域的研究热点.本研究利用光聚合的方法,无需其他有机添加剂,合成出5～100 nm范围的聚酰胺凝胶.其粒径分布范围可控制在10 nm以内.通过SEM对纳米凝胶形貌进行了表征.从结果看,可在纳米尺度上对凝胶的形状进行控制,并合成出树枝状、球状、核壳结构的纳米凝胶.这些结果未在文献中报道过.     

北京某光盘生产厂房净化空调设计

工程设计中根据工艺生产对环境参数的要求,针对工艺的空调负荷特性,进行认真计算,并在i-d图上进行过程分析,遵照《洁净厂房设计规范》GB50073-2001中的规定,确定净化空调系统的送风量和空气处理各功能段的设置,正确认识二次加热的必要性,优化设计方案,进行合理的空调设备的选配。     

某制剂洁净室存在问题模拟分析

该万级制剂用洁净室各测试指标符合规范规定,然而尘埃粒子浓度分布不均,有些部位洁净度达不到要求。经CFD模拟分析得知门的开启对气流组织产生影响,门口处产生负压区,走廊内空气进入室内污染环境。通过增设门槛,基本解决问题。     

生物制药厂生产车间净化空调气流速度/换气次数及新风机组的设计

就气流速度/换气次数及新增新风机组的设计问题展开讨论,进行情况分析和归纳。     

瓷粉粒度和形貌对成瓷性能的影响

瓷粉的颗粒度分布和颗粒的形貌是瓷粉的重要特性。它们对流延的生瓷片性能、烧成后晶粒尺寸、熟瓷的致密性、熟瓷的强度、烧结温度以及烧结时x ,y,z方向的收缩率等均会产生重要的影响。本文主要介绍这些特性产生的机理和影响程度。     

高精度温度工艺间的设计

为研究高精度温度控制，设计试制了一无菌孵化间样板房。经实测，整个空间温度场均匀度达到±0.3℃～±0.1℃。     

洁净厂房多点式空气洁净度检测控制系统

介绍了两种用于环境检测的多点式空气洁净度检测系统:电磁阀控制系统和RS-485总线系统,详细描述了各自的工作原理并比较了其优缺点。     

The Importance of Particle Size to the Performance of Abrasive Particles in the CMP Process

Chemical-mechanical planarization is an area of technology which is growing at a very rapid pace. As Fig. 1¹ shows, it is projected to continue its phenomenal growth over the next five years. In spite of its growth, it is still a relatively new field of investigation.² The mechanism of the process is understood to include oxidation and abrasion, but the details are a bit vague. The notion of applying an abrasive slurry to the wafer was quite radical and was expected to create some problems. One of the problems uncovered was the formation of micro-scratches in the wafer.³ From other applications for abrasives, this was known to be caused by the presence of larger particles in the slurry.⁴ This problem suggested that particle size would be a critical area for study.⁵ This idea has been borne out by some recent experiments.     

烟幕粒子粒度的分形特征及红外消光性能研究

以分形理论为基础,提出了一种表征烟幕粒子粒度特征的指标——粒度分形维数(D),研究了烟幕粒子粒度的分形特征.研究表明,烟幕粒子的粒度分布是分形的,烟幕中大颗粒占的比例越高,粒度分形维数越小,基于米氏理论的红外消光性能也越好.粒度分形维数(D)可用于表征烟幕粒子粒度分布的特征,为烟幕系统的研究提供了一种新思路.