含硅光固化材料的性能研究

研究了体系组成对光固化有机硅聚氨酯丙烯酸酯(Polysiloxane isophorone urethane acrylate,PSIUA)体系的耐水性、体积收缩、硬度、附着力、耐溶剂性及机械性能的影响.研究发现,含羟基及醚键的活性单体会使体系吸水率上升;随着体系交联度增加,吸水率下降.PSIUA体系体积收缩率随PSIUA含量的增加而下降,所研究的PSIUA体系的体积收缩率均小于10%.加入三官能团单体和具有刚性结构、交联度较大的的环氧丙烯酸酯有利于提高体系的硬度.加入适量的含羟基的活性单体及环氧丙烯酸酯可以提高PSIUA光固化膜的附着力.测得PSIUA体系的玻璃化转变温度为246.0℃.     

新型水溶性硫杂蒽酮类光引发剂的合成

合成了４种季铵盐类硫杂蒽酮化合物。其中２－羟基－（１’－甲基－４’－硫杂蒽酮氧基）－Ｎ，Ｎ，Ｎ－三甲基丙基氯化铵为新化合物。这些化合物均经过了ＩＲ、ＮＭＲ、ＭＳ和元素分析等方法鉴定，确证了其结构，还测定了紫外吸收光谱。     

新型胺助引发剂的合成及其对光固化膜黄变性能的研究

通过不同结构的脂肪胺和三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(Trimethylopropane tricrylate,TMPTA)之间的迈克尔加成反应合成了四种不同结构的胺助引发剂.采用实时红外(Real-time infrared spectroscopy,RTIR)研究了二苯甲酮(Benzophenone,BP)/二缩三丙二醇二丙烯酸酯(Tripropylene glycol diacrylate,TPGDA)/胺助引发剂体系的光聚合反应活性.采用紫外分光光度计研究了BP/胺助引发剂在紫外光辐照下的黄变性能.研究结果表明,随着胺助引发剂分子结构中羟基含量的增加,光聚合反应速率呈现下降趋势.羟基含量相同,若胺助引发剂分子量增加,光聚合反应速率则下降,但双键的最终聚合转化率几乎相同;叔胺结构的助引发剂在光固化过程中黄度较高,有较强的黄变倾向性;随着分子结构中羟基含量增加,黄变倾向性也增强.实验结果为合成新型黄变性小的胺类助引发剂提供借鉴.     

辐照─应变法研究光固化体系活性

利用Ｎ－１２１型ＵＶ固化测试仪测定光固化体系的固化进程，研究了活性稀释剂的官能度、光引发剂浓度及光照强度等对光固化速度的影响。     

含苯基脂环型环氧有机硅预聚体的制备及其光固化

以高含氢硅油(甲基氢硅油)为原料,通过与苯乙烯、4-乙烯基环氧环己烷在Lamoreaux催化剂作用下的硅氢加成反应,制备了具有苯环侧链的脂环族环氧有机硅预聚体(Ep-Ph-SiO)。利用1H-NMR确定了芳环、环氧和硅氢嵌段的比例关系,得到了Ep-Ph-SiO的平均组成;同时测定了Ep-Ph-SiO的折射率。以4-(苯硫基)苯基二苯基硫鎓六氟磷酸盐为光引发剂,考察了Ep-Ph-SiO在高压汞灯辐射下的阳离子光固化。研究发现,所制备的含苯基脂环族环氧有机硅预聚体能有效地发生阳离子光固化,光固化活性高于常用的缩水甘油型环氧预聚体;随着苯环含量的增加,树脂折射率提高。     

辐照—应变法研究光固化体系活性

利用Ｎ－１２１型ＵＶ固化测试仪测定光固化体系的固化进程，研究了活性稀释剂的官能度、光引发剂浓度及光照强度等对光固化速度的影响。     

镅(Ⅲ)、锔(Ⅲ)阳离子交换分离的优良淋洗剂——α-羟基α-甲基丁酸

本文在相同的实验条件下,在阳离子交换柱上比较了α-羟基α-甲基丁酸(HMBA)和α-羟基异丁酸(HIBA)为淋洗剂分离Am(Ⅲ),Cm(Ⅲ)的性能。实验测得对HIBA体系,Am(Ⅲ)-Cm(Ⅲ)的分离因子为1.37,与文献值基本一致;而对HMBA体系,其分离因子为1.71,此值与我们测定的络合常数相吻合,从而确证以HMBA淋洗分离Am(Ⅲ)-Cm(Ⅲ)远较HIBA优良。为了使HMBA成为实用的淋洗剂,我们还研究了影响分离效果的各种因素。     

用于立体光刻技术的阳离子及混杂光聚合体系的研究

研究了阳离子及混杂光聚俣体系中引发剂、齐聚物、稀释剂的组民及浓度变化对光聚合反应速度、凝胶率及其性能的影响，并对混杂型树脂进行了立体光刻的应用研究。     

2－烷基蒽醌引发环氧丙烯酸酯光固化行为的研究

研究了在没有其它活化剂存在条件下，采用２－烷基蒽醌直接引发环氧丙烯酸酯体系的光交联反应。应用光谱方法和重量法测定了反应体系在光固化过程中双键含量、光交联密度、凝胶转化率和固化膜硬度的变化情况。实验结果表明，２－烷基蒽醌直接引发环氧丙烯酸酯类的光固化反应，具有很好的引发效率，可以和安息香双甲醚与流杂蒽酮等光引发剂相比拟，并具有价格便宜、光固化可在空气条件下操作等优点，另外对反应体系的引发剂浓度、组分配比的影响以及对不同类型环氧丙烯酸酯反应体系的引发效果均进行了讨论。     

颜料/树脂界面状态对UV固化效率的影响

本工作对颜料的表面改性及其对紫外光(UV)固化效率的影响进行了研究。研究发现,除了通常认为的颜料对UV的吸收以及散射会造成UV固化效率下降外,颜料表面与树脂的界面区域残存有空气成分也可能是造成彩色光固化涂层固化速度下降的另一个重要原因。电子能谱研究结果表明,三乙醇胺改性的艳佳丽蓝颜料不仅使得颜料/树脂界面的空气成分大幅减少,而且颜料与树脂的结合处改性前后的碳、氮、氧的组成成分、结合能都发生了明显的变化,存在着明显的界面耦联现象。颜料改性后,固化速度比未改性前有明显提高(例如,膜厚为125μm的涂料通过三乙醇胺对蓝色颜料改性,固化时间从45s减少到14s)。显然这与颜料/树脂界面的状态有关,说明通过颜料的改性来促进UV固化是可行的。研究结果对光固化彩色涂料的研究开发乃至光固化体系填料的使用等都具有积极意义。     

星用典型CMOS器件54HC0460Co源辐射效应研究

给出了加固和非加固 5 4HC0 4电路在不同辐射偏置下的低剂量率辐射实验结果 ,探讨了电流转移曲线、辐射感生漏电流、阈值电压、转换电压随辐射剂量的变化关系。     

从回旋加速器上照过的镍靶中分离~(57)Co

制作穆斯堡尔源~(57)Co的纯度要求很高,杂质含量应小于0.12μg/mCi~(57)Co。稳定性钴含量的增加,使源的线宽加宽甚至发生劈裂现象。降低稳定性钴含量的办法,即可在照射前对靶材料进行纯化,也可在照射后利用核衰变特性和放化分离法相结合,进行钴的同位素分离。本文报导了采用α-粒子轰击镍试制~(57)Co的实验结果。 1.照射靶的制作 天然镍有五种同位素,其中~(58)Ni的丰度最高(67.88％)。α轰击天然镍除得到~(57)Co外,还可生成十多种其     

Characterization of hydrogen concentration in Zircaloy claddings using a low-frequency acoustic microscope with a PVDF/LFB transducer

Hydrogen embrittlement is one of the major mechanisms responsible for the degradation of ductility of Zircaloy cladding materials. Currently the characterization of hydrogen concentration (HC) very often relies on destructive methods that are time-consuming and costly. In this research, an ultrasound-based nondestructive evaluation (NDE) technique is reported for the determination of HC in Zircaloy claddings. This ultrasound-based NDE technique employs a low frequency acoustic microscope (AM) with a PVDF/LFB transducer and a Fourier-based signal processing technique. With this AM technique, a relation between the ultrasound wavespeed and the HC of Zircaloy is established. A resolution of HC measurements with the current technique is demonstrated to be better than 200 ppm. This NDE technique has been developed with an aim to have a better resolution and also to be potentially applied to poolside inspection.     

阴离子交换法从辐照后的Ni靶中分离64Cu

为实现从质子回旋加速器辐照后的Ni靶中提取⁶⁴Cu,建立了使用阴离子交换法从Ni靶溶解液中实施⁶⁴Cu与基体Ni及伴生Co放化分离的工艺。测定了Ni²⁺、Co²⁺ 和Cu²⁺在阴离子交换树脂AG1-X8与盐酸介质之间的静态分配系数K_d。确定了使用阴离子交换树脂柱分离提取⁶⁴Cu的工艺：首先用6 mol/L盐酸穿透Ni,再用4 mol/L 盐酸洗脱⁵⁷Co,最后用1 mol/L 盐酸解吸⁶⁴Cu。⁶⁴Cu放化回收率为87.5%±3.0%。以丰度99.07%的富集⁶⁴Ni为靶材,质子轰击后,使用本工艺分离得到的⁶⁴Cu放射性核纯度大于99.0%,化学杂质Ni、Co和Fe的浓度均小于0.05mg/L。     

放射性示踪法研究Rn和Pt,Pd,Ir的萃取分离—Rh的提纯

本文研究了在不同条件下,TOA-煤油溶液对Pt,Pd,Ir的萃取。在低酸度盐酸介质条件下,用TOA-煤油溶液作为萃取剂可以达到Rh与Pt,Pd,Ir的定量分离。萃取的平衡时间短,分相快。萃取剂可再生使用。用本方法分离经精制获得的金属Rh产品纯度可达>99％。     

The etch mechanisms of magnetic materials in an HCl plasma

The etch rates of CoNbZr and Fe/FeCrB soft-magnetic materials have been determined in an RF HC1 plasma as a function of pressure. The bombardment energy flux towards the powered electrode and the surface temperature of the material being etched, are both dependent on applied power and pressure. At lower surface temperatures the etch mechanism is shown to be chemically-assisted sputter etching (CASE). At higher temperatures a temperature dependent etch rate is observed, with an activation energy that can be ascribed to the desorption of metal chlorides. When using an alumina mask, selectivities up to 8 and steep side walls can be obtained. A general two-step etch mechanism is proposed, which correlates the side wall profile to the rate-determining step and explains the observed temperature dependencies of the etch rates.     

铀的离子交换反应——Ⅳ.盐酸介质中铀(Ⅵ)在强碱性阴离子交换树脂上的化学状态

用当量计算、分配比的测定以及红外光谱等三种实验方法,证明从盐酸介质中吸附到强碱性阴离子交换树脂上的铀酰,主要是以(UO_2Cl_4)~(2-)存在。     

在盐酸体系中Ru(Ⅳ)的状态和萃取研究

本文研究了在[HCl]>3M介质条件下RuCl_6~(2-)的稳定性,它能被>5％TNA-煤油液溶定量萃取。用斜率法求得萃合物组成为[(R_3NH)_2RuCl_6]。同时研究了[TNA N_(1923)]、(TNA DNA)、(TNA ALQ)或(TNA MIBK)对RuCl_6~(2-)的协萃效应并着重研究了(TNA DNA)的协萃机理。在[HCl]>3M条件下,用等摩尔系列法求可能的萃合物为[(R_3NH)(R_2NH_2)_3Ru_2Cl_(12)]。协萃系数S=1.4。     

用背散射X射线穆斯堡尔谱研究涂层下钢铁的腐蚀

用背散射X射线穆斯堡尔谱分析了涂有掺不同颜料的醇酸调合漆的低碳钢在含氯化氢的气氛中的腐蚀产物,以及不同颜料对腐蚀的影响。通过这一实例,表明了背散射X射线穆斯堡尔谱可以成为研究涂层下金属腐蚀的一种有效方法。