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采用先恒流、后恒压的微弧氧化方法,在铝锂合金(添加微量稀土元素Ce)表面制备陶瓷化膜层.研究了氧化时间和脉冲频率对膜层生长过程和表面形貌的影响.结果表明:膜层厚度随着反应时间的延长而增加,在更高频率的高能脉冲作用下(>600 Hz)生长速率更快;膜层表面多孔、起伏不平,延长反应时间或提高脉冲频率会导致烧蚀留下的坑洞变大,表面粗糙度亦随之增大;膜层与基体结合良好,由内部致密层和外部疏松层组成,总厚度可达50 μm;EDS分析表明,膜层由Al、O、Si构成,Si元素的摄入认为是NaOH-Na2SiO3电解液体系中的SiO32-参与反应进入膜层. 相似文献
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通过对不同电解液成分和浓度的选取,制备氧化和着色兼容的微弧氧化膜。不同种类的电解液所得到的微弧氧化膜层颜色也不同,同种体系中的主要成分浓度的不同是影响微弧氧化膜颜色和生成速率的原因之一。 相似文献
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为比较在高压阳极氧化条件下不同电解液体系中碱性含氧酸盐对6063铝合阳极氧化膜层厚度及氧化时间的影响,将6063铝合金置于Na2SiO3、Na2HPO4和NaAlO2三种电解液体系中制备出阳极氧化膜。用涡流测厚仪测试了膜层厚度,通过点滴腐蚀实验评价了Na2SiO3体系所得氧化膜的耐腐蚀性能,利用扫描电子显微镜(SEM)观察分析了氧化膜的表面形貌。结果表明,钨酸钠能显著提高膜层厚度和膜层的耐腐蚀性能,六偏磷酸钠(SHMP)能延长氧化时间,提高膜层的硬度;在硅酸盐体系中钨酸钠和六偏磷酸钠按1∶1的比例加入,能得到致密的高耐蚀性阳极氧化膜层。 相似文献
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为比较在高压阳极氧化条件下不同电解液体系中碱性含氧酸盐对6063铝合阳极氧化膜层厚度及氧化时间的影响,将6063铝合金置于Na2SiO3、Na2HPO4和NaAlO2三种电解液体系中制备出阳极氧化膜.用涡流测厚仪测试了膜层厚度,通过点滴腐蚀实验评价了Na2SiO3体系所得氧化膜的耐腐蚀性能,利用扫描电子显微镜(SEM)观察分析了氧化膜的表面形貌.结果表明,钨酸钠能显著提高膜层厚度和膜层的耐腐蚀性能,六偏磷酸钠(SHMP)能延长氧化时间,提高膜层的硬度;在硅酸盐体系中钨酸钠和六偏磷酸钠按1:1的比例加入,能得到致密的高耐蚀性阳极氧化膜层. 相似文献
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添加剂铬酸钾对TC4钛合金微弧氧化膜层性能的影响 总被引:1,自引:0,他引:1
以TC4钛合金为基体,在硅酸钠电解液中进行微弧氧化(MAO)。电解液的主要成分为Na2SiO3、Na3PO4和NaOH,工艺条件为:电压450V,频率500Hz,占空比30%,时间5min。通过向电解液中添加0.5g/LK2CrO4对微弧氧化膜层进行着色。采用涡流测厚仪、维氏硬度计、扫描电镜、X射线荧光光谱分析仪以及中性盐雾试验等,研究了K2CrO4添加剂对膜层厚度、显微硬度和形貌等性能的影响。结果表明,所得微弧氧化膜层为典型的不规则多孔氧化物陶瓷膜层,显微硬度和耐蚀性明显优于基材。在电解液中加入K2CrO4后,MAO膜层由灰色转变为深黄色;K2CrO4使膜层粗糙度和孔径增大,与基体结合处的缺陷减少,结合力增强;膜层的脆性和内应力降低,耐蚀性增强。 相似文献
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在硅酸钠、钨酸钠、硼酸、偏铝酸钠和乙二胺四乙酸二钠的复合电解液中,利用微弧氧化方法,在ZL102铸造铝合金上制备了陶瓷膜层。结果表明:脉冲电源获得的氧化膜表面由熔化凝固后的氧化物颗粒组成,颗粒呈不规则球形,周围有明显的熔化痕迹,表面粗糙凹凸不平且不均匀。通过对陶瓷膜层能谱分析,膜层中出现了Al、Si、Na、O、W元素。 相似文献
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采用正交实验对AZ 31镁合金在碱性电解液中进行阳极氧化的工艺参数进行优化。考察了氧化时间、电流密度、脉冲频率和占空比对阳极氧化膜性能的影响,获得最佳阳极氧化工艺参数为:氧化时间15min,电流密度1.0A/dm2,脉冲频率200Hz,占空比10%。采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)和动电位极化曲线等检测手段研究了阳极氧化膜的结构、表面形貌和耐蚀性。结果表明:经优化工艺制得的阳极氧化膜,其主要成分为MgO,Al2O3和MgAl2O4,膜层孔隙分布均匀、致密,耐蚀性大幅提高。 相似文献
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铝合金在不同电解液体系中微弧氧化过程的研究 总被引:4,自引:0,他引:4
为比较不同电解液体系下各种工艺参数对铝合金微弧氧化膜性能及耐腐蚀能力的影响,通过微弧氧化法在NaOH、Na2S iO3、NaH2PO4、Na2CO3四种电解液体系分别制备了铝合金氧化膜。通过点滴腐蚀实验比较了四种电解液体系所得氧化膜的耐腐蚀能力,利用扫描电子显微镜(SEM)观察分析了氧化膜的表面形貌。实验表明,在这四种电解液体系中起弧电压均随浓度的降低及电极间距离的增加而逐步升高,而膜厚与氧化电压、时间的增加成正比,但成膜速率随时间的延长而逐渐减缓,在各体系中这些变化的具体情况仍有所区别。其中以NaOH体系所得氧化膜的膜层较致密,微孔分布均匀,相同条件下耐蚀性能要优于其他三种电解液体系所制氧化膜。 相似文献
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Doriane Del Frari Sebastien Diliberto Nicolas Stein Clotilde Boulanger Jean-Marie Lecuire 《Journal of Applied Electrochemistry》2006,36(4):449-454
(Bi1-xSbx)2Te3 thermoelectric thin films were deposited on stainless steel discs in 1 M perchloric acid and 0.1 M tartaric acid by pulse electrodeposition in order to optimize the grain growth. The influence of the electrolyte composition,
the cathodic current density and the cathodic pulse time on film stoichiometry were studied. The results show that it is necessary
to increase the Sb content in the electrolyte to obtain the (Bi0.25Sb0.75)2Te3 film stoichiometry. Pulse plating reduced the grain size and the roughness, compared with continuous plating. Thermoelectric
and electrical properties were also studied and it was found that the Seebeck coefficient and electrical resistivity were
related to two parameters: the cathodic pulse current density and the films thickness. 相似文献
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对金属雕塑用的2024铝合金进行阳极氧化处理,并研究了电压对铝合金氧化膜的厚度、硬度、耐蚀性及表面形貌等的影响。结果表明:电压较低时,氧化膜较薄,耐蚀性不佳。适当升高电压,有利于提高氧化膜的厚度和硬度。但电压高于20V时,氧化膜的溶解速率增大,使得氧化膜的厚度和硬度下降。20V下得到的氧化膜具有最佳的耐蚀性。 相似文献