家用电器热镀锌钢板的无铬耐指纹钝化

传统热镀锌钢板钝化工艺以铬酸盐体系为主,污染严重.以有机硅为主开发出了有机无机复合钝化剂,通过调整工艺参数在热镀锌钢板表面获得了较理想的钝化膜.考察了钝化膜膜厚、均匀性与各工艺参数之间的关系;探讨了不同钝化膜厚度对热镀锌钢板耐蚀性、耐指纹性、导电性及耐高温黄变性的影响.结果表明:无铬钝化膜的性能与铬酸盐转化膜基本一致,...     

乙烯基三乙氧基硅烷表面改性纳米SiO2

采用硅烷偶联剂A-151处理的纳米二氧化硅(SiO2)粒子,具有良好的疏水性,并且反应副产物没有腐蚀性,有利于保护设备和环境.对改性前后纳米SiO2的表面进行研究,证明该工艺能够实现纳米SiO2的表面改性,能够有效分散纳米SiO2聚集体.红外光谱分析表明,A-151确实已经和纳米SiO2表明的羟基发生了化学反应.     

镀锌无铬钝化新工艺的探讨

以硫酸、硅酸盐、双氧水、磷酸、硝酸、四甲撑基硫脲膦酸所组成的无铬钝化液,处理镀锌层表面,具有光亮、抗腐蚀性较好、成膜性能好、无毒、工艺简单等优点.     

镀锌产品无铬钝化技术研究进展

纯镀锌产品耐腐蚀性不强,对镀锌件进行无铬钝化,有利于提高其耐腐蚀性能,同时还有利于环境保护.为此,从无机物和有机物两方面综述了当今无铬钝化镀锌产品的研究现状,并展望了今后的发展方向.     

纳米SiO2氢氧化铝/十二烷基苯磺酸钠的表面包覆改性

通过氢氧化铝和十二烷基苯磺酸钠(SDBS)对纳米SiO2进行表面包覆和改性处理,改善纳米SiO2的表面结构和分散性.使用IR、FESEM、EDS、Malvern Zetasize 3000HSA自动电位粒度仪等表征手段,对表面包覆改性后纳米SiO2的表面结构、形貌及等电点等进行了测试和分析.结果表明,经Al(OH)3表面包覆后,纳米SiO2粉体等电点(IPE)的pH值从1.58变为7.1;经SDBS对表面包覆Al(OH)3的纳米SiO2进行改性后,纳米SiO2粉体团聚现象减少,单个纳米SiO2颗粒的粒径约为30nm.     

镀锌钢板无铬钝化技术的研究进展

随着环保要求的日益严格,用无毒的钝化液取代铬酸盐钝化是镀锌钢板钝化的必然趋势.综述了国内外镀锌钢板无铬钝化研究的最新进展,展望了无铬钝化未来的发展前景.     

纳米SiO2对热镀锌钢板耐指纹涂层性能的影响研究

通过中性盐雾试验、耐指纹性检测、导电性检测等研究了纳米SiO2对于耐指纹涂层性能的影响.结果表明:在同等涂层附着量(0.9～1.1 g/m2)条件下,含有气相纳米SiO2涂层的耐腐蚀性能优于含有液相纳米SiO2的涂层,且纳米SiO2粒径越小,其耐蚀性越高.研究发现,耐指纹涂层纳米SiO2含量大于7%时涂层具有耐指纹性,而涂层中纳米SiO2含量达到10%时导电性能趋于稳定.     

纳米SiO2的制备、改性和应用

综述了纳米SiO2的制备技术,包括气相法、电弧法、沉淀法、溶胶-凝胶法和微乳液法等.从物理改性和化学改性2个方面介绍了纳米SiO2的表面改性技术及其改性机理.全面概述了纳米SiO2在各个领域的应用情况,并对其发展前景进行了展望.     

无铬耐指纹液的研究进展

耐指纹液是生产耐指纹钢板的关键,无Cr(Ⅵ)耐指纹液是发展的必然趋势.简述了镀锌钢板耐指纹液的发展历程,分析了日本及国内无铬耐指纹液的研究现状,介绍了无铬耐指纹液的主要组分及作用.     

纳米SiO2的表面改性及其在聚氨酯弹性体中的应用

用十二烷基苯磺酸钠(SDBS) 对表面包覆Al(OH)3的纳米SiO2进行了改性处理.通过IR、自动电位粒度仪和FESEM等测试手段对表面处理前后纳米SiO2的表面结构、界面电性能和分散状况进行了分析表征.考查了处理前后纳米SiO2与聚氨酯弹性体(PUE)的相容性及其对PUE材料力学性能的影响.结果表明,经SDBS对表面包覆Al(OH)3的纳米SiO2粉体进行改性后,纳米SiO2粉体的团聚现象减少,分散性提高,单个纳米SiO2颗粒的平均粒径约为30nm;经表面处理后的纳米SiO2粉体与有机基体PUE的相容性增强,并对PUE材料的力学性能有了较大的改善,能同时达到增强增韧的效果.     

镀锌钢板表面改性纳米SiO_2复合磷化膜的性能

纳米材料在表面处理领域应用广泛,但在磷化工艺中的应用尚处于起步阶段。选用小分子量的乙烯基三乙氧基硅烷(A151)对纳米SiO_2进行表面改性处理,改善其在溶液中的分散性,将改性纳米SiO_2加入预先配制的基础磷化液中,在镀锌钢板表面制备出复合改性纳米SiO_2的无镍晶态磷化膜。通过电化学测试、中性盐雾试验、扫描电镜、X射线衍射仪等研究了改性纳米SiO_2对磷化膜层性能的影响。结果表明:乙烯基三乙氧基硅烷改性纳米SiO_2分散性良好,在磷化液中加入改性后的纳米SiO_2可以较大地提升磷化膜层的耐蚀性,从而提高纳米材料在汽车制造工业中的应用效果。     

无锌花镀锌板表面灰色斑点的形成原因分析

无锌花镀锌板光整后下线时未发现灰色斑点,但放置20余天后表面出现深浅不一的灰色斑点。针对这种表面缺陷,对灰色斑点处镀锌板进行了微观形貌观察与能谱分析。结果表明:镀锌层晶界处含有大量的Fe、O元素,Zn元素较少;正常镀层处Zn元素较多,Fe元素较少。深浅斑点的出现与镀锌板所处的环境因素以及钝化效果和工艺有关。在一定的环境如高温或潮湿条件下,镀锌板锌粒间成为腐蚀的起点,导致锌层完整性的破坏。其次,钝化效果不好可能导致镀锌板出现钝化层不均匀的现象,造成钝化较薄的区域容易发生表面腐蚀。     

热镀锌钢板无铬钝化膜的改性及其耐蚀性能

以丙烯酸树脂作主成膜剂,钼酸、磷酸盐作缓蚀剂,再加入经铝溶胶改性的硅烷偶联剂,通过交联反应在镀锌板表面形成无铬钝化膜。利用红外光谱、中性盐雾试验、电化学交流阻抗和极化曲线对镀锌板表面钝化膜特征进行了表征。结果表明:铝溶胶改性硅烷在钝化膜中形成了Si-O-Al键;改性后的无铬钝化膜更加致密,耐腐蚀性能更高。     

纳米二氧化硅表面改性研究

采用甲苯二异氰酸酯(TDI)接枝聚乙二醇(PEG)对纳米SiO2进行表面改性,并利用红外光谱(FTIR)和热重(TG)、扫描电镜(SEM)、粒径分析、重力沉降法等方法对改性前后的纳米SiO2的表面形貌和在介质中的分散稳定性进行了表征和分析.结果表明,改性后的纳米SiO2表面接枝上了TDI、PEG的有机官能团,降低了颗粒...     

载银纳米TiO2表面改性对抗菌涂料性能的影响

以硅烷偶联剂(KH-570)对纳米TiO2/Ag+进行表面处理,对处理后的纳米TiO2/Ag+进行表征后证实,硅烷偶联剂以化学键的形式键合在纳米TiO2的表面。采用原位乳液聚合方法制得载银纳米TiO2/苯乙烯-丙烯酸酯复合乳液,TEM测试表明纳米TiO2被均匀地包覆在乳液中。采用该复合乳液为基料与各助剂等原料按一定比例配制成涂料,经性能测试后表明,与普通共混制得的涂料相比,该涂料的抗菌性能得到明显的提高,并且有很强的紫外光吸收性能。     

镀铝锌带钢彩涂板漏涂缺陷表征与分析

为探究底漆正常涂覆、面漆漏涂的镀铝锌彩涂板表面缺陷产生的原因,采用镀层截面金相分析、扫描电镜、电子探针观察以及能谱分析等手段进行了检测分析.结合实际生产状况初步认为,预清洗不完全、基板表面残留氧化铁是造成漏涂的根本原因.氧化铁的存在使得镀层不连续,出现悬崖和缺失,在凹陷处残留有气体,涂漆后烘干时受热膨胀,冲破面漆,从而成为漏涂缺陷.     

热镀锌钢板上单宁酸-H2TiF6涂层的耐蚀性能

为提高热镀锌钢板的耐蚀性,在其表面涂覆单宁酸-H2TiF6涂层,研究了涂层的形貌、成分、结构及耐蚀性能.结果表明:单宁酸-H2TiF6涂层能为热镀锌钢板提供良好的防腐蚀保护;提高涂覆液酸度,涂层耐蚀性增加,pH=3时涂层耐蚀性最大,继续增加涂覆液酸度时涂层耐蚀性不再增加;固化温度影响涂层耐蚀性,60～80℃固化时涂层的...     

纳米SiO_2/改性丙烯酸树脂低表面能防污涂料

低表面能防污涂料是船舶涂料的一个重要分支。利用有机硅改性的丙烯酸树脂作为成膜物质,纳米SiO2为填料,制备了低表面能纳米复合防污涂料。考察了有机硅单体对改性丙烯酸树脂性能的影响,发现随着有机硅含量的增加,改性后的树脂粘度减小,水接触角增加。研究了氟硅烷改性纳米SiO2含量对涂层形貌和水接触角的影响。结果表明,添加少量的氟硅烷处理的纳米SiO2(1%和3%)可显著增大涂层的水接触角,提高涂层的防污性能。添加纳米SiO2浆的涂层的水接触角要高于添加接枝氟硅烷纳米SiO2的涂层,而后者要高于添加未接枝氟硅烷纳米SiO2的涂层。当纳米SiO2的添加量在1%和3%时,涂层的水接触角分别达到101.8°和103°。采用纳米浓缩浆工艺分散后的纳米SiO2可以使涂层的表面形成微米-纳米的特征形貌,从而实现防污的目的。     

Performance Enhancement of Lead-Free 2D Tin Halide Perovskite Transistors by Surface Passivation and Its Impact on Non-Volatile Photomemory Characteristics

Two-dimensional (2D) tin (Sn)-based perovskites have recently received increasing research attention for perovskite transistor application. Although some progress is made, Sn-based perovskites have long suffered from easy oxidation from Sn²⁺ to Sn⁴⁺, leading to undesirable p-doping and instability. In this study, it is demonstrated that surface passivation by phenethylammonium iodide (PEAI) and 4-fluorophenethylammonium iodide (FPEAI) effectively passivates surface defects in 2D phenethylammonium tin iodide (PEA₂SnI₄) films, increases the grain size by surface recrystallization, and p-dopes the PEA₂SnI₄ film to form a better energy-level alignment with the electrodes and promote charge transport properties. As a result, the passivated devices exhibit better ambient and gate bias stability, improved photo-response, and higher mobility, for example, 2.96 cm² V⁻¹ s⁻¹ for the FPEAI-passivated films—four times higher than the control film (0.76 cm² V⁻¹ s⁻¹). In addition, these perovskite transistors display non-volatile photomemory characteristics and are used as perovskite-transistor-based memories. Although the reduction of surface defects in perovskite films results in reduced charge retention time due to lower trap density, these passivated devices with better photoresponse and air stability show promise for future photomemory applications.     

多晶硅薄膜的表面处理工艺

采用NH3和N2O的等离子体分别对p-Si（多晶硅）薄膜表面进行了钝化处理,处理后的p-Si TFT（薄膜晶体管）具有比未处理FTF更优越的性能,通电试验与热应力试验后,处理后的器件呈现出更好的承受电负荷和热应力能力,钝化的微观机理是NH3和N2O等离子体中和了p-Si薄膜的悬挂键,形成牢固的Si-N键,减少了表面态密度。