磁控溅射制备Fe／Ti多层膜的结构和磁性

用磁控溅射技术制备了系列Fe／Ti纳米多层膜，周期调制在2．2-24．0nm；用透射电镜和小角，高角X射线衍射分别研究了样品的结构；用振动样品磁强计和Mossbauer谱研究了样品的磁性，发现铁层厚度在2nm附近时存在铁磁性面心立方γ-Fe，样品的易磁化方向平行于膜面；随调制周期增大，样品的饱和磁化强度增加，矫顽力下降且与结晶状态有关。     

退火[Co＼Cu]多层膜的固相反应与磁性

用双对向靶溅射方法制备了两种成分的「Ｃｏ（１．２ｎｍ）／Ｃｕ（ｔＣｕ）」（ｔＣｕ＝１．０ｎｍ，３．４ｎｍ）纳米多层膜。分别用ＴＥＭ和ＴＧ方法研究了「Ｃｏ／Ｃｕ」多层膜结构和磁怀随温度的变化。结果表明：ｔＣｕ＝１．０ｎｍ的多层样品出现了两个磁性转变点，这是因为样品中存在的两种磁性物质。ＴＥＭ分析结果证明这两种铁磁相为ｈｃｐＣｏ－Ｃｕ固溶体。     

Co／Ti非晶多层膜晶化过程中结构及磁性的变化

利用双对向靶溅射方法在室温下制备Ｃｏ／Ｔｉ非晶多层膜，并采用原位退火透射电镜和原位热重法，观测了Ｃｏ／Ｔｉ多层膜结构与磁性随温度的变化，结果表明：退火温度ｔａ为４００℃时，薄膜开始晶化，Ｃｏ，Ｔｉ颗粒析出并粗化；ｔａ＞６００℃时，具有铁磁性的Ｃｏ单质完全消失，全部转化为Ｃｏ２Ｔｉ相．热磁测量在３９０及５２０℃附近出现了两个明显的磁性转变峰，与薄膜结构变化对应．适当温度（４００—５２０℃）的退火可获得高饱和磁化强度的Ｃｏ－Ｔｉ颗粒膜．     

离子束溅射制备Co／Pt多层膜的磁性研究

室温下采用ＶＳＭ测定了离子束溅射（ＩＢＳＤ）技术制备的Ｃｏ／Ｐｔ多层膜垂直方向的Ｍ－Ｈ回线。研究结果表明：Ｃｏ／Ｐｔ多层膜中单位体积Ｃｏ的饱和磁化强度ＭｓＣｏ小于块状Ｃｏ的饱和磁化强度;Ｃｏ／Ｐｔ多层膜的饱和磁化强度（Ｍｓ）与厚度有关：随Ｃｏ层厚度ｔＰｔ和多层膜总厚度ｔｆ的增加而增大,随Ｐｔ层厚度ｔｐｔ的增加而减小;外推结果表明当ｔＣｏ小于一个原子层厚（≈０２５ｎｍ）时,室温下Ｃｏ／Ｐｔ多层膜的饱和磁化强度为零,呈顺磁性     

Pt／Co／Pt／Ni多层膜的结构与磁性

为了改变Pt/Co多层膜的磁光特性与磁性,插入与第三元素层是有效途径之一。我们研究表明,插入Ni可导致居里温度Tc的下降。所插的层最佳厚度为0．3－1．0nm,X射线衍射实验表明,插入Ni层后的样品具有良好的成层结构。Pt（111）峰与Co(111）峰的位置分别比纯Pt/Co相应的峰略向左移和向右移,这证明面间距分别是增大和缩小。磁性测定,由于Ni层的插入磁光克尔角θk略有增高,剩磁比与矫顽力的性能更好。     

Co/Pt多层膜的结构和饱和磁化强度

采用离子束溅射技术制备Ｃｏ／Ｐｔ多层膜,用ＲＢＳ、小角ＸＲＤ和断面ＴＥＭ研究了多层膜的周期性调制结构,用ＶＳＭ研究了磁性层Ｃｏ和顺磁性层Ｐｔ的厚度变化对饱和磁化强度的影响。结果表明,多层膜具有良好的周期性层状结构,和设计值一致。样品的饱和磁化强度（Ｍｓ）随Ｃｏ层厚度增加而增大,随Ｐｔ层的厚度增大而减小。当Ｃｏ层和Ｐｔ层的厚度比一定时,样品的饱和磁化强度不受周期数的影响,符合Ｍｓ＝ＭｃｏｔＣｏ／Ｄ模     

Co／C多层膜的结构稳定性

用Ｘ射线衍射、透射电镜、Ｒａｍａｎ光谱、Ｘ射线光电子谱等测量方法研究了用对向靶溅射法制备的Ｃｏ／Ｃ多层膜的结构热稳定性．退火Ｃｏ／Ｃ多层膜的结构变化包括周期膨胀、非晶Ｃｏ层结晶、掠入射反射率变化以及化合物的形成．４００℃退火，周期膨胀主要是由于非晶碳层的石墨化．Ｃｏ／Ｃ系统的相分离造成掠入射反射率增强，可解释为Ｃｏ／Ｃ系统的正的混合焓．５００℃退火，Ｃｏ层的结晶和集聚导致了周期的异常膨胀和反射率的降低．此时界面处形成了少量的碳化物．     

Co—Nb／Cr磁性多层膜的振荡耦合

Ｃｏ－Ｎｂ－Ｃｒ磁性多层膜由高频溅射方法制得,由振动样品磁强计测量样品的磁性能。在２．６７Ｐａ溅射氩气压下,发现样品随Ｃｆ层厚度增加,铁磁层间出现铁磁性和反铁磁性的耦合振荡,饱和磁化强度Ｍｓ基本保持不变,而在０．６７Ｐａ溅射氩气压下,样品的饱和磁化强度Ｍｓ发生了振荡,这可能与春铁磁层中顺磁分量振荡变化有关。     

磁控溅射制备Fe／Ti多层膜的结构和磁性

用磁控溅射技术制备了系列Ｆｅ／Ｔｉ纳米多层膜，周期调制在２．２－２４．０ｎｍ，用透射电镜和小角，高角Ｘ射线衍射分别研究了样品的结构；用振动样品磁强计和Ｍｏｅｓｓｂａｕｅｒ谱研究了样品的磁性。发现铁层厚度在２ｎｍ附近时在铁磁性面立方γ－Ｆｅ，样品的易磁化方向平行于膜面；随调制周期增大，样品的饱和磁化强度增加，矫顽力下降且与结晶状态有关。     

Li(Mn1/3Ni1/3Co1/3)1-yMyO2(M=Al,Mg,Ti)正极材料的制备及性能

采用液相共沉淀合成锰镍钴氢氧化物前驱体, 在前驱体中掺入元素M(M=Al, Mg, Ti), 与锂结合生成Li(Mn1/3Ni1/3Co1/3)0.98M0.02O2材料, 结果表明掺杂可有效提高材料的循环性能. X射线衍射结果表明 随掺钛量增大(0≤y≤0.15), 晶格畸变增大, 半高宽变大, 晶粒粒径增大; 其中掺钛量y=0.1的材料电化学性能表现最好, 以20 mA/g电流充放电, 在2.5～4.6 V电压区首次放电容量可达215 mA·h/g.     

Magnetic properties and structure of （001）-oriented [CoPt/C]n/Ag nanocomposite films on the glass substrates

The highly （1301） oriented triple system of [CoPt/C]n/Ag films was deposited on glass substrates by DC and RF magnetron sputtering. After annealing at 600℃ for 30 min, thin films become magnetically hard with coercivities in the range of 160-875 kA/m because of high anisotropy associated with the L10 ordered phase. C doping plays an important role in improving （001） texture and reducing the intergrain interactions. The oriented growth of CoPt films was influenced strongly by the number of repetitions （n） of CoPt/C. By controlling the C content and the number of repetitions （n） of CoPt/C, nearly perfect （001） orientation can be obtained in the [CoPt3nm/C3nm]5/Ag50 nm.     

前处理工艺对Li[Ni1/3Mn1/3Co1/3]O2正极材料结构、形貌和电化学性能的影响（英文）

以[Ni1/3Co1/3Mn1/3]3O4和氢氧化锂为原料,分别采用球磨法和液相法前处理工艺制备层状正极材料Li[Ni1/3Mn1/3Co1/3]O2。采用X？射线衍射（XRD）、场发射扫描电镜（FESEM）、恒流充放电等手段对材料的物理和电化学性能进行表征。结果表明：采用不同前处理工艺制备出的Li[Ni1/3Mn1/3Co1/3]O2材料在结构、形貌和电化学性能上有较大差异;与球磨处理法制备的材料相比,采用液相法前处理工艺制备的Li[Ni1/3Mn1/3Co1/3]O2不但保持了前驱体较好的球形形貌,同时还具有较好的循环稳定性和倍率性能;该样品在20mA/g电流密度下,首次放电容量为178mA·h/g,50次循环后,容量保持率达98.7%;在1000mA/g电流密度下,样品容量为135mA·h/g。