类金刚石薄膜厚度的测量

采用真空等离子沉积的类金刚石膜,它属于一种超薄性的薄膜。在诸多的测量方法中,本文采用了椭圆偏振光测量法来测量薄膜的厚度。该方法运用布鲁斯特角,并根据起偏器、栓偏器和四分之一波片精确测量了薄膜的厚度。在测量薄膜厚度的同时也可知道所沉积膜的均匀性情况。     

薄膜厚度监测

本文对比较常用的薄膜厚度的监控和测量方法进行详述,并就各种方法进行比较。     

具有择优取向性的基材表面的薄膜厚度的X射线衍射测量修正

根据薄膜对X射线的吸收效应,利用X射线衍射方法可测量出多晶基材表面的薄膜厚度。但试验结果显示,基材的择优取向效应对薄膜厚度的测量影响显著。根据理论分析,提出了择优取向修正方法。在对X射线衍射数据进行择优取向修正后,利用最小二乘法对修正后的数据进行拟合。拟合结果显示,该方法可以有效地对基材的择优取向效应进行修正,从而获得较为准确的薄膜厚度值。     

应用低频涡流测量雷达天线罩的厚度

测量某种固体工件 /涂层的厚度可以采用很多检测方法 ,如用机械方法中的游标卡尺测量规则工件厚度 ;用超声波法测量工件厚度 ;用涡流法测量涂层厚度 ;用射线吸收法测量镀层厚度等。但是 ,由于飞机结构复杂 ,它的某些工件形状特殊 ,一般的方法难以解决其厚度的测量 ,雷达天线罩便是其中之一。1　问题的提出雷达天线罩位于飞机机身的最前方 ,外形像一个锅盖 ,由复合材料做成。雷达天线罩的厚薄直接影响着飞机的飞行安全和人身安全。若罩的厚度过厚 ,雷达信号波难以透过雷达天线罩 ,造成发射和接收的信号微弱 ,影响飞机的飞行安全 ;若罩的厚度…     

激光熔凝过程中金属薄膜瞬态电阻的测量

采用瞬态电阻测量方法,对激光表面快速熔凝过程进行了实时跟踪,分析了激光器单脉冲能量、金属薄膜的预热温度等参数对测定结果的影响。结果表明;在快速熔凝过程中金属薄膜的电阻随过程时间呈凸峰状变化,在激光加热周期内,电阻随时间迅速增加,之后随时间的推移又逐渐减小,电阻的减小速度低于增加速度;随着激光功率密度增加,电阻曲线的峰值增大,升温及冷却速度相应增大;随着预热温度的提高,电阻峰值也相应增大,但是样品下表面的热导出率下降,冷却速度下降;当样品下表面的导热能力降低时,样品的电阻曲线峰值有所提高,而在冷却段电阻却明显变化缓慢。     

鼓泡法测量高分子和金属薄膜弹性模量的方法探讨

在自制的鼓泡仪上对高分子薄膜和金属镍膜的弹性模量进行了测量,并研究了孔径对薄膜弹性模量测量的影响。结果表明,高分子薄膜的弹性模量为2.7±0.2GPa,孔径对薄膜弹性模量的测量没有影响;受仪器精度限制,该仪器目前尚难用于金属镍膜的弹性模量的精确测量。     

CMP中薄膜厚度问题研究

就目前CMP建模当中没有考虑到芯片表面的薄膜氧化所需时间对模型建立所产生的影响,以至最后模型的预测结果与试验结果相差甚多的问题进行探讨.在基于理论分析的基础上提出以椭偏仪法测定出芯片表面薄膜生成厚度与浸泡时间精确的对应关系.试验结果表明:在模型建立时,芯片表面薄膜厚度的生成时间对模型的建立有着重要影响,精确测定其时间对应关系将有助于使得所建模型的预测结果与试验结果进一步吻合.     

用X射线应力仪无损检测薄膜材料厚度

基于X射线衍射与吸收理论,提出一种薄膜厚度测量方法即膜下基体衍射法。利用X射线应力仪测量高速钢表面的TiN薄膜厚度,发现利用膜下基体衍射可精确测量薄膜厚度。     

厚度测量新系统

德国ＩＭＳ公司提供的厚度测量系统通常由测量站、信号加工处理元件和外围辅助设备组成。数据记录系统完成数据的统计分析和评估 ,以保证测量质量。该系统可实现热轧或冷轧的在线测量。测量过程中由于使用了Ｘ射线或同位素射线 ,因而可在无接触和无破坏性的条件下进行。且能在时间常数为 1ｍｓ情况下获得高的测量精度 (<0 1% )。该系统的设计可扩大工业应用范围 ,保证有较长的使用寿命且易于在现场使用。该测量系统的设计特点 :标准测厚仪由带有射线源的测量站和带有信号加工处理系统的电子元件组成 ,其他工作和操作人员工作站以及外围设备…     

利用电子衍射照片确定ZrO2薄膜的织构状态

阐述了一种利用电子衍射照片半定量地确定薄膜织构状态的原理和方法,并确定了立方ZrO_2薄膜的织构状态.     

TEXTURE DETERMINATION OF THIN FILM ZrO_2 BY ELECTRON DIFFRACTION

A method for semi-quantitative determination of thin film texture using electron diffrac-tion is described.The texture state of a zirconia thin film with a cubic structure hasbeen determined in this way and is presented as an example.     

NUMERICAL SIMULATION FOR MEASURING YIELD STRENGTH OF THIN METAL FILM BY NANOINDENTATION METHOD

ＮＵＭＥＲＩＣＡＬＳＩＭＵＬＡＴＩＯＮＦＯＲＭＥＡＳＵＲＩＮＧＹＩＥＬＤＳＴＲＥＮＧＴＨＯＦＴＨＩＮＭＥＴＡＬＦＩＬＭＢＹＮＡＮＯＩＮＤＥＮＴＡＴＩＯＮＭＥＴＨＯＤ①ＭａＤｅｊｕｎ，ＸｕＫｅｗｅｉ，ＨｅＪｉａｗｅｎＳｔａｔｅＫｅｙＬａｂｏｒａｔｏｒｙ...     

薄液层下金属腐蚀行为研究方法的进展

综述了近几十年来薄液层下金属腐蚀行为研究方法的进展,重点介绍了薄液层下金属腐蚀的电化学研究方法,尤其是大气腐蚀监测仪、微电极技术和Kelvin 探针参比电极技术在该领域的应用和主要优缺点.同时简要介绍了薄液层下金属腐蚀行为研究的关键实验技术,并展望了薄液层下金属腐蚀研究方法的发展趋势.     

纯水薄液膜下Q235钢潮湿时间的影响因素和腐蚀速度的磁阻研究

以温度、相对湿度和浸润时间为影响因素,研究了纯水薄液膜下Q235钢潮湿时间的影响规律,结合磁阻探头技术和作者提出的积分过滤算法（IFA）,分析了腐蚀早期阶段的腐蚀速度变化规律。首先将数据挖掘技术中的标准化处理引入了多变量影响因素分析,显著提高了结果的准确性。研究表明,温度和湿度对碳钢潮湿时间的影响远较浸润时间为大,且温度的影响与试样表面有无腐蚀产物相关。随着温度的提高,温度对清洁试样潮湿时间的影响逐渐加大,大致在20 ℃左右出现明显的转折;湿度对清洁试样潮湿时间的影响则随着温度的升高逐渐下降。通过磁阻探头技术计算得到的腐蚀速度的聚类分析,以20 ℃和相对湿度80%为分界点,大致将腐蚀速度分为两个区,即低和高腐蚀速度区,两区的腐蚀速度相差约4 倍左右。在低腐蚀速度区,实验观察到腐蚀初期可标识腐蚀历程转变的磁阻探头寿命单元（PLU）平台,而相应PLU平台在高腐蚀速度区则不明显,对相关的腐蚀机理作了初步的讨论。     

薄层液膜下金属电化学腐蚀电池的设计

设计了一种研究金属在薄层液膜下电化学行为的三电极腐蚀电池.该电池在降低研究电极和参比电极之间IR的同时消除了参比电极中离子对薄层液膜的污染,并且易于操作.通过稳态极化曲线和交流阻抗技术研究了该电池在薄层液膜下和在大量电解质溶液中的电化学行为,证明了该电池适合研究金属在大气中的电化学腐蚀行为.     

用薄膜内耗仪测定薄膜应力

采用一种新的薄膜内耗仪观测Ni50Ti50薄膜样品的形变(薄膜形变造成薄膜与载膜硅片之间的界面应力)随温度或其它环境参量的变化．同步测量了薄膜的内耗、动态模量、薄膜应力以及Ni50Ti50薄膜的相变过程。     

PREPARATION AND CHARACTERIZATION OF POLY-CRYSTALLINE SILICON THIN FILM

Poly-crystalline silicon thin film has big potential of reducing the cost of solar cells. In this paper the preparation of thin film is introduced, and then the morphology of poly-crystalline thin film, is discussed. On the film we developed poly-crystalline silicon thin film solar cells with efficiency up to 6.05% without anti-reflection coating.     

TiNi薄膜马氏体稳定化及其形状记忆效应研究

用DSC研究了预变形对Ti51Ni49形状记忆合金薄膜的相变行为的影响，结果表明：预变形后薄膜的马氏体发生了稳定化现象，第一次逆相变温度T^1A随预应变量增加而升高，而在第二次相变循环中，马氏体稳定化现象消失，逆相变温度T^2A基本恢复到变形前的温度值，马氏体相变温度随预应变量增大而降低，但R相变受预变形影响不大，形状记忆效应研究表明，Ti51Ni49合金薄膜的可恢复应变随预应变量的增加而增大，其最大值4．5％在预应变量为6％时获得。     

纳米晶FeCoNi软磁薄膜的制备及其耐蚀性能的研究

采用循环伏安(CV)法以酸性硫酸盐溶液为基础液,在不同的电沉积工艺条件下制备纳米晶FeCoNi软磁薄膜,并结合SEM、EDX以及Tafel极化等测试方法研究FeCoNi纳米晶薄膜的微观结构、组成及耐蚀性等相关性能.结果表明:在-0.39——1.19 V(SCE)的电位区间为,可获得致密、均匀且耐蚀性较好的纳米晶FeCoNi合金结构.