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室内空气污染因素对人体的危害及净化技术措施 总被引:8,自引:1,他引:7
介绍了室内主要污染因素即化学性、生物性、物理性因素对人体健康的危害及室内空气净化方法:吸附过滤净化技术、低温等离子体技术、臭氧净化技术、光催化技术。主要叙述了纳米光催化技术的原理、光催化剂的制备方法及纳米光催化技术在室内空气净化中的应用。 相似文献
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概述了室内空气污染物的来源、种类及其对人体健康的危害,介绍了目前室内空气净化技术有吸附净化技术、光催化技术、离子化法净化技术、臭氧法净化技术、组合净化技术,并且分析了各技术的优缺点。提出了组合净化技术已经成为今后该领域研究的一个重要方向。 相似文献
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介质阻挡放电与脉冲电晕放电净化气态污染物的试验研究 总被引:5,自引:0,他引:5
利用自行研制的介质阻挡及脉冲电晕放电低温等离子体发生器对空气中氨、硫化氢、甲苯等5种气态污染物进行净化,并探讨了两种放电方式的原理和特点。试验结果表明:与介质阻挡放电相比,脉冲电晕放电具有更好的净化效果。 相似文献
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介绍消除室内气态污染物的净化技术的研究进展,探讨了利用紫外线照射相关技术综合治理室内气态污染物的可行性,设计了紫外线照射净化装置并进行了实验研究。实验结果表明,多种技术综合运用可以有效提高甲醛的去除效率。 相似文献
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《洁净与空调技术》2017,(3)
臭氧氧化和紫外辐照工艺组合联用的高级氧化技术几乎可以无选择性将有害有机化学污染物氧化成二氧化碳、水或矿物盐等无害的无机物,被广泛应用于难降解有机物的消除净化。基于185 nm和254 nm两种波长的UV灯组合进行室内有害化学污染物降解实验研究,实验表明:UV灯组合能有效降解室内低浓度甲醛(0 mg/m~3~1.000mg/m~3);254 nm UV灯协同作用下甲醛降解效果得到加强,在本实验中CADR增幅达11.95%;湿布加湿中UV灯组合协同降解CADR值可达39.2280 m~3/h。实验中臭氧氧化仍起主导作用,O_3-UV-H_2O协同高级氧化作用有限,仍需进一步优化工艺以提高净化效率,对简便实现室内有害化学污染物高效降解的高级氧化工艺研究具有指导意义。 相似文献
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硅片清洗技术已成为制备高技术电子产品的关键技术。采用窄间隙介质阻挡放电方法研制了低温氧等离子体源,把氧离解、电离、离解电离成O、O-、O+和O2(a1Δg)等低温氧等离子体,其中O-和O2(a1Δg)活性粒子进一步反应形成高质量浓度臭氧气体,再溶于酸性超净水中,用于去除硅片表面颗粒污染物。实验结果表明:当等离子体源输入功率为300 W时,臭氧气体质量浓度最高为316 mg/L;高质量浓度臭氧气体溶于pH值为3.8的超净水中形成臭氧超净水,质量浓度为62.4 mg/L;在硅片清洗槽内,高质量浓度臭氧超净水仅用30 s就可去除硅片表面的Cu、Fe、Ca、Ni和Ti等金属颗粒物,去除率分别为98.4%、95.2%、88.4%、85.2%和64.1%。本方法与目前普遍使用的RCA清洗法相比,具有无需大剂量化学试剂和多种液体化学品、清洗工艺简单、投资及运行成本低等优势。因此,窄间隙介质阻挡放电清洗硅片表面颗粒污染物技术具有广阔的市场应用前景。 相似文献
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<正> 一、 引言 低温能避免高温引起的杂质再分布,杂质表面耗尽,“鸟嘴”结构形成,以及硅片翘曲和热诱生缺陷等,保证高密度IC的实现。硅的低温氧化,是VLSI制作中尚未解决的重要课题,因此引起了人们很大关注。本工作采用低温等离子体技术,研究了900℃以下硅的等离子体氧化,探讨了膜的生长机理和规律,膜的性质与工艺条件的关系。 相似文献
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为了满足工业领域的不同要求,研究了碳化硅(SiC)陶瓷超光滑表面且无表面损伤的抛光工艺,提出了一种紫外光催化振动复合抛光新方法。基于紫外光催化反应理论,论述了光催化振动复合抛光的加工机理,进行了不同的实验。首先进行了甲基橙降解实验,研究了光催化振动复合抛光氧化性对振动的依赖关系;接着进行了紫外光催化振动复合抛光对比实验,研究了振动前后SiC的抛光效果,验证了新抛光方法的有效性。实验结果表明,光催化反应生成的强氧化性羟基自由基能够将高硬度的SiC氧化成质地较软的二氧化硅,振动的引入减少了光催化反应中光催化剂的团聚,提高了抛光过程中氧化和去除的均匀性,从而提高了抛光过程中SiC的表面质量,最终获得了粗糙度为31~39 nm的光滑表面。 相似文献
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《印制电路信息》2007,(6):71-72
EnvioletUV氧化处理是一种光亮镍电镀槽液净化处理的有效方法Enviolet-UV-Oxidation:AProvenMethod for Bright-Nickel Plating Bath Purification电镀槽液经过一段时间的使用后都会出现有机污染物,影响电镀效率和电镀金属层质量,常规是采用活性炭与过氧化氢处理镀液以达到净化。本文介绍Enviolet紫外线氧化处理方法去除镀液中有机污染物工艺,这是由德国Hansgrobe AG首先推出,称为Enviolet-UV-Oxi-dation Process。UV氧化处理有自动化设备,电镀溶液由泵抽流在处理装置内循环,有机污染物被分解、过滤 相似文献