TG—46S型双室双面镀钢板多弧离子镀膜机的研究

叙述了TG－46S型双室双面镀钢板多弧离子镀膜机的主要参数,结构及其特点,并就该机的应用领域及其发展前景进行了探讨。     

采用改进型多弧离子镀膜设备镀制装饰膜层的研究

针对目前国内多弧离子镀膜领域存在的智能化水平不高和大颗粒污染问题,我们通过设备改进,增加了可编程逻辑控制器和磁过滤器.以装饰镀膜中常用的二氧化钛膜为研究对象,对比了设备改进前后膜层的性能.X射线衍射测试表明所制备的二氧化钛膜层为金红石相.改进后的设备制备的膜层基本看不到大颗粒的存在,且膜层的绿色更加鲜艳.同时,由于设备的智能化水平提高,使得产品的性能非常稳定,随机抽取的5个样品不论从外观看还是通过反射率测试,性能几乎一样.     

HHB—66—И1型多弧离子镀膜设备的性能分析

介绍了前苏联生产的ＨＨＢ－６６－Ｍ１型多弧离子镀膜机的技术条件、结构形式、性能特点。与美国ＭＵＬＴＩ－ＡＲＣ公司生产的ＭＡＶ－３２Ｄ多弧离子镀膜机的性能进行了对比分析。     

多弧离子镀TiN涂层结合力的影响因素

选择Ｗ６Ｍｏ５Ｃｒ４Ｖ２、３Ｃｒ２Ｗ８Ｖ和ＧＣｒ１５等材料研究了多弧离子镀ＴｉＮ涂层也基体的结合力。结果表明,基体表面粗造度越小、硬度越高,支与基体的结合力越好,涂层厚度以２．５～３．５μｍ为最佳,含Ｖ量高的基体和具有强烈ＴｉＮ（１１１）择优取向的除层结合力好。     

多弧刀具离子镀膜工艺及设备

电弧蒸发为离子镇技术提供了一个多功能的蒸发源，它非常适用于氮化钛刀具超硬膜。从膜层性能、生产效率、加工范围等综合技术经济指标看，多弧离子镀更具有吸引力．本文论述了电弧蒸发源和多弧离子镀的特点，介绍了国内首次研制的ＤＨＤ—８００多弧刀具镀膜设备及其系列产品，工艺试验表明一次装炉φ６ｍｍ钻头 ８００支， ＴｉＮ膜厚２ｕｍ，硬度２０００Ｈｖ，寿命提高 １１．２倍．     

多层复合真空离子镀膜技术的新发展

本文回顾了多弧——磁控溅射多功能离子镀膜设备的结构和功能，并且对该设备在氮化钛掺金离子镀（IPG）方面的典型应用，做了较为详细的膜层性能分析。同时，本文了对近年来一种新型的多功能离子镀设备——复合式离子镀膜设备的结构及特点做了介绍，给出了该类型设备的典型应用场合，并且向读者介绍了使用该设备镀制的金属/金属陶瓷多层膜的优异性能。     

多弧离子镀用于制备高质量的Ti-N膜

研究了多弧离子镀制备Ｔｉ－Ｎ膜的重要工艺参数（磁场、弧电流、偏压和氮气流量）对膜层质量的影响．详细分析了它们影响膜层特性的原因,实验证明,提高弧电流的同时抑制液滴的产生,是提高膜层质量和生产效率的有效途径。     

影响多弧离子镀枪黑色膜层的重要参数

提出了影响枪黑色膜层质量的几个重要因素，较详细地分析了这些因素影响膜层质量的原因，讨论了改进膜层质量的方法。     

多弧离子镀与离子渗中影响光电温度计测温因素的研究

在多弧离子镀和离子渗金属中影响光电温度计测量精度的因素很多，本文通过大量试验、定性和定量的研究了诸因素，得出了校对光电温度计的线性回归方程。在实际测量中，取ε＝０．２能较准确地测量出工件的真实温度。受弧光亮度的影响。光电温度计的指示值高出工件温度６５～７０℃。对于渗 Ｔｉ和渗１Ｃｒ１８Ｎｉ９Ｔｉ的工件表面，其辐射性能相似。对于镀ＴｉＮ和渗Ｔｉ的工件表面利用光电温度计测温时，其指示值相差５℃。透过光学石英玻璃测量时，光电温度计指示值比工件低１７℃，而透过普通玻璃测量时，其指示值比工件温度低６５～８０℃。     

多弧离子镀中真空等离子体静电探针诊断方法的研究

多弧离子镀中的等离子体是由辉光等离体和弧光等离子体迭加而成的。本文主要叙述了这种等离子体诊断方法和对用静电探针诊断这种等离子体的研究成果。这套等离子体诊断系统性能稳定，是目前国内外用于诊断多弧离子镀中等离子体的首套系统。用它诊断出的等离子体参数是首次对这种等离子体的数量描述。等离子体参数为；在真空度为２．６７Ｐａ～１０．６Ｐａ，放电电流为５０Ａ～８０Ａ，工件偏压为０～—２ｋＶ的条件下，等离子体密度在１．３×１０１５ｍ－３～２．３×１０１５ｍ－３范围内，电子温度在４３０至６６０ｅＶ范围内，空间电位相对于阳极为正，且在２伏至３伏范围内。     

多弧离子镀弧源靶工作条件对氮化钛薄膜中钛液滴的影响

本文研究了阴极靶弧电流大小、阴极靶表面热弧斑运动轨迹的电磁场控制、以及阴极靶脉冲弧沉积对多弧离子镀TiN薄膜中Ti液滴的影响。通过优化镀膜参数,可以有效地减少Ti液滴的数量和尺寸,提高TiN薄膜／工件基体之间的结合力。     

多弧离子镀中磁场控弧技术的研究进程与展望

对多弧离子镀中控弧磁场技术及其在改善弧斑运动特性方面的应用进行了介绍。以静态控弧磁场和复合动态控弧磁场为基础,对横向磁场/轴向磁场分解、锐角法则及其具体应用进行了详细分析,进而讨论了不同结构控弧磁场的优势和局限性。最后指出了控弧磁场技术目前存在的问题和今后重点研究的方向。     

多弧离子镀TiN涂层拉应力的探讨

多孤离子镀TiN涂层有着广泛的应用，但拉应力的存在影响了它的使用性能。本文对影响涂层拉应力的因素及产生原因进行了分析，并从基体材料的沉积工艺等方面提出了一些减小拉应力、提高涂层使用性能的方法。     

多弧离子镀膜机(буиат-6)性能分析和工艺参数研究

分析研究了多弧离子镀膜机буиат—６的主要性能。在不同工艺参数条件下，于高速钢基体上制备了Ｔｉ膜和ＴｉＮ膜，用扫描电镜观察Ｔｉ膜表面形貌；用能谱仪对Ｔｉ膜上小液滴颗粒成份进行测试分析；用超微负荷硬度计测量了ＴｉＮ膜的显微硬度；用表面刻划仪测试了ＴｉＮ膜与基体的附着力。实验结果表明：选择适当的工艺条件，包括弧流大小，电磁场强度，镀膜时间以及冷阴极离子源辅助沉积，可获得性能优良的ＴｉＮ膜，其显微硬度可达Ｈｖ２５００，附着力为６５Ｎ。     

多弧离子镀在不锈钢板上沉积TiN的均匀性研究

本文对多弧离子镀在不锈钢板上沉积TiN涂层的均匀性进行了研究,分析了影响涂层均匀性的主要因素.结果表明,弧基距、磁场强度、气体压力及基片温度对涂层的均匀性起着决定性的作用.     

多弧离子镀合金涂层表面颗粒的研究

采用多弧离子镀技术，以ＤＺ－２２合金为基材，制备了Ｃｏ－Ｎｉ－Ｃｒ－Ａｌ－Ｔａ－Ｓｉ合金涂层。观察了合金涂层表面大颗粒的形貌，考察了大颗粒（液滴）的沉积对涂层组织的影响，讨论了大颗粒的成分及形成过程，揭示了大颗粒现象的一般规律，提出了合金涂层平均成分的表示方法。     

多弧离子镀合金涂层成分离析效应的物理机制研究

提出了一种关于多弧离子镀合金涂层成分离析效应的物理模型。利用该模型，从理论上较为圆满地解释了成分离析的影响因素及其作用机制。     

旋转磁控柱状弧源多弧离子镀膜机

本文介绍了旋转磁控柱状弧源多弧离子镀膜机的特点和所镀氮化钛膜的组织、性能     

多弧真空离子镀铬设备通过省级鉴定

由浙江省玉环县金源比特科技发展有限公司开发研制的多弧真空离子镀铬设备于 2 0 0 4年 1月 4日通过浙江省科技厅组织的产品鉴定。鉴定委员会由浙江工业大学、北京师范大学、国家真空设备质检中心等真空设备行业、环保、电镀行业的七名专家组成。该设备采用多弧、多靶源、逆变式直流弧电源及双极脉冲偏压设计 ,细化颗粒电路和辅助阳极输出 ,利用等离子体技术将阴极材料蒸发出来的阴极粒子沉积在工件表面完成镀铬或 PVD的多种膜层。工艺过程采用逻辑程序自动控制。该设备镀制的工件膜层质量好 ,耐腐蚀和硬度指标均达到相关标准规定。特别是…     

多弧离子镀TiN装饰膜表面颗粒研究

多弧离子镇生产的ＴｉＮ装饰膜表面含有一定数目的颗粒。严重影响着膜层色泽、光洁度、孔隙度及耐腐性、实验表明：“二次辉光”的改进工艺，可以有效地减少表面颗粒数目，改善膜层质量。