径流分子泵在多弧离子镀膜设备的最新应用

通过对新开发问世的径流分子泵进行介绍,其独特抽气特性,为多弧离子镀的工艺优化提供了理论依据。传统多弧离子镀的抽气工艺和镀膜工艺,是在扩散泵和涡轮分子泵抽气能力的制约下总结出来的。径流泵机组的问世,为多弧离子镀膜提供了更加宽广的镀膜工艺选择空间。这样就有必要对抽气工艺和镀膜工艺进行重组和优化,进一步提升多弧离子镀膜设备的性能和经济效益。     

DHD—800型多弧刀具镀膜设备在京通过鉴定

一九八七年四月六日到八日,由北京市仪器仪表工业总公司主持,在北京召开了DHD-800型多弧刀具镀膜设备鉴定会。参加会议的有来自国家机关、科研单位、专业工厂和高等院校的研究员、付研究员、付教授、讲师、工程师、研究生、记者等57个单位的91位代表。 鉴定委员会认为:DHD—800型多弧刀具镀膜设备,是我国首次自行设计的电弧离子镀刀具工业生产型设备。 鉴定委员会还认为;该设备各项技术指标均达到设计要求。镀膜能力与美国八十年代多弧公司的MAV—32型设备相当。填补了我国多弧刀具镀膜机的空白,居于国内领先水平。对我国刀具生产具有重…     

多层复合真空离子镀膜技术的新发展

本文回顾了多弧——磁控溅射多功能离子镀膜设备的结构和功能，并且对该设备在氮化钛掺金离子镀（IPG）方面的典型应用，做了较为详细的膜层性能分析。同时，本文了对近年来一种新型的多功能离子镀设备——复合式离子镀膜设备的结构及特点做了介绍，给出了该类型设备的典型应用场合，并且向读者介绍了使用该设备镀制的金属/金属陶瓷多层膜的优异性能。     

多弧刀具离子镀膜工艺及设备

电弧蒸发为离子镇技术提供了一个多功能的蒸发源，它非常适用于氮化钛刀具超硬膜。从膜层性能、生产效率、加工范围等综合技术经济指标看，多弧离子镀更具有吸引力．本文论述了电弧蒸发源和多弧离子镀的特点，介绍了国内首次研制的ＤＨＤ—８００多弧刀具镀膜设备及其系列产品，工艺试验表明一次装炉φ６ｍｍ钻头 ８００支， ＴｉＮ膜厚２ｕｍ，硬度２０００Ｈｖ，寿命提高 １１．２倍．     

离子镀膜中的弧电流对膜层质量的影响

论述了电弧电流对多弧离子镀膜层的硬度、厚度及其外观形貌的影响 ,并进一步阐述了电弧电流在实际应用中的作用 ,说明了镀制不同功能的膜层 ,应选择不同弧电流的重要性     

离子镀膜中的弧电流对膜层质量的影响

论述了电弧电流对多弧离子镀膜层的硬度，厚度及其外观形貌的影响，并进一步阐述了电弧电流在实际应用中的作用，说明了镀制不同功能的膜层，应选择不同弧电流的重要性。     

应用于工具镀膜的磁场辅助离子镀弧源及其放电特性分析

针对几种应用于工具镀膜的磁场控制的电弧离子镀弧源,分析了其结构、工作原理以及弧斑运动、放电特性;比较了不同磁场辅助受控弧源的靶结构及磁场位形,并讨论了对弧斑运动、放电及镀膜工艺的影响;对磁场控制的电弧离子镀弧源的发展进行了展望。     

采用改进型多弧离子镀膜设备镀制装饰膜层的研究

针对目前国内多弧离子镀膜领域存在的智能化水平不高和大颗粒污染问题,我们通过设备改进,增加了可编程逻辑控制器和磁过滤器.以装饰镀膜中常用的二氧化钛膜为研究对象,对比了设备改进前后膜层的性能.X射线衍射测试表明所制备的二氧化钛膜层为金红石相.改进后的设备制备的膜层基本看不到大颗粒的存在,且膜层的绿色更加鲜艳.同时,由于设备的智能化水平提高,使得产品的性能非常稳定,随机抽取的5个样品不论从外观看还是通过反射率测试,性能几乎一样.     

基于智能复合镀膜设备的控制系统设计

本文结合复合镀膜设备及镀膜工艺特点,详细分析了复合镀膜设备镀膜工艺流程以及过程中容易产生能耗和污染的问题.并在此基础上,根据设备真空系统、工装和水冷系统、控制系统以及设备各个源的协同作用进行了系统设计,通过PLC和LabVIEW软件协同设计和实现了智能复合镀膜设备自动控制系统,以保证镀膜设备和工艺生产的稳定性及可靠性,...     

全玻璃真空集热管镀膜设备的发展

本文主要介绍了全玻璃真空集热管镀膜设备的发展历程,重点描述了集热管镀膜设备发展过程中的重大改进,以及镀膜设备提高生产效率和节能降耗的方法,对其他行业镀膜设备的发展和改进有一定的借鉴意义。     

第二十讲 真空离子镀膜

<正>13真空阴极电弧离子镀13.l概述真空阴极电弧离子镀简称真空电弧镀(Vacuum arc plating)。如采用两个或两个以上真空电弧蒸发源(简称电弧源)时,则称为多弧离子镀或多弧镀。它是把真空弧光放电用于蒸发源的一种真空离子镀膜技术,它与空心阴极放电的热(接2019年第4期第80页)     

磁控溅射镀膜膜厚均匀性设计方法

镀膜工艺中的薄膜厚度均匀性问题是实际生产中十分关注的。本文在现有的理论基础之上,对溅射镀膜的综合设计方法进行了初步的建立和研究,系统的建立可以采用"整体到部分,再到整体"这一动态设计理念,不断完善设计方法,并将设计方法分为镀膜设备工程设计、镀膜工艺设计和计算机数值仿真三大部分。镀膜设备工程设计、镀膜工艺设计及二者的数值仿真这三者之间是相辅相成的,镀膜设备工程设计决定镀膜工艺过程的实现,镀膜工艺促进镀膜设备的升级,而高性能的计算机仿真设计给两者的设计提供了强有力的支持。     

镀膜工艺与镀膜系统配置

在过去的 15～ 2 0年中 ,光学薄膜镀制设备出现了令人瞩目的变化。以前 ,一般的镀膜机都是纯人工操作 ,最先进的也只是半自动控制 ,都必须依靠高水平的操作人员来保证镀膜产品的一致性。而现在 ,高质量的光学镀膜机已经是一个集成了系列智能化模块 (子系统 )的全自动系统。这些智能模块 (子系统 )通常在多个微处理器的指令下结成局域网 (LAN) ,而局域网又可并入整个工厂的自控系统。用户对设备性能的完善性要求越来越高 ,现在我们经常见到用户在购买镀膜机的同时 ,还要求厂家提供相关工艺技术。本文探讨的是当今光学镀膜系统中可采用的子系统及部件 ,以及镀膜工艺在部件选择和真空室配置等方面所起的决定性作用。尽管其他技术日渐流行 ,但鉴于物理蒸镀依然是目前适用性最强、应用最广泛的手段 ,因此本文中的讨论只涉及物理蒸镀技术。     

镀膜工艺与镀膜系统配置

在过去的15-20年中，光学薄膜镀制设备出现了令人瞩目的变化。以前，一般的镀膜机都是纯人工操作，最先进的也只是半自动控制，都必须依靠高水平的操作人员来保证镀膜产品的一致性。而现在，高质量的光学镀膜机已经是一个集成了系列智能化模块(子系统)的全自动系统。这些智能模块(子系统)通常在多个微处理器的指令下结成局域网(LAN)，而局域网又可并入整个工厂的自控系统。用户对设备性能的完善性要求越来越高，现在我们经常见到用户在购买镀膜机的同时，还要求厂家提供相关工艺技术。本探讨的是当今光学镀膜系统中可采用的子系统及部件，以及镀膜工艺在部件选择和真空室配置等方面所起的决定性作用。尽管其他技术日渐流行，但鉴于物理蒸镀依然是目前适用性最强、应用最广泛的手段，因此本中的讨论只涉及物理蒸镀技术。     

透明导电玻璃镀膜控制系统改造

透明导电氧化物镀膜玻璃采用TFC2000离线系统镀膜设备。设计本身很先进,但由于安装测试时才发现的设计错误,而在安装结束后就进行了较大改造。文章介绍了镀膜设备的原理和改造的过程,论述了如何从硬件到软件的修改去完善一个系统。     

低辐射镀膜玻璃的现状与前景

回顾了低辐射镀膜玻璃的发展历程,重点介绍了ｌｏｗ－ｅ镀膜玻璃的节能特性及发展前景,并指出了国内现有镀膜设备的改进方向。     

卷绕镀膜工艺研讨会通知

应部分单位要求,机械电子工业部沈阳真空技术研究所、中国真空学会获得专业委员会及《真空》编辑部共同发起召开卷绕镀膜(如镀遮阳膜,彩虹膜、镀铝纸、包装膜、电容器膜、装饰膜……)工艺研讨会,邀请有关专家和卷绕镀膜设备生产厂解答当前在卷绕镀膜生产中存在的问题,并进行技术交流。 请有关单位特别是卷绕镀膜设备生产厂及用户大力支持,踊跃参加,团结一致。华夏赤子安能拱手相让国外设备及产品占领我国市场。《真空》编辑部愿为马前卒,参与筹备全国大型的卷绕镀膜工艺研讨会,首先编集出荟萃国内外近十年来卷绕镀膜技术新进展的论文集 (《…     

真空卷绕镀膜技术及设备的现状与发展

综述了真空卷绕镀膜技术的现状和发展、真空卷绕镀膜技术的应用领域、现有真空卷绕镀膜设备的应用分类及结构分类、真空卷绕镀膜设备典型的结构组成及设备设计的一些关键要素.     

用于真空电弧离子镀膜的受控电弧蒸发源

本文在研究了阴极弧斑运动规律的基础上，发展了多功能受控电弧蒸发源，它可在自由电弧状态下运行，而在２００～２５０Ａ高参数运行时，可使阴极弧斑覆盖几乎整个阴极表面且多轨迹旋转，使阴极烧蚀均匀，提高了镀膜沉积速率，薄膜质量也相应提高。研制的另一种环形阴极旋转电弧蒸发源，可基本消除液滴，使阴极利用率更高。     

磁控溅射镀膜技术的发展

磁控溅射由于其显著的优点应用日趋广泛,成为工业镀膜生产中最主要的技术之一,相应的溅射技术与也取得了进一步的发展.非平衡磁控溅射改善了沉积室内等离子体的分布,提高了膜层质量;中频和脉冲磁控溅射可有效避免反应溅射时的迟滞现象,消除靶中毒和打弧问题,提高制备化合物薄膜的稳定性和沉积速率;改进的磁控溅射靶的设计可获得较高的靶材利用率;高速溅射和自溅射为溅射镀膜技术开辟了新的应用领域.