空气/乙炔混合气体离子氮化工艺研究

研究了一种利用空气/乙炔混合气体进行离子氮化的新工艺,并分析了渗层的硬度、组织及物相.结果表明,通过加入乙炔气体,可以实现用空气直接进行离子氮化处理,通过调整乙炔流量和渗氮温度,能实现离子多元共渗,并能获得一定的渗氮层深度和硬度.     

模具表面离子氮化工艺研究

研究了一种利用空气／甲烷混合气体对模具表面进行离子氮化的新工艺,分析了渗层的硬度、组织及物相。结果表明,通过加入甲烷气体,可以实现用空气直接进行离子氮化处理,通过调整甲烷流量,可以获得不同的渗氮硬度和物相。     

外加热式离子氮化高速钢的研究

用外加热方式在管状反应室中对高速钢试样进行离子氮化，对氮化层的厚度变化、表面硬度及冲击韧性随Ｈ２／Ｎ２、渗氮温度及时间的变化进行研究。并且对普通离子渗氮试样与外加热离子渗氮试样进行比较     

低真空脉冲离子氮化工艺试验

本文就低真空脉冲离子氮化这种新设备、新技术进行了工艺试验。应用金相检验、扫描电子显微镜分析、X射线能谱分析等进行了检测分析。确定了低真空脉冲离子氮化的最佳工艺参数,制定出脉冲离子氮化的热处理工艺方案。     

离子氮化炉的精确测控温

根据离子氮化设备测控温的特殊性,设计了一种操作简单、使用方便、测温准确并能自动控涅的方式,即由双波比色温度仪、热电偶、测温头及其它测控温仪表组成的系统和用此系统测温、校温、自动控温的方法,论述了有关仪表的改装。考察了氮化工艺参数、村质对测控温精度的影响,指出这种测控温方式有明显的优越性,不仅精度高,而且可以测量炉内工件温度的均匀性及准确控制工件某一部位的温度。     

奥氏体不锈钢的高频离子氮化

本文介绍一种只用高频产生等离子体的氮化方法(简称高频离子氮化法)。找出比较合适的氮-氢气体比例及合适气压、温度的氮化工艺参数。获得高的表面硬度(HV 1575左右)和较厚的氮化层(85μm)。初步分析了影响氮化层性质的一些因素。     

铪在钼合金离子氮化中的作用和影响

对Mo-Ti-Zr-C和Mo-Zr-Hf-C两种钼合金进行离子氮化处理。实验结果表明,含Hf钼合金在800℃离子氮化效果好,元素Hf能明显促进钼合金的离子氮化过程,增加了表面化合物层和硬化区的深度,提高了表面层硬度。     

稀土离子氮化层的组织结构观察和分析

将稀土镧、铈、钕分别放入氮化炉中对En40B钢进行离子氮化处理,用金相显微镜、普通和高分辨扫描电子显微镜以及透射电镜,从低倍到高倍观察和分析比较了稀土离子氮化和普通离子氮化氮化层的组织结构,发现在相同条件下,不同稀土元素对氮化影响是有区别的.     

辉光离子氮化对马氏体不锈钢性能的影响

对1Crl3马氏体不锈钢进行了辉光离子氮化处理试验,并对氮化试样的金相和硬度进行了分析测定.结果表明520℃辉光离子氮化8h,使1Crl3马氏体不锈钢的氮化层深度达到0.25mm,最高硬度达到HV732,约为基体硬度的4倍.     

纯钛离子氮化层在人工唾液中的耐蚀性

用浸泡法和电化学法研究了纯钛(TA2)基体材料及其离子氮化层在人工唾液中的腐蚀行为.浸泡法研究表明,试样随着浸泡时间的延长而增重,而离子氮化层增重明显减缓,其腐蚀速率远小于TA2基材;电化学法研究表明,离子氮化层的自腐蚀电位较TA2基材提高,而腐蚀电流密度和腐蚀速度减小.由失重法和电化学法得出一致结论,离子氮化处理提高了TA2在人工唾液中的耐蚀性.     

变压吸附法分离低浓度瓦斯的试验研究

用变压吸附法对低浓度瓦斯气体进行分离研究。在双塔变压吸附设备上,通过调整切换时间、改变反吹阻力研究产品气和解吸气的流量及甲烷浓度的变化规律。实验结果表明用装有JX-204Ⅱ型活性炭吸附剂的变压吸附设备能将地下采煤工作面上隅角低浓度瓦斯中的甲烷浓度降低在0.5%以下。     

采用混合空气作为再生空气的集热型溶液再生过程研究

根据热湿地区室外空气参数特点,提出以室内排风与室外空气混合作为再生空气的集热型再生系统方案.建立数学模型,以广州地区室外空气参数为例,对采用混合空气和只采用室外空气作为再生空气时的再生量进行计算.结果表明热湿环境下该方案能提高溶液再生量,且室内排风在混合风量中所占比例越大,提高效果越明显.     

气体中微量一氧化碳、甲烷、二氧化碳的气相色谱分析

建立了甲烷转化气相色谱法测定气体中一氧化碳、甲烷、二氧化碳的分析方法。采用一阀两柱系统,氯气、氯化氢通过十通阀经柱Ⅰ(Hayesep Q)反吹出系统,一氧化碳、甲烷、二氧化碳通过柱Ⅱ(Porapak Q)进入氢火焰离子化检测器进行检测,通过外标法定量,结果表明该方法线性好,各组分的检出限分别为一氧化碳0.02×10-6(mol/mol)、甲烷0.05×10-6(mol/mol)、二氧化碳0.08×10-6(mol/mol)。该方法简便、准确、灵敏、重现好。     

离子色谱法测定大气中乙酸盐

用碳酸钠-碳酸氢钠混合液吸收大气中的乙酸盐,离子色谱法测定吸收液中的乙酸盐含量,根据采气量算出大气中乙酸盐含量。AC-检出限为0.060mg/L,当采气体积为100L时,最低检出浓度为0.006mg/m3,测定方法的相关系数r=0.9956,相对标准偏差<5%,样品回收率为93.6-95.8%。     

空气中挥发性有机物的热脱附—气相色谱分析

空气污染严重影响人们的身体健康,引起环保检测部门的高度重视,而空气挥发性有机物含量是空气污染的重要指标之一,因此,测定该参数对于空气质量评价非常重要。本文建立的热脱附-气相色谱联用分析方法,为空气挥发性有机物提供一种灵敏度高、操作简便、重现性好、准确可靠的新方法。     

KH-570修饰的SiO2膜制备及CH4/CO2的分离

采用KH-570代替部分TEOS为前驱物,共水解缩聚反应制得疏水性SiO2膜,通过IR、DTG、SEM、接触角测试仪等手段对KH-570修饰后的SiO2膜进行表征,并对CH4和CO2渗透和分离进行研究。实验结果表明,修饰后(0.8KH-570)SiO2膜接触角达到94.2°,红外光谱分析表明修饰后SiO2膜疏水性增强;(0.8KH-570)SiO2膜具有完整性及在400℃水热稳定性;压差30kPa,分离因子随涂膜次数增加先增大后减小,涂膜5次达最大值2.13,超越了努森扩散理论分离因子1.66,此时分离效果好;对于涂膜5次的SiO2膜,CH4渗透通量随压差增加呈现非线性微增趋势,CH4/CO2分离因子几乎不变。     

低功耗甲烷气敏元件的制备及气敏性能研究

甲烷气体通常需要在较高的工作温度下工作,要达到这个工作温度区间,元件体电阻越大,功耗也就越大;要降低功耗,就要降低元件体电阻.本文所述元件是在SnO2敏感膜材料中掺入Pd,Sb2O3,Al2O3等添加剂,制成微珠式元件,从而大大降低了元件的体电阻,设计出一种低功耗CH4气敏元件.此种元件在低于150 mW的加热功率下,在5000×10-6的CH4气氛中灵敏度可达到3以上,响应时间小于10 s,且具有良好的选择性和稳定性.     

惰性介质对甲烷/空气预混气体爆炸极限的影响?

以化学平衡和吉布斯自由能为基础,采用Chem Kin数值模拟软件并选取临界温度1 450 K作为混合气体是否可燃的判别标准,研究了氮气、二氧化碳惰性介质对混合气体爆炸极限的影响。并在7 L爆炸容器内,对瓦斯和空气的混合气体的爆炸极限进行实测,得到了甲烷与二氧化碳(或氮气)按不同比例混合时在空气中的爆炸极限。结果表明:当甲烷与二氧化碳体积比为0.294时,爆炸上下限重合,当体积比小于0.294时,任何配比下均不被点燃。同时得出二氧化碳的抑爆能力强于氮气。     

High temperature oxidation of C2Cl4/CH4 mixtures

Experiments on high temperature oxidation of multi-chlorinated hydrocarbons, tetrachloroethylene (C2Cl4), with hydrocarbon fuels, CH4, were performed in a 15 mm i.d. tubular flow reactor. Temperatures ranged from 700 to 850 degrees C, with the average residence time in the range from 0.3 to 1.5s. Three equivalence ratios, phi=0.87 (fuel-lean (FL)), phi=1 (stoichiometry (S)), and phi=1.3 (fuel-rich (FR)), were studied. The global Arrhenius equations for the decomposition of C(2)Cl(4) for each reactant set ratio are: k(lean)=5.77 x 10(15) exp(-30447/RT), k(stoi)=5.15 x 10(15) exp(-30421/RT), and k(rich)=6.32 x 10(14) exp(-28879/RT). The important reactions for destruction of parent C2Cl4 include: C2Cl4 --> C2Cl3 + Cl, C2Cl4 + H--> C2Cl3 + HCl and C2Cl4 + H --> C2HCl3 + Cl. The resulting reactant loss, and intermediate and final product profiles were determined. C2HCl3, C2Cl2, CO, CO2 and HCl are the major products for the reaction of C2Cl4/CH4/O2 mixtures for these three reaction systems. Minor intermediates include C2H3Cl, C2HCl, COCl2, CH3CHCl2, C2H4, C2H6, CCl2CHCH3 , trans-CHClCHCl, cis-CHClCHCl, trans-ClHC=CClCH(3), C6H6, and Cl2. The experimental data showed that as the oxygen concentration increased, the temperature needed to detect the resulting products decreased.