全息光栅法测凹面反射镜焦距

本文报道了一种利用全息光栅测量凹面反射镜焦距和球面反射镜曲率半径的新方法.这种方法测量精度高,不仅适合于球面反射镜,而旦特别适合于各类非球面反射镜焦距的非接触测量。     

凹面反射镜系统的傅里叶变换性质

本文通过计算机的数值计算.证明了凹球面镜和抛物面镜一类反射系统对入射光场具有傅里叶交换性质.用具有代表性的滤波操作,从实验上验证了这种性质.说明了凹面反射镜与透镜在光学信息处理中可起到等效的作用.     

贴片时激光管凹面反射镜的校准方法

对氮氖激光管凹面反射镜来说，同心度的要求十分苛刻，用激光校准监视贴片难以达到理想精度，故应结合采用光电校准法，以达到最佳输出状态。     

软X射线多层膜反射镜界面粗糙度的一种估算方法

介绍了D.G.Sterns的散射方法,用它来描述单个非理想粗糙界面的散射,它适用于软X射线短波段区域.将这种方法应用到多层膜结构,并采用D.G.Sterns方法的数学模型来描述软X射线短波段区域(1～10 nm)多层膜界面粗糙度.在这个理论的框架下,对我们所研制的波长为4.77 nm的Co/C多层膜反射镜界面粗糙度进行分析,估算出该多层镜界面间均方根粗糙度为0.7 nm.粗糙度估算结果与小角X射线衍射的测定结果相一致.(PE13)     

高热负载反射镜测量用现场表面轮廓仪

1.介绍高精度光学组件的测量几乎总是在清洁的实验室里,在温度和声音很稳定的环境中,在通常大气压进行的。一些同步辐射(SR)用的光学 组件要承受每毫米几瓦的高热载荷,因此,要在类似于实际使用的条件下进行测量,即要在一个拥挤的、噪声的大厅中,在超高真空、高热载荷条件下进行测量。这些条件显然与传统可见光干涉测量条件是不可比拟的。但是,为了验证反射镜理论计算的性能和为了监测可能由于冷     

激光镜镜面粗糙度的干涉测量

开发了一种激光镜镜面粗糙度的全场、非接触干涉测量方法。测量了两面不同粗糙度的铜镜,测出的数据和用６ＪＡ型显微干涉轮廓仪测量的结果相吻合。测量的范围为０．０１～０．１２μｍ,理论上测量的精度可达０．００２μｍ。它对镜面抛光过程的控制有实际意义     

红外双反射镜折转光学系统的MTF测量

为了压缩总长度,红外热像仪普遍采用双反射镜折布局（U型）及箱式壳体,而现有传函仪仅能测量非折转布局（一字型）的光学系统的调制传递函数（Modulation Transfer Function,MTF）,导致传函仪无法接到U型光学系统的像面,因此无法测量其MTF。为了解决该难题,本文采用光瞳衔接的方式,设计和加工一个中继镜组把U型光学系统的像面引出,通过测量组合系统的MTF,再计算出U型光学系统的MTF,从而解决其MTF测量的难题。然后使用6个同一个型号的红外热像仪对测量方法进行验证,在排除影响测量的干扰因素以后,通过测量组合系统MTF,再计算出U型光学系统的MTF。同时,在测量过程中发现5#、6#红外热像仪的U型光学系统的MTF下降较多,通过红外中心偏差测量仪的测量,发现第三、四镜片的中心偏差较大,故重新装调和控制,从而使U型光学系统的MTF有大幅提升。该方法为U型光学系统的MTF测量和性能提升提供了新的思路。     

光纤探针粗糙度测量原理的探讨

本文利用光纤传感技术提出了粗糙度测量的一种新原理－“光纤探针”针描法粗糙度测量原理。文中给出了基本理论分析和初步实验结果。     

基于光学法表面粗糙度的测量研究进展

表面粗糙度是机械加工中描述表面微观形貌最常用的参数,随着现代工业对表面粗糙度精度的要求越来越高,提出了许多新的测量方法特别是光学法.介绍了测表面粗糙度的光学方法:聚焦法、干涉法、散射法和散斑法,分析了它们各自的原理和优缺点及研究概况,在此基础上提出了一种新的光学测量方法--计算机纹理分析方法.     

测量薄膜微粗糙度的总积分散射仪

介绍了一种检测光学薄膜表面总积分散射（TIS）分布的总积分散射仪。对仪器的基本结构、理论基础、测量原理以及系统性能等进行了阐述，提出了抑制系统噪音和提高测量精度的有效措施。利用该仪器对K9基底上的银（Ag）膜和氧化锆（ZrO2）薄膜进行了测量，并根据标量散射理论得到了表面均方根（RMS）粗糙度。利用光学轮廓仪和原子力显微镜（AFM）分别测量了上述Ag膜和ZrO2薄膜的表面均方根粗糙度，并与总积分散射仪所得的粗糙度进行了比较。结果表明，根据测量的薄膜表面总积分散射计算得到的表面均方根粗糙度与光学轮廓仪及原子力显微镜测量得到的表面均方根粗糙度符合得较好，相差在0．01～0．13nm范围内。     

碳化硅反射镜表面粗糙度的优化

空间光学技术的迅猛发展对空间光学系统提出了更高的要求;碳化硅材料以其优秀的物理性质,成为广泛应用的反射镜材料;碳化硅反射镜的光学加工研究也在国内外广泛开展。简要讨论了碳化硅反射镜的抛光机理;介绍了碳化硅材料抛光的实验方法;定性分析了碳化硅材料的抛光过程;通过大量的工艺实验和理论分析,讨论磨料粒度、抛光盘材料、抛光盘压力、抛光盘转速、抛光液酸碱度等工艺参数对碳化硅反射镜表面粗糙度的影响,并对各个参数加以优化,得到了优良的实验结果。     

波长为1.03nm的掠入射多层膜反射镜的设计

在软x射线短波段1.03nm处的掠入射多层膜反射镜的设计中，本文提出了一种理论设计的修改方法。该方法考虑了基底，膜层界面间的均方根粗糙度与反射率的影响，对界面的数学描述源于D.G.Sterns的散射理论。设计结果表明：要在1.03nm处制做较高反射率（10%）的掠入射多层膜反射镜，基底粗糙度小于0.56nm即可，使用超精加工的粗糙度为0.5nm的基片作为基底，沉积了多层膜反射镜后，其反射率结果是10%，与修改方法结果一致。     

不同粗糙度抛物面的2.52 THz后向散射测量

太赫兹后向散射特性是表征目标对太赫兹波散射能力的一个重要参数。在实际应用中抛物面形状占据了重要位置,而在2.52 THz频率下的相关散射特性的研究至今处于空白。利用已搭建的测量系统对直径为50、60、70、80 mm,粗糙度为3.2、6.3、12.5 m等的抛物面进行了太赫兹后向散射的测量。利用MATLAB软件对数据进行处理并得出目标的太赫兹后向散射特性曲线。利用控制变量法分别研究尺寸和粗糙度对目标太赫兹后向散射的影响。随着尺寸的增大,目标的散射特性曲线下降变缓,在3附近出现的凸起越来越明显。用示波器在所测角度边缘观察信号波形表明信号处于可测状态。后向散射测量实验结果表明,测量动态范围最大可达22 dB,最大误差约为0.15 dB。     

一种表面粗糙度非接触快速测量的新方法

照射在样品表面的激光束随着表面粗糙度的不同,反射光密度分布将不同;表面粗糙度增大时,反射光密度将被扩展。本文根据这一原理,提出一种使用激光束快速测量表面粗糙度的无触点光学法。通过测量反射光密度分布曲线的半宽度,由高斯曲线系数的标准差计算表面粗糙度。文中给出了测量结果。     

凹面反射镜焦面的精确标定和提高激光产品光轴平行性的方法

本文阐述了反射镜焦距、焦面标定误差、激光产品跨距和光轴平行性的关系,提出了一种标定焦面位置较精确的方法。