日本三井化学公司开发出新型杀菌薄膜

<正>据有关媒体报道,日本三井化学公司日前与北里大学合作开发出一种新型杀菌薄膜,其特殊之处在于研究人员用名为"镀气"的方法在树脂薄膜表面镀上一层薄薄的铜合金,从而使薄膜具有杀菌效果。     

阻隔性透明蒸镀薄膜“ェコシア-ル”各种牌号的特征及应用

前言 无机二元阻隔性蒸镀薄膜“ェコシア-ル”，有以PET薄膜为基膜的和以PA薄膜为基膜的，可充分利用基膜的各式各样的特性，特别是利用尼龙的特性，开拓蒸镀透明尼龙薄膜的市场。     

功能性包装薄膜论略(二)

(上接《塑料包装》2015年第1期)二、功能性包装薄膜(一)蒸镀氧化物型阻隔性包装薄膜1、概述蒸镀氧化物型阻隔性包装薄膜中,蒸镀氧化硅型透明阻隔性包装薄膜,是开发应用比较成功的一个品种,也是二十世纪末期,复合软包装领域中,最引人注目的重大突破之一。蒸镀氧化硅型阻隔性包装薄膜,是透明蒸镀型阻隔型包装薄膜的代表性产品,被塑料软包装界认为是最有发展前途的软包装材料之一。蒸镀氧化硅型阻隔性包装薄膜和镀铝型阻隔     

抗菌性薄膜的微纳制备工艺研究

针对当前消毒薄膜抑菌效果有待提高，以及制备过程中安全性差、均匀性不容易控制、结合力差的问题。本文研究了制备多功能抗菌薄膜的微纳工艺，工艺包括镀银膜、喷涂TiO2纳米颗粒、镀聚四氟乙烯膜和纳米压印4个步骤。采用金黄色葡萄球菌进行抑制菌实验，结果表明，本文制备的抗菌膜的抑菌效果是湿法镀银工艺制备的消毒膜的3.7倍。本研究为人类健康，特别是医疗器械等行业抑菌杀菌膜的生产提供了新产品和新工艺。     

增强型脉冲离子源镀制DLC薄膜拉曼光谱研究

本文利用增强型脉冲电弧离子源在硅基底上沉积类金刚石薄膜，拉曼光谱分析表明DLC薄膜中sp^3键含量比不加磁过滤装置时脉冲离子源所镀的类金刚石薄膜高，折射率更接近金刚石折射率2．4并且光学带隙也增大，证明用增强型脉冲离子源镀制的类金刚石薄膜sp^3键含量提高，性能得到了很大改善。     

衬底对溶胶凝胶法制备TiO2薄膜性能的影响

以钛酸丁酯为前驱体,经浸渍拉膜法在不锈钢以及表面预镀一层非晶态SiO2薄膜的不锈钢表面镀TiO2薄膜.利用XRD、FE-SEM研究了薄膜晶体结构与表面形貌,同时研究了不同衬底上薄膜光催化活性和亲水性,并与以玻璃为衬底的作比较.结果表明,衬底对TiO2薄膜表面形貌及性能的影响很大.以不锈钢为衬底的TiO2薄膜性能光催化活性较弱,但在表面预镀一层非晶态SiO2后TiO2薄膜的光催化活性有所改善.     

大型包装薄卷绕真空镀膜机的研制

本文通过对南光ＰＲＣ－１３００／Ｍ型包装薄膜卷绕真空镀膜的介绍。详细叙述该镀膜机的结构特点，各系统的组成及功能简介，以及用于各种基材上蒸镀包装薄膜。通过用户的使用表明该镀膜机是目前国内有领先水平的，高性能的蒸镀各种包装薄膜的理想设备。     

真空蒸镀钝化太安(PETN)薄膜的研究

对真空蒸镀钝化太安 (PETN)炸药薄膜进行了研究。分析了真空度、蒸镀温度、蒸发速率、基片表面状态等因素对形成薄膜的影响。得出了适宜蒸镀的真空条件、最佳蒸镀温度和蒸发速率 ;提出了增加薄膜和基片附着力的方法。     

真空蒸镀钝化太安（PETN）薄膜的研究

对真空蒸镀钝化太安(PETN)炸药薄膜进行了研究。分析了真空度、蒸镀温度、蒸发速率、基片表面状态等因素对形成薄膜的影响。得出了适宜蒸镀的真空条件、最佳蒸镀温度和蒸发速率；提出了增加薄膜和基片附着力的方法。     

真空蒸镀红荧烯薄膜及其形貌分析

红荧烯(rubrene)即5,6,11,12-四苯基并四苯,是一种重要的小分子有机半导体材料,可以用以制备红荧烯有机场效应管和太阳能光伏器件。本文首先对传统的热蒸发真空系统进行改造,使之能蒸镀有机薄膜。在一定的蒸发温度下,经过不同蒸镀时间蒸镀红荧烯薄膜,蒸镀时间分别为5,6,7,8 h,获得了具有多晶结构的红荧烯薄膜,并对其形貌进行了分析。结果表明非晶结构的红荧烯薄膜首先在硅衬底上生长,非晶红荧烯薄膜生长至一定厚度后,多晶结构的红荧烯从其中形成。     

用磁控溅射法制备的Ag-MgF2的复合薄膜的研究

采用RF磁控溅射方法制备了Ag-MgF2复合薄膜.通过XRD测量,发现当退火温度在300～500℃时,Ag以晶态形式镶嵌在非晶态介质中;当退火温度低于300℃时候,Ag以非晶态形式存在.在分层镀Ag和MgF2薄膜后,经过热处理使Ag颗粒扩散在MgF2介质中,通过AFM观察,对复合薄膜形貌进行了分析:如果先镀MgF2薄膜,再镀Ag薄膜,发现Ag颗粒主要分布在薄膜的表面,并且富集形成较大的颗粒,表现出块体Ag的吸收特性.而先镀Ag薄膜,然后再镀MgF2薄膜,经过热处理,可以形成Ag颗粒均匀镶嵌在介质中形成的复合薄膜.同时对样品的吸收特性也进行了研究.     

Mg-PbO2-Ti-PbO2-PTFE复合薄膜烟火材料的制备及性能

采用磁控溅射和真空蒸镀结合的方法,制备了Mg-PbO2-Ti-PbO2-PTFE复合薄膜烟火材料,利用X射线光电子能谱(XPS)分析了真空蒸镀的薄膜成分,并测定了薄膜材料与基底间的附着力.采用光纤法测量薄膜材料的燃烧线速度,分析了其燃烧过程.结果表明,利用真空蒸镀法可得到PbO2薄膜,复合薄膜烟火材料与基底有较好的附着...     

复合离子镀AlTiN薄膜的表面形貌

本工作将阴极真空电弧沉积法和磁控溅射离子镀法结合形成复合镀膜工艺,即用电弧蒸发Ti靶的同时,用磁控溅射Al靶,并通入反应气体N2,以在高速钢基底上镀制AlTiN薄膜,考察了复合镀膜方法获得的AlTiN薄膜的表面形貌,并将其与单一法镀膜的表面形貌进行了对比分析.电弧离子镀制备的AlTiN薄膜表面颗粒很多,而且尺寸大,表面很粗糙,磁控溅射制备的AlTiN薄膜表面光滑平整,复合镀得到的AlTiN薄膜表面粗糙度介于二者之间,但从形貌上看,复合镀的薄膜呈现出典型的层状生长特征,在SEM下可清晰地看到表面的层状生长在部分区域不完全.测试发现,复合镀薄膜形貌并不是电弧镀和溅射镀薄膜形貌的简单混合,而是具有自身独特的特征,这可能是由于电弧弧光等离子体与溅射的辉光等离子体相互作用的结果.     

功能性包装薄膜论略(三)

(上接《塑料包装》2015年第2期)4、蒸镀型氧化硅阻隔性包装薄膜的一般特性我们可以列举蒸镀型氧化硅阻隔性包装薄膜的众多具有实际应用价值的特性,首先是对氧气和水蒸气的特别优良的阻隔性,虽然由于各公司生产方法或生产条件不同,不同蒸镀型氧化硅阻隔性包装薄膜工业化品牌,阻隔性方面有一定的差异,但总体上均接近于铝箔而明显地高于普通阻隔性塑料包装薄膜,而且当蒸镀型氧化硅阻隔性包装薄膜与PE、CPP等热封性薄膜复合之后,阻     

真空名词术语简介(二)

真空镀膜技术真空镀膜就是在真空环境下,采用各种物理、化学的方法使待镀材料呈原子、分子、离子或粒子团等状态沉积到某一固体(称为基板或衬底)表面上凝聚成膜的一种过程。真空镀膜是一种最重要的薄膜制造技术。它能镀制薄膜的材料最为广泛,又能在各种各样固体的表面上生长成表面粘附良好的薄膜。制得的薄膜纯度高,薄膜的组分、生长速率和厚度在镀制过程中可进行控制,以及应用最为广泛。真空蒸发和溅射现象早在1857年和1902年分别由法拉第(Faraday)和戈德斯坦(Gol-     

化学法镀膜过程中溶胶颗粒特性的研究

溶胶-凝胶法制备的光学薄膜具有优良的物理化学特性和广阔的应用前景。通过对整个化学法镀膜过程的分析，发现溶胶中胶体颗粒粒径的大小决定胶体颗粒之间的搭接，从而直接决定着所镀薄膜表面形貌和平整度。采用激光粒度仪对氧化锆溶胶的颗粒特性进行了为期28天的观测，发现氧化锆胶体平均粒径保持在10nm左右，有逐渐增大的趋势，溶胶保存时间在20天以内较为适合镀膜。用原子力显微镜观测薄膜的表面相貌，所镀薄膜均匀，平整度小于5nm。可见采用激光粒度仪对溶胶颗粒粒径变化进行监控，能有效提高所镀薄膜的成膜特性，对溶胶镀膜的大规模生产和工艺成熟有一定的指导意义。     

区域熔融技术在InSb薄膜热处理中的应用研究

对真空分层蒸镀的InSb薄膜进行了区域溶融热处理，与普通升温热处理相比，薄膜的结晶度和电学性能有较大的提高。应用成膜理论分析了区域熔融技术对于InSb薄膜结构和性能的影响。     

镀TiN薄膜的保温节能遮阳玻璃

镀有 TiN 薄膜的玻璃是一种新的“热镜”材料。当 TiN 薄膜厚度大于90nm 时,它对红外线的反射率大于75%。小样试验结果表明:使用镀 TiN 的窗玻璃比用普通玻璃节省取暖能源50%以上。此外,TiN 薄膜与玻璃的结合力强,它不被酸、碱、海水所腐蚀,时延性好。     

离子束辅助沉积制备多晶Al2O3薄膜

利用电子枪蒸镀Ａｌ２Ｏ３，同时辅以Ａｒ离子轰击的离子束辅助沉积方法（ＩＢＡＤ）制备Ａｌ２Ｏ３薄膜，并与单纯电子枪蒸镀方法（ＰＶＤ）制备的薄膜进行了结构和表面形貌的比较，ＩＢＡＤ法可以得到结构均匀致密的γ－Ａｌ２Ｏ３晶态薄膜，而ＰＶＤ９方法仅能得到非晶态疏松的结构，分析结果表明，薄膜沉积过程中，提高离子轰击能量和增加基片加热温度在一定程度上具有相同的效果。     

阻隔性透明蒸镀薄膜"エコシア-ル"各种牌号的特征及应用

前言 无机二元阻隔性蒸镀薄膜"エコシア-ル",有以PET薄膜为基膜的和以PA薄膜为基膜的,可充分利用基膜的各式各样的特性,特别是利用尼龙的特性,开拓蒸镀透明尼龙薄膜的市场.