大阪大学甲硅烷气体爆炸事故的调查

1 前言 1991年10月2日16点,大阪大学基础工程系在使用等离子气化学汽相淀积装置实验时发生了爆炸,死亡学生2人,轻伤5人。由于该事故发生在学校,死亡者是学生,所以,有关人员受到了很大冲击。通商产业省对此非常重视,要求高压气     

清洗硅烷系统尾气的集尘器

该集尘器是离心式清冼器。在半导体制造工业CVD过程中，能安全可靠地处理硅烷系统的尾气，捕集副生粉尘。     

半导体用特种气体的处理方法干法处理装置

在硅半导体生产中，作为单晶硅、氮化膜、氧化膜气相成长用气；作为硅铝膜蚀刻用气，需消耗多种氢化物(如甲硅烷、砷烷、磷烷)和卤化物(如三氯化硼、三氟化硼、氯化氢)。作为光电管和高速管用而大有希望的Ⅲ-V族半导体的生产过程中，同样消耗这类气体。