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无氰电镀工艺的研究现状及解决问题的途径 总被引:7,自引:0,他引:7
本文回顾了无氰电镀工艺的发展状况。指出了当前电镀生产无氰化过程中存在的问题。介绍了当前国内外主要的无氰电镀工艺——无氰镀锌、无氰镀铜、无氰镀金和无氰镀银等工艺的技术现状,指出了今后的研发重点和解决问题的主要途径。 相似文献
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本文对我国电子电镀技术领域的现状及发展动态作了系统的综述。本文共分两次发表,这是第一部分。先总结三个领域:一、防护性镀层。先介绍了氰化镀锌、碱性镀锌及酸性氯化钾镀锌等三种工艺,再叙述了锌镍合金的电镀及钝化工艺。二、装饰性镀层。介绍了多层镀镍、镀缎状镍、镀光亮镍铁合金等三种电镀工艺和最近发展起来的仿金、古铜色、黑色等花色镀层和电泳镀彩色涂层等。三、贵金属电镀。介绍了酸性镀金、中性镀金、碱性镀金和无氰镀金等四种镀金工艺以及适用于集成电路框架的选择性镀金和最近新发展起来的脉冲镀金。此外还比较详细地介绍了电子工业中一种较理想的代金镀层——钯镍合金。 相似文献
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锌合金压铸件装饰性镀金 总被引:1,自引:0,他引:1
本文介绍锌合金压铸件装饰性镀金工艺已在实践中应用.该工艺的特点是前处理简易可行,效果较好.其次采用了氰化镀铜工艺,再带电下槽用酸性亮铜加厚,然后镀亮镍、镀金.镀金采用华美电镀技术有限公司的PTS系列水金镀金工艺,其镀液分散能力好,20s内镀层达到24K光亮的纯金色泽,耗金量省,镀层约0.25μm,这对装饰镀金来说,是一个较为理想的镀金工艺. 相似文献
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本文重点介绍了亚硫酸盐镀金、硫代硫酸盐镀金、亚硫酸盐-硫代硫酸盐复合配合剂镀金、乙内酰脲镀金等无氰电镀金工艺。综述了每种镀液体系的基本组成、配位剂与金离子的配位形式、镀金工艺参数及限制其发展的各种因素。对相关镀液体系中金的电沉积行为进行了总结,并对未来无氰电镀金工艺的发展方向进行了展望。 相似文献
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将锌-铁合金电镀工艺应用于锌压铸件电镀,分析了锌压铸件镀前处理特点及注意事项,比较了锌压铸件氰化镀铜和锌-铁合金电镀作预镀层的优劣,锌-铁合金电镀工艺能取代氰化镀铜作锌压铸件预镀工艺,并可在锌-铁合金镀层上镀防金、铬等装饰性镀层。 相似文献
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随着电子工业和空间技术的发展,化学镀金工艺日益受到重视,仁寿命短、稳定性差和由此产生的成本负担严重制约着化学镀金工艺的报广[1]。我厂许多盲孔零件要求镀金,用电镀工艺很难达到要求。为满足生产,笔者通过试验,在铜件化学还原法镀金工艺的基础上[2]添加S-11稳定剂,取得了良好效果。稳定剂由含-NH2基团的有机物和给合物两部分组成。该工艺实际生产一年以上未见分解,其作用机理尚在研究中。配方如下:氰化金钾2g/I。氯化按758/L柠檬酸钠SOg/I。次亚磷酸钠10g/L稳定剂S-11ZOmL/I,pH‘7、8温度95C工艺流程去油一水洗… 相似文献
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Generally, contact or terminal areas are coated with nickel as a barrier layer; subsequently, gold plating is performed to maintain reliability of electrical interconnection. Treatment using dilute solutions of palladium ions have been applied to initiate electroless nickel plating on copper substrates because copper has no catalytic action for the oxidation of hypophosphite. However, trace amounts of palladium ions may remain on the unwanted areas and extraneous nickel deposits are often observed. We confirmed that nickel films without extraneous deposits can be formed using the activation solutions containing dimethyl amine borane (DMAB). Bondability on the electrolessly deposited gold was greatly influenced by the phosphorus contents of the deposited nickel films as the underlayer. Bonding strength after electroless gold plating was increased with increasing phosphorus contents in the nickel films. Stabilizers in the electroless gold plating also influenced the bonding strength. Baths containing cupferron or potassium nickel cyanide as a stabilizer showed superior bondability. Gold deposits having strong orientation with Au(220) and Au(311) indicated high bond strength. 相似文献
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连续高速电镀技术在集成电路引线框架生产中的应用 总被引:3,自引:0,他引:3
介绍了集成电路引线框架镀层特点及其卷对卷式连续高速局部电镀银技术。分析了高速镀银工艺条件,并与传统氰化物镀银工艺进行了比较。简单介绍了局部电镀技术的原理及方法。 相似文献