电色膜和电色器件的光电特性

介绍了电子束蒸发沉积ＷＯ３膜在０．５ｍｏｌ／ＬＨ２ＳＯ溶液和ＮｉＯｘ膜在１ｍｏｌＫＯＨ溶液中的电色性能；介绍了沉积到玻璃片上的ＩＴＯ膜作透明导电极、光学上活性的ＷＯ３阴极变色膜作工作电极，光学上活性的ＮｉＯｘ阳极变色膜作反电极（贮存电荷度样的贮存器）１ｍｏｌＬｉＣｌＯ４丙酮溶液的电解质锂离子导体组成的互补型电色器件的光电特性。     

非晶态铬镀层表面的X光电子能谱研究

非晶态铬镀层具有优良的物理、化学和机械性能，根据非晶态铬镀层的特点用Ｘ－射线光电子能谱（ＸＰＳ）对于进行表面元素全分析和Ａｒ＾＋溅射浓度剖析，发现所获非晶态铬镀层由Ｃｒ、Ｏ和Ｃ等元素组成。Ｏ和Ｃ元素不仅存在于镀层表面，而且存在于整个镀层中。其中Ｏ是以－ＣＯＯＨ和吸附Ｈ２Ｏ及Ｃｒ的氧化物形式存在；Ｃ以－ＣＯＯＨ和石墨存在；在Ｃｒ则以Ｃｒ、Ｃｒ２Ｏ３、ＣｒＯ２及ＣｒＯＯＨ形式存在。     

电化学方法制备非晶态铬工艺的研究

本文研究了从三价铬电镀溶液中获得非晶态铬镀层的工艺，用ＥＤＸ和ＷＤＸ测定了镀层的组成，表明镀层是由铬和少量的碳组成：用Ｘ—射线衍射测定了镀层的结构；发现镀层在２θ为４３°时，有非晶态的特征峰“ＢｒｏｎｄＧａｕｓｉｏｎＰｅａｋ”；并且用ＥＧ＆ＧＰＡＲＣ电化学软件研究了电镀溶液的电化学行为。     

电化学方法制备非晶态铬工艺的研究

本文研究了从三价格电镀溶液中获得非晶态铬镀层的工艺，用ＥＤＸ和ＷＤＸ测定了镀层的组成，表明镀层是由铬和少量的碳组成，用Ｘ－射线衍射测定了镀层的结构；发现镀层在２θ为４３°时，有非晶态的特征峰“Ｂｒｏｎｄ Ｇａｕｓｉｏｎ Ｐｅａｋ”；并且用ＥＧ＆Ｇ ＰＡＲＣ电化学软件研究了电镀溶液的电化学行为。     

电沉积Ni—P,Ni—P—Si3N4非晶态合金及其结构,性能研究

研究了Ｎｉ－Ｐ、Ｎｉ－Ｐ－Ｓｉ３Ｎ４非晶态合金薄膜的是沉积工艺，通过ＳＥＭ－ＥＤＳ，ＸＲＤ，ＥＭＰＡ等微观分析方法，提出了获取８￣１４ｗｔ％Ｎｉ－Ｐ和Ｎｉ－Ｐ－Ｓｉ３Ｎ非晶合金镀层的镀液组成和电沉积参数。实验表明，Ｎｉ－Ｐ非晶态合金镀层在碱液中具有优越的耐蚀性能，在含Ｃｌ＾－１的中性盐液中有良好的耐蚀性，且不产生点蚀；Ｎｉ－Ｐ－Ｓｉ３Ｎ４非晶合金镀层，经晶化处理后，耐蚀性能提高，且与基材呈冶金结合     

电沉积Ni—P非昌态合金的初期结构及形成机理

在典型的用于电沉积Ｎｉ－Ｐ非晶态合金的溶液中，于非晶碳膜上恒电位「－９０００ｍＶ（ＳＣＥ）电沉积ｌｓ后，发现有Ｎｉ的晶核形成，在相邻很近的Ｎｉ晶核之间沉积出Ｎｉ－Ｐ＝Ｓ非晶主不连非晶镀层，证明电 Ｎｉ－Ｐ合金初期态Ｎｉ的形成并非基体外延所致。     

铝合金上铈氧化膜形成的电化学研究

研究了ＬＣ４铝合金在静置的、充氧或充氮的ＣｅＣｌ３（０．１％）／ＮａＣｌ（０．１ｍｏｌ／Ｌ）溶液中长时间浸泡形成的铈氧化物膜。在０．１ｍｏｌ／ＬＮａＣｌ中测得的极化数据表明，自上述三种浸泡体系所形成的铈氧化物膜在对铝合金的抗腐蚀特性上没有差别，这种膜是合金表面先前存在的自然铝氧化膜直接转化而成的，浸泡溶液中的溶液中的溶解氧对成膜速度并无贡献。提出了膜的形成机理。     

W,P对Ni基非晶镀层耐蚀性能的影响

电沉积Ｎｉ－Ｐ，Ｎｉ－Ｗ和Ｎｉ－Ｗ－Ｐ非晶态合金镀层的阳极化曲线表明，添加类金属Ｐ使镀层的腐蚀电位向正移动，添加高熔点金属Ｗ使维钝电镀密度降低，此外，对Ｎｉ－Ｗ和Ｎｉ－Ｗ－Ｐ合金镀层进行印化处理，可显著提高镀层在ＮａＣｌ溶液中的耐腐蚀性能。     

不同组份PbO2-MnO2催化层钛基阳极的研究

本文用热分解方法制备了ＰｂＯ２－ＭｎＯ２混合金属氧化物阳极，对电极进行了ＥＤＳ、ＳＥＭ、ＸＲＤ研究，测定了电极在１ｍｏｌ／ＬＨ２ＳＯ４溶液中的使用寿命和动力学参数，结果表明：所制备电极具有优良的电催化活性和电化学稳定性。     

AMT保护青铜的研究

采用电化学方法和ＸＰＳ、ＡＥＳ法研究５－氨基－２－巯基－１、３、４－噻二唑（ＡＭＴ）在青铜表面形成的保护膜。结果表明，ＡＭＴ溶液处理后的青铜试片在ｐＨ值为７的０．５ｍｏｌ／ＬＮａ２ＳＯ４和５％ＮａＣｌ溶液中，其腐蚀过程受到了明显抑制，是由于ＡＭＴ在青铜表面形成Ｃｕ（Ｉ）ＡＭＴ络合物膜，其结构为Ｃｕ｜Ｃｕ２Ｏ｜Ｃｕ（Ｉ）ＡＭＴ。     

海外文献速递

电　镀2 0 0 0 0 90 1　在甘氨酸介质中电沉积ＣｕＩｎＳｅ2 薄层———ＶｇａｒｔｅＲ .ＴｈｉｎＳｏｌｉｄＦｉｌｍｓ ,1999,34 0 ( 1) :117(英文 )在Ｔｉ和导电性玻璃基体上用含ＣｕＣｌ2 、ＩｎＣｌ3、ＳｅＯ2 的甘氨酸介质 (用ＨＣｌ将ｐＨ值调至 2左右 )动电位电沉积ＣｕＩｎＳｅ2 多晶薄层 ,研究了加入ＥＤＴＡ络合剂后的影响。获得的膜层经不同的后处理 ,在约 4 0 0℃的Ａｒ气中热处理 ,在 0 .5ｍｏｌ/ＬＫＣＮ溶液中刻蚀 ,室温空气氧化。考察了膜层处理后的特征 ,热处理提高了镀层的结晶度 ,使晶粒变粗 ,从而导致ＣｕＩｎＳｅ2 黄…     

Ni—P合金镀层对321不锈钢应力腐蚀开裂的影响

用Ｕ型弯曲试验，恒载荷拉伸试验，Ｘ射线和ＳＥＭ表面分析方法，研究了化学镀Ｎｉ－Ｐ合金镀层及热处理后镀层对３２１奥氏体不锈钢在４２％沸腾ＭｇＣｌ２溶液中应力腐蚀开裂的影响。结构表明：Ｎｉ－Ｐ合金镀层均能提高３２１不锈钢在ＭｇＣｌ２介质中的抗应力腐蚀的能力。完整的镀层能有效地起到机构隔离作用，当镀层产生微裂纹时，镀层对基材具有一定程序的电化学保护作用。     

电沉积Ni—P非晶态合金的初期结构及形成机理

在典型的用于电沉积Ｎｉ—Ｐ非晶态合金的溶液中，于非晶碳膜上恒电位［－９００ｍＶ（ＳＣＥ）］电沉积１ｓ后，发现有Ｎｉ的晶核形成，在相邻很近的Ｎｉ晶核之间沉积出Ｎｉ－Ｐ—Ｓ非晶核及不连续非晶镀层．证明电沉积Ｎｉ－Ｐ合金初期晶态Ｎｉ的形成并非基体外延所致．     

添加剂对非晶态Cr电沉积的影响

用Ｘ－射线衍射法（ＸＲＤ）研究了添加剂含量对镀层形成非晶态的影响。测定了非晶态Ｃｒ电沉积的阴极电流效率高达３８％，高于传统镀Ｃｒ溶液。用线性电位扫描研究了非晶态Ｃｒ电沉积的电极过程，并且根据Ａｒｒｈｅｎｉｕｓ公式计算于非晶态Ｃｒ电沉积的表观活化能，研究结果表明，添加剂不仅促使镀层形成非晶态，而且可催化Ｃｒ的电沉积过程。     

电沉积非晶态铬—铁合金镀镀层研究

研究了从三价铬的硫酸盐体系中电沉积Ｃｒ－Ｆｅ合金镀层的工艺以及镀层的形貌、结构和性能。利用该工艺获得了厚度３０μｍ以上、铁含量（２０－３０）％的Ｃｒ－Ｆｅ合金镀层。实验结果表明，该镀层表面结瘤状，含有大量微裂纹，为非晶态结构，具有可热处理性。在６００℃下热处理１ｈ后硬度最高可达１４００ＨＶ以上，因此，可作为经济、耐磨性镀层使用。     

海外文献速递

电　镀20 0 2 0 30 1　用三价铬溶液镀硬铬———ＧｕＨｏｎｇ .ＰｌａｔｉｎｇａｎｄＳｕｒｆａｃｅＦｉｎｉｓｈｉｎｇ ,2 0 0 1,88( 3) :6 9(英文 )研究了适合于镀硬铬的三价铬镀液 ,其工艺规范 :Ｃｒ(Ⅲ )盐0 .6～ 1.0ｍｏｌ/Ｌ ,羧酸 (Ⅰ ) 0 .3～ 0 .5ｍｏｌ/Ｌ ,羧酸 (Ⅱ ) 0 .3～ 0 .5ｍｏｌ,硼酸 0 .2～ 0 .8ｍｏｌ/Ｌ ,Ａｌ盐 0 .2～ 0 .6ｍｏｌ/Ｌ ,羧酸 (Ⅲ ) 0 .2～0 .6ｍｏｌ/Ｌ ,ＫＣｌ 1.0～ 3.0ｍｏｌ/Ｌ ,ｐＨ值 1.0～ 3.0 ,温度 2 0～ 35℃。羧酸 (Ⅰ )、羧酸 (Ⅱ )、羧酸 (Ⅲ )从下列物质中选取 :甲酸、乙酸、丙酸、丁…     

含氯尾气处理的研究

常温、常压下，用ＮＨ４ＯＨ稀溶液在填料吸收塔中处理任意浓度氯尾气实验；测定了塔顶排出气中含氯小于０．１０×１０－６，塔釜排出液含氯化物（以Ｃｌ－计）１．００ｇ／ＬＨ２Ｏ，游离氯０．２６ｇ／ＬＨ２Ｏ。     

Fe-Cr合金镀层结构及非晶化机理探讨

用ＸＰＳ分析了非晶态和晶态Ｆｅ－Ｃｒ合金镀层表面及内部物质存在形式,并通过Ｘ－射线衍射分析了镀层Ｃｒ含量与晶粒大小的关系,认为Ｆｅ－Ｃｒ非晶态镀层符合微晶结构,由于镀层Ｃｒ含量增加引起Ｆｅ晶粒细化以及ＣｒＣ相夹杂的共同作用导致了镀层非晶态的形成     

国外文摘

国外文摘责任编辑占小玲９６０１００１用于吸收太阳能的局部镀层生产方法──ＡｂｄｅｅｖａＬＶ．俄罗斯专利，１８０７０９４．（俄文）该方法包括从下列溶液沉积Ｃｏ（ｇ／Ｌ）：ＣｏＳＯ４２９０～３１０，ＮｉＣｌ２１３０，Ｈ３ＢＯ３３０，ＫＣｌ１５，电流密度为...     

共聚物电解质MA－Na_2／AA－Na水溶液的粘度特性

对共聚物电解质ＭＡ－Ｎａ２（顺丁烯二酸钠）／ＡＡ－Ｎａ（丙烯酸钠）水溶液ηＳＰ／Ｃ（比浓粘度）与浓度的关系、中性盐及溶液ｐＨ对ηＳＰ／Ｃ的影响进行了研究。结果表明，稀释ＭＡ－Ｎａ２／ＡＡ－Ｎａ溶液时，ηＳＰ／Ｃ急剧上升，而稀释含中性盐（ＫＣｌ或ＣａＣｌ２）的ＭＡ－Ｎａ２／ＡＡ－Ｎａ溶液体系时（中性盐含量保持０．０１ｍｏｌ／Ｌ），ηＳＰ／Ｃ的变化却不大。添加极少量（＜０．０５％）中性盐，可使ＭＡ－Ｎａ２／ＡＡ－Ｎａ溶液体系的ηＳＰ／Ｃ大幅度下降，当中性盐浓度大于０．０５％时，ηＳＰ／Ｃ趋于稳定。溶液ｐＨ＝８时，ηＳＰ／Ｃ最高，ｐＨ＜８或ｐＨ＞８时，ηＳＰ／Ｃ迅速降低。