新型快速电路板用液体蚀刻剂

近年来世界各国电子行业的发展很快，据初步统计仅我国每年就需蚀刻剂的用量近１００kt，但传统蚀刻剂大多采用氯化铜类和氯化铵类固体产品。此类产品在蚀刻中要求温度较高，而且对铜和铝的蚀刻时间也较长，因此造成蚀刻成本高等不足。为解决上述问题，由武汉现代工业技术研究院最新研究成功了一种新型快速液体蚀刻剂技术，该技术经多家企业试用均达到很好的效果，并证实了该产品具有蚀刻速度快，成本低于传统蚀刻３５％左右。该产品主要用于印制电路板铜和铝的蚀刻，其主要特点有；通过减少侧蚀，改进焊重融及可焊性，获得更好质量的印制板…     

日本纳米芯片加工用含氟蚀刻剂

大金公司已经成为世界上第一家开发出低成本、大批量生产含氟蚀刻和清洁溶剂的生产工艺，产品用于纳米线宽的半导体。Osaka公司计划于2003年11月启动全球生产方案。     

蒙砂粉熟化过程与蚀刻玻璃表面的研究

固体蒙砂粉的熟化质量是决定玻璃蚀刻效果的重要因素。用X射线衍射（XRD）、能谱仪（EDS）、拉曼光谱、粘度计、Zeta电位和碱滴定等方法研究了用柠檬酸和氟化氢铵为主要成分配制的蒙砂粉的理化性质随熟化时间的变化规律,考察和评价了熟化时间对GG6手机盖板玻璃蚀刻效果的影响。结果表明：熟化时间为36 h,得到的熟化液的黏度和氢离子浓度最大,GG6玻璃蚀刻后的粗糙度为265 nm、雾度为84%、透光率为92.4%、光泽度为11.7%,符合工业上手机玻璃盖板的蚀刻加工质量要求,蚀刻后的GG6玻璃表面形成一层微量的氟硅酸物晶体,构成的微纳蚀孔结构更均匀。测定蒙砂液的理化性质能有助于更好地了解蒙砂粉的熟化过程,对蒙砂粉蚀刻工艺具有指导作用,提高玻璃防眩工艺的生产效率。     

Delta玻璃蚀刻套装

套装使您可轻而易举地做出漂亮的蚀刻样式来．该套装中不含酸、不含有害气体、不会对皮肤产生腐蚀。且该材料用肥皂水就可以清洗掉。[第一段]     

岩谷产业开发出氟气无等离子的高速硅蚀刻技术

岩谷产业与京都大学副教授松尾二郎共同开发出了无等离子的高速硅蚀刻技术。反应气体使用三氟化氯（CIF3），可在室温下以40微米／分以上的速度刻蚀单结晶硅底板。优点是与现有设备相比，可简化蚀刻设备的结构和控制方法。     

关于隔膜烧碱节电措施的探讨

我公司是以生产氯碱产品为主的化工企业，隔膜烧碱电耗一直徘徊在2520kwh/t（NaOH100％），因此，降低电耗一直是我们努力的方向。     

化学蚀刻

有一种化学蚀刻法可代替喷砂制作法，该法可做出与表面蚀刻类似的效果，该法的优点在于做法简单，并且也不需要用磨蚀蚀刻所用的一些设备。毫无经验的初学者都可用此法做蚀刻玻璃器皿、小型平板玻璃或镜子等作品。该方法的缺点在于用化学物质做出的蚀刻不像喷砂作品那么坚固、那么亮那么白，也没那么持久耐用，也可能会产生划痕和斑点。     

玻璃丝网印刷蚀刻油墨的生产及应用

阐述了玻璃丝网印刷蚀刻油墨的化学原理、生产及应用，并与溶液蚀刻方法进行了工艺和社会经济效益的对比。通过比较，说明该法具有操作简单、投资少、污染小等特点，社会效益与经济效益显著。     

新型快速电路板用液体蚀刻剂

近年来世界各国电子行业的发展很快 ,据初步统计我国每年就需蚀刻剂的用量近 1 0万ｔ,但传统蚀刻剂大多采用氯化铜类的氯化铵类固体产品。此类产品在蚀刻中要求温度较高 ,而且对铜和铝的蚀刻时间也较长 ,因此造成蚀刻成本高等不足。为解决上述问题 ,由武汉现代工业技术研究院最     

山东海化：在两碱同生共赢中解决电石泥利用难题

2005年10月12日上午，随着第一袋PVC树脂（聚氯乙烯）产品的顺利下线，山东海化股份有限公司总投资10亿元的氯碱树脂项目成功投产，一举成为我国一家生产纯碱、氯碱两种产品的化工企业，同时，由于在全国同行业首次实现了纯碱、烧碱的连理，成功地解决了电石法生产PVC工艺中最令人头疼的电石泥废渣综合利用难题，填补了国内空白。     

酸性氯化铜蚀刻液中铜的回收研究

运用络合平衡和沉淀平衡的理论,对酸性氯化铜蚀刻液的蚀刻过程进行研究,提出以铜废料作还原剂,回收蚀刻液中铜。与电解法和沉淀法相比,工艺简单、回收产品纯度高、经济效益好。     

我国烧碱工业状况与发展趋势

分析了我国烧碱工业状况，并对发展趋势进行了预测，我国氯碱行业存在烧碱供过于求、产能增长迅猛但企业规模小且分散，电价偏高，工业盐质量差与供应垄断等问题，为缓解供过于求的矛盾，增加烧碱生产利润，提出了以下措施：（1）规模大型化，布局集中化；（2）依靠科技进步，注重挖潜改造，努力降低成本；（3）加大耗碱产品的开发，推广、应用力度；（4）建设产氯不产碱装置；（5）企业联合促进出口，防止国外产品的倾销；（6）细分市场进行生产，营销。     

德国PVC厂执行欧盟清洁生产项目

Vinnolit公司在德国Knapsack化工园区用盐、乙烯和电生产聚氯乙烯和烧碱等产品。该公司在欧盟委员会bFeⅢ项目框架内于2008年4月开始执行“PVClean”（PVC清洁生产）项目，用自己开发的新工艺。每年可回收悬浮法PVC生产中的工艺废水20万m^3,大大减少了废水排放量，新鲜水用量也相应减少。     

不锈钢蚀刻速率影响因素研究

研究了蚀刻液中FeCl3、HCl及HNO3的质量浓度以及温度对1Cr18Ni9Ti钢蚀刻速率的影响。实验结果表明,FeCl3质量浓度的增加可以提高蚀刻速率以及蚀刻液的稳定性;蚀刻速率随HCl质量浓度的增加先升高后降低;HNO3质量浓度和温度的增加都可以提高蚀刻速率。     

巴斯夫电子材料上海新工厂落成

2006年10月25日巴斯夫电子材料在上海举行开业庆典。庆祝其电子化学品新工厂的投产。新工厂投资400万欧元，生产纯化和配制电子化学品（即溶剂和蚀刻液）。以服务于迅猛发展的中国集成电路生产市场。巴斯夫电子材料全球副总裁Karl—Rudolf Kurtz博士、上海市青浦区副区长杨劲松先生以及巴斯夫电子材料的客户代表出席了该庆典。     

TC18钛合金电化学蚀刻标记新工艺研究

针对TC18钛合金零件电化学蚀刻标记深度不满足0.08 mm~0.13 mm要求的生产现状,引入新牌号蚀刻液MA04、T10和新牌号蚀刻纸DIG-3100、LST6010,对TC18钛合金进行电化学蚀刻标记工艺研究。结果表明,使用蚀刻液MA04、T10和蚀刻纸DIG-3100、LST6010后,标记深度及清晰度均满足要求,具有一定的应用和推广价值。     

FeCl3腐蚀溶液再生应用的研究

本文对金属蚀刻溶液的再生应用进行了实验研究，结果表明，对于减少环境污染、节约腐蚀溶液用量、降低金属蚀刻工艺成本有重要的意义     

装饰不锈钢管材的快速电化学蚀刻

不锈钢管材以其良好的机械加工性能、耐腐蚀性、明亮的光泽等 ,在室内外建筑装饰方面的应用日趋增多。随着人们文化素养、生活水平的提高 ,目前多采用带有艺术图案的不锈钢管材。在不锈钢表面蚀刻艺术图案 ,传统的方法是化学蚀刻法。即在其表面涂盖一层耐腐蚀保护层 ,用物理法刻出所需的线条图案 ,将其侵入化学腐蚀液中进行蚀刻。由于不锈钢有较好的耐腐蚀性 ,化学反应速率很慢 ,需要较长时间反复腐蚀。这样就易产生掩膜下的横向腐蚀 ,而且效率低、成本高。电解蚀刻法可有效解决上述问题 ,是一种高速、高效的金属蚀刻方法。1　基本原理电化…     

GaN市场持续强劲增长

日本高知技术大学（Kochi）科研小组开发了一种低成本生产精细针状硅的简便方法，即溅射和离子蚀刻（sputtering ＆ ion etching）生产工艺。     

蚀刻废液制备多种单一晶型碱式氯化铜及性能分析

以印刷电路板蚀刻废液为原料生产碱式氯化铜的过程存在产物多种晶型混杂的问题,影响产品的纯度和性能。为获得纯正的晶型产品,以酸、碱蚀刻废液为原料,通过改变连续反应结晶过程的加料速率、反应温度、pH等条件,获得了A型（Atacamite）、B型（Botallackite）和C型（Clinoatacamite）3种单一晶型产物。3种产物中单一晶型纯度分别为99.0%（A型）、99.7%（B型）和90.7%（C型）。3种产物的XRD和SEM分析表明:A型属正交晶系,为长条片状聚集物;B型属单斜晶系,为正六棱柱单晶聚集物;C型属单斜晶系,为不规则片状聚集体。3种产物的化学分析和TG-DSC热分析表明:A、B、C 3种结晶形态具有不同的化学式,分别为A型Cu₄（OH）₆Cl₂·H₂O、B型Cu₅（OH）₈Cl₂和C型CuCl₂·3Cu（OH）₂·0.5H₂O;3种产物具有不同的热分解活化能和分解热。B型碱式氯化铜在3种产物中含铜量最高,且热稳定性最强,是碱式氯化铜生产中最好的晶型产物。