带集成紫外滤光片的背照式CCD器件

美国喷气推进实验室的研究人员目前正在研制一种带δ掺杂和集成光学滤光片的减薄型硅CCD器件,这种CCD器件为背照式器件,它将被用作在紫外波长范围内工作的成像探测器.     

彩色滤光片制备方法概述

彩色滤光片是液晶显示器中实现彩色显示的重要部件,其制备工艺直接影响决定了彩色滤光片的性能。本文介绍了彩色滤光片结构及原理,比较分析了各种彩色滤光层的制作方法的优势和劣势,提出喷墨法由于具有快速、精准、材料利用率高等一系列优点,其已经成为制备大尺寸彩色滤光片极有竞争力的一项技术,并简要阐述喷墨法国内外的发展现状及。     

LCD彩色滤光片技术发展

在介绍液晶显示器用彩色滤光片结构的基础上,概述目前研究和生产领域的新技术。通过对彩色滤光集成技术与传统工艺的比较详细分析了该技术的优点,并回顾了彩色滤光片加工工艺技术的发展历程,并介绍了喷墨打印和干膜转移两项新技术的发展情况。     

16通道微型集成滤光片制备技术的研究

多光谱成像光谱技术正在向光谱通道更多、集成度更高、体积小和重量更轻的方向发展,而用于分光的多通道滤光片是其关键光学元件,需要相应发展新型多光谱窄带集成滤光片制备技术.提出了组合刻蚀法布里-珀罗(F-P)滤光片间隔层的方法,将光学薄膜制备技术,离子束刻蚀技术与掩膜法技术相结合,形成新的多通道集成滤光片的制备方法.并在单个微型基片上,成功制备了集成16通道窄带线阵滤光片,获得的单元滤光片几何线宽为0.7mm,相对半峰全宽优于1.0%,透射峰定位精度优于0.25%.这一方法不但可满足集成度更高的滤光器件的要求,而且拓展了薄膜制备的方法.     

TFT-LCD用彩色滤光片

彩色滤光片作为液晶显示器件的关键组件,其性能直接影响显示器的对比度、亮度、视角乃至画面质量。本文阐述LCD用彩色滤光片的结构、特性和制取方法,着重介绍目前最常用的制取彩色滤光片的颜料分散法。彩色滤光片产业属于技术密集型产业,只有掌握相关的技术知识,打破国外在颜料领域的垄断,拥有自主知识产权,才能带动国内整个行业的发展。     

TFT-LCD彩色滤光片技术及其产业发展现状

作为液晶显示器件的重要组件,彩色滤光片影响着液晶显示的技术发展和制造成本的降低。文中介绍了液晶显示器使用彩色滤光片的基本结构及原理,比较并分析了各种滤光片彩色层制造方法的优势和局限性,指出喷墨打印制造彩色层是今后彩色滤光片技术发展革新的重要方向。根据国内外液晶产业发展现状,我国在大力发展TFT-LCD的同时,也应关注CF制备的新技术和新工艺研发。     

彩色滤光片用颜料细化工艺研究

彩色滤光片是液晶显示器实现彩色显示的部件,而颜料光阻是彩色滤光片的关键材料,占彩色滤光片成本的27%左右。在颜料光阻内作为着色剂的光阻颜料,其性能好坏直接决定了颜料光阻的性能,因此本文在介绍彩色滤光片的基础上,对颜料的细化工艺进行深入研究。     

彩色滤光片用光阻剂研究

彩色滤光片为液晶显示中的重要零组件,而光阻剂是彩色滤光片的关键材料,其性能好坏直接影响了彩色滤光片的性能,如色饱和度、色纯度、透过率和耐候性能。因此,光阻剂的制取技术是必须掌握的关键技术,而光阻剂的配方为其主要研究对象。本论文研究了光阻剂中分别增加环氧树脂和润湿剂对其性能的影响。     

彩色CCD摄像机

分析了单片式彩色ＣＣＤ摄像机的原理和电路设计，。同时简要说明了它们的组成、结构、使用方法和应用。     

一种基于绿色分量的CCD颜色插值算法

提出了基于Bayer阵列的CCD颜色插值算法。在CCD阵列中,接收G色分量的像素占据总像素的一半,所以其中包含的影像信息对红（R)色、蓝（B）色分量的插值具有参考作用。本文以此为依据,首先利用中值插值算法对G色分量进行插值处理,然后参照G色分量的分布,插值产生R色和B色分量。基于此方法进行实验,结果显示,可以改善普通线性插值算法引起的图像模糊。     

颜料分散法制备LCD用彩色滤色膜

记述了采用颜料分散法制备彩色滤色膜的工艺过程。在着色光刻胶的制备方法作了一些研究，测定了所制滤色膜的分光特性及色度性能，并对彩色滤色膜的耐热性，耐药品性，耐侯性进行了检验。     

平列式线阵彩色CCD摄像机的色彩偏移与校正

分析了平列式彩色线阵CCD摄像机色彩偏移现象产生的原因.计算了摄像机在实际在线检测情形下的色彩偏移量.提出了色彩偏移的校正方法,并对色彩偏移的实际样本图像进行了校正.     

彩色线阵CCD用于物体尺寸精密测量的研究

现有精密尺寸测量系统采用单阵列的线阵CCD作为光电传感器,不能检测像元的排列方向与物体尺寸方向的夹角γ,而当夹角γ在测量中发生变化时将引起测量误差,本文采用彩色线阵CCD（TCD2901D）作为光电传感器进行精密尺寸测量,检测出夹角变化带来的尺寸测量误差,得到了误差的修正方法。     

可用于数码相机的新型滤色器实验研究

目前的数码相机获取彩色大多是由棋盘格状Ｂａｙｅｒ型滤色器与ＣＣＤ构成彩色成像器件获得。本文则提出了一种新型格式的滤色器,其不仅具有三原色空间周期采样的特点,同时又具有三色光栅编码的特点,即编码数字图像的频谱面上红、绿和蓝信号相互分离。本文的分析表明这种滤色器和Ｂａｙｅｒ型相比具有解码步骤较为简单的优点。本文特殊设计的模拟实验验证了其用于数码摄影的实际效果。     

CCD多晶硅刻蚀技术研究

CCD晶硅刻蚀相比于传统CMOS工艺的多晶硅刻蚀需要多晶硅对氮化硅更高的刻蚀选择比,更长的过刻蚀时间.采用Cl2+He,Cl2+He+O2,Cl2+He+O2+HBr三种工艺气体组分在Lam4420机台进行了多晶硅刻蚀实验,研究了不同气体配比、不同射频功率对刻蚀速率、选择比、条宽、侧壁形貌等参数的影响.通过优化工艺参数,比较刻蚀结果,最终获得了适合于CCD多层多晶硅刻蚀的工艺条件.     

滤色器的制造工艺

已经开发出几种新类型滤色器制造工艺,光刻法制造滤色器的工艺最成功。色料分散在光刻胶中的工艺也常使用。另外,还在研究用电镀法和印刷法制造滤色器。色料分散法制造的滤色器,有较高的光灵敏度,良好的色对比度,抗热、抗光、抗化学试剂的性能亦佳,现已大量用于生产。     

彩色滤光膜硅覆液晶微显示器中像素尺寸及滤光膜厚度对彩色侧向场效应的影响

应用彩色滤光膜硅覆液晶(Color Filter Liquid Crystal on Silicon,CF-LCoS)微显示器件的三维光学模型;研究了像素尺寸和彩色滤光膜厚度对彩色侧向场的影响。这两个参数可以影响微显示器件的色纯度、光反射率以及对比度等性能参数。对于特定的应用,需要考虑器件所有的性能参数要求,才能对像素尺寸和彩色滤光膜厚度进行优化。     

LCD用彩色滤色器的现状和进展

简要了ＬＣＤ用彩色滤色器研究的现状，报道了彩色滤色器市场和生产的变化情况，介绍了彩色滤色器研究发展的新动向。