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DY2001A型电子束曝光机软件系统设计 总被引:2,自引:2,他引:0
DY2001A型电子束曝光机是作为实用化的小型曝光系统而研制的。从设计角度详细阐述了DY2001A型电子束曝光机软件系统的构成,包括数据转换、对准校正套刻、硬件系统控制、曝光控制及数据建立和管理。 相似文献
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以静电极板为电子束曝光机偏转负载,用双通道扫描原理进行扫描,并使用计算机辅助设计研究电子束曝光机聚焦偏转系统的结构。由SDS-3电子束曝光机试验结果表明,复合静电偏转可以达到磁偏转相似的像差水平。 相似文献
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针对机器磨损状态监测要求,设计了一种油液磨粒在线监测静电传感器,并给出了静电传感器的结构模型.采用有限元法对传感器静电场进行数值求解,得到了传感器的灵敏度空间分布,并对影响传感器灵敏度的主要因素进行了仿真研究,对静电传感器的频率响应特性进行了分析.在此基础上,提出了油液磨粒在线监测静电传感器结构尺寸优化设计方法.最后,构建了油液磨粒静电监测实验系统,进行磨损监测实验研究.实验结果表明,静电传感器可有效监测到荷电颗粒物和油液磨粒,本系统适用于油液磨粒在线监测. 相似文献
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电子束曝光机自动套准系统的研究 总被引:1,自引:1,他引:0
本文描述了用于电子束曝光机的芯片自动套准系统,该系统包括:扫描控制器、图象采集子系统、相关位置计算单元和位置与角度修正子系统。利用该系统,完成一次双标记识别及修正的循环需时11秒;角度最小修正值为0.014度,最终实现的套准精度达到3σ≤0.07μm。 相似文献
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电子束曝光中电子散射模型的优化 总被引:5,自引:1,他引:4
提出了在0.1 keV~30 keV能量范围内进行电子束曝光Monte Carlo模拟的分段散射模型优化方案.在该方案中,对所有的弹性散射均采用精确的Mott弹性散射截面.而对非弹性散射,当能量处于E0≤10 keV,10 keV<E0≤20 keV和E0>20 keV时,分别采用了Jov修正的Bethe公式、通常的Bethe公式和相对论效应修正的Bethe公式来计算总能量损失率;当E0≤20 keV和E0>20 keV时,分别采用了Grvzinskv截面和Moller截面计算离散的能量损失率.发现模拟结果与实验结果很好地吻合,这比采用单一的散射模型和不考虑二次电子的Bethe公式得到的模拟结果更加符合实际的电子散射过程,其精度更高. 相似文献
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介绍了基于扫描电镜的电子束曝光机对准系统的原理,详细分析了此系统的硬件设计、软件设计以及扫描场的校正过程。利用硬件获取扫描图像,并进行实时标记校正,利用软件进行标记位置识别和校正参数计算,满足了曝光机对准系统在性能和精度上的要求。在100μm扫描场下进行拼接曝光实验,达到了77.3 nm(2σ)的拼接精度。 相似文献
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介绍了亚微米电子束曝光机光路与结构设计,该电子光学系统采用透镜内偏转设计,系统象差小,偏转灵敏度高,工件面上电流密度大,通过调试和使用,电子束流、最小电子束斑直径等主要设计指标均达要求。 相似文献
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文章介绍了对准技术,设计出用于电子束缩小投影曝光机的标记对准模拟软件,阐述其数学模型和算法设计,并模拟出标记对准的背散射信号。 相似文献