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1.结构阀门插塞式热浇道系统在喷嘴内装有一套机构。它是由熔料压力开闭浇口,无需定时的热流道喷嘴。其工作原理如图1所示。注射的熔料由A部经过鱼雷梭尾部和头部的外壁到达浇口的前端,对活塞锥体周围加压。当克服内装弹簧的压力时活塞开始后退。退后2mm时,浇口全部打开。注射完毕,活塞前进移动,将残留在浇口部位的熔料挤出,浇口封闭(图2)。 2.特点 (1) 由于鱼雷梭头部和活塞滑动部位间隙的 相似文献
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轴承环和变速箱用的内齿轮等圆筒形零件,淬火时容易变成椭圆,圆筒容易变成锥形。本文说明的插塞式淬火装置用于上述零件的模压淬火,能改善圆度、圆柱度、平面度,从而可免除后续机加工,或大幅度地减少后续机加工工作量。 相似文献
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本文讨论了经齿轮逐齿浸入感应加热淬火处理后的齿轮所具有的性能,并阐述通过操作经验可以克服的一些问题。 相似文献
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3.3 RCT轴承 图8是用作铁路车辆车轴轴承的双列轴承,进行渗碳淬火。中央部分的内径最小,故模具分割成上下两部分。对于渗碳钢轴承,为提高圆度而进行的磨削,将使渗碳层减薄。用插塞式淬火,不仅提高圆度和磨削效率,而且能缩短渗碳时间。特别是RCT轴承的情况下,由于所需渗碳深度深,故缩短处理时间的效果更大。 相似文献
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5 影响淬火变压器匝比N值的因素 如前所述,各种供电条件下淬火变压器匝比N值的确定,主要决定于淬火感应器直径和高度。此外,还有以下各种影响因素。。5.1电网频率降低,N值升高。中频发电机的电动机是三相异步感应电动机,电动机的每分钟转数n正比于电网频率,而中频发电机的频率f=g·n,g为发电机转子齿数(磁极),显然电网频率降低,使中频发电机频率随之降低,于是只有N值升高,才能维持阻抗匹配。5.2 感应器的抗触板长度一般为80~120mm,越长阻抗越大,相当R2增加,也将使N值减小。例如把一根长约1… 相似文献
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分析螺纹插装式溢流阀结构特点和性能要求,确定影响精度的因素为溢流阀的静动态特性、补油开启压力、密封性及基于特定工艺的制造要求。对以上因素逐一分析,得到各因素对内锥面的精度要求。针对采用碳氮共渗后磨削这一特定工艺要求建立模型并分析,得到内锥面自身角度的精度要求。对模型进行应用分析,经反馈调整后得到内锥角精度的优化值。研究表明:影响内锥面设计制造精度的主要因素为密封性及基于特定工艺的制造要求;基于某型溢流阀的结构及设计参数,密封性对内锥面的自身形状精度等级要求为5~6级,即0.001 5~0.002 5 mm,而对内锥面相对配合内孔的跳动量要求为0.012~0.015 mm;对内锥面角度精度要求为±1°,对应的接触圆轴向尺寸公差为0.052~0.186 mm。经试验验证,按设计精度要求所得阀套的静动态特性及使用寿命符合相关要求。 相似文献
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目的提高Co在超大规模集成电路全局化学机械抛光过程中的去除速率及Co/Ti去除选择比,并对去除机理进行详细描述。方法研究不同浓度的磨料、多羟多胺络合剂(FA/OII)、氧化剂等化学成分及不同pH值对钴去除率的影响。利用电化学实验、表面化学元素分析(XPS)揭示钴实现高去除速率的机理,通过原子力显微镜(AFM)对钴抛光前后的表面形貌进行了观察,并采用正交实验法找到抛光液最佳组分配比。结果随磨料浓度的升高,钴去除速率增大。随pH值的升高,钴去除速率降低。随氧化剂浓度的提升,钴去除速率升高,但Co/Ti去除选择比先升后降。随螯合剂浓度的增大,钴去除速率及Co/Ti去除选择比均先升后降。正交试验找到了最佳的抛光液配比及条件(3%磨料+20 mL/L多胺螯合剂(FA/OⅡ)+5 mL/L氧化剂(H_2O_2),pH=8),实现了钴的高去除(~500 nm/min)及较好的Co/Ti去除选择比(100:1)。并且,表面的平坦化效果明显提高,原子力显微镜测试结果显示Co面粗糙度由原本的3.14 nm降低到0.637 nm。结论采用弱碱性抛光液能有效提升钴的去除速率,并保证腐蚀可控。抛光液中同时含有氧化剂和螯合剂时,通过强络合作用实现了钴的抛光速率和Co/Ti去除选择比的大幅度提升。 相似文献
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铸件生产中,开放式造型生产线是一种常用的布线形式。各线之间的铸型转移,多采用电动过渡车及液压油缸来完成。传统的液压控制阀多采用普通二位或者三位等滑阀,其主要特点是体积大,电控换向电流大,管道联接复杂,不易集成,阀芯磨损快,因内泄漏造成的误动作多。系统... 相似文献
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连铸浇铸过程中采用塞棒控流,存在塞棒抖动影响浸入式水口流场的问题。利用水模拟的方法,研究塞棒开启高度、浸入式水口插入结晶器深度对浸入式水口内流场的影响。实验结果表明:塞棒开启高度为5、10 mm时,浸入式水口内流速分布不均匀,受塞棒抖动影响较大;塞棒开启高度为15、20 mm时,浸入式水口内流速分布比较均匀,受塞棒抖动影响较小;浸入式水口插入结晶器深度为100、150 mm时,浸入式水口内流速分布不均匀,受塞棒抖动影响较大;插入深度200、250 mm时,流速分布比较均匀,受塞棒抖动影响较小;塞棒开启高度越高、水口插入结晶器深度越大,水口流速越均匀,受塞棒抖动影响越小。均匀稳定的水口流场有利于减少水口结瘤和塞棒侵蚀。 相似文献
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