PZT超细陶瓷微粒／硬脂酸复合LB膜及超薄膜的制备和性能研究

用胶体化学的方法获得PZT溶胶，利用LB技术制备PZT超细陶瓷微粒／硬脂酸复合LB膜，热处理后得到PZT超薄膜。由π-A曲线确定了具体的拉膜工艺参数和条件，由紫外．可见吸收光谱和AFM照片对复合LB膜和超薄膜进行表征和性能检测。结果表明：超薄膜中PZT超微粒排布较均匀，覆盖度较高；复合膜层均匀，在194nm和256nm处均有较强的吸收峰。     

成膜条件对PZT超微粒/硬脂酸复合LB膜及PZT超薄膜的影响

用胶体化学的方法获得PZT溶胶,利用LB技术制备PZT超细陶瓷微粒/硬脂酸复合LB膜,热处理后得到PZT超薄膜.研究了PZT超微粒/硬脂酸复合LB膜的成膜条件,有效改善复合膜和超薄膜的性能:亚相浓度为0.01 μmol·mL~(-1)可以获得与硬脂酸有效复合的稀溶胶体系,滑障速度为6～8 mm·min-1可以获得紧密的复合单分子体系,转移膜压为30～35 mN·m~(-1)和pH值为7.0可以获得较理想的转移比,提拉速度为5～9 mm·min~(-1)有利于有序多层膜的制备.工艺条件中崩溃压和单分子面积的变化反映了硬脂酸分子和超微粒的有效作用.复合LB膜及PZT 超薄膜的AFM粒径分析结果表明,吸附于硬脂酸上的PZT超微粒子的平均半径为30.508 nm,经过焙烧得到的PZT超微粒子平均半径为30.412 nm.     

磁控溅射法制备PZT基SMA/PZT异质复合材料

采用直流磁控溅射法在PZT基体上溅射沉积NiTiSMA薄膜,而制备出PZT基NiTii SMA/PZT异质复合材料.研究了溅射工艺参数与晶化温度对NiTi SMA薄膜相组成及SMA/PZT异质复合材料膜/基间结合状态的影响规律.结果表明,为保障NiTi SMA薄膜的晶体颗粒均匀、结构致密,膜/基间成分交换范围小及结合紧密,制各NiTi SMA/PZT异质复合材料的适宜工艺为:于基体温度150℃、氩气压强0.7 Pa条件下溅射沉积NiTi SMA薄膜,再经600℃二次晶化处理.显微观察发现,NiTi SMA薄膜与PZT基体之间以化学方式,而非物理方式结合.     

TiAlN/CrAlN纳米结构多层膜的结构与性能

采用射频磁控溅射方法制备了单层TiAlN、CrAlN复合薄膜以及不同调制周期和不同层厚比(lTiAlN/lCrAlN)的TiAlN/CrAlN纳米结构多层膜.薄膜采用X射线衍射仪、扫描电子显微镜、显微硬度仪进行表征.结果表明:TiAlN、CrAlN复合薄膜和TiAlN/CrAlN多层膜均为面心立方结构,呈(111)面择优取向.TiAlN/CrAlN多层膜的择优取向与调制周期和层厚比无关.层厚比为1的TiAlN/CrAlN多层膜的硬度依赖于调制周期,在调制周期为8 nm时,达到最大;固定TiAlN的厚度为4 nm,改变CrAlN层的厚度,在研究范围内,多层膜的硬度随着CrAlN层厚度的增加而增加.探讨了多层膜的致硬机制.TiAlN/CrAlN多层膜抗氧化温度比其组成单层膜高了近200 ℃,并讨论了其抗氧化机制.     

气相沉积铁钇多层膜的磁学性能

研究了气相沉积技术制备的Fe/Y多层膜的磁学性能,试验结果表明,当多层膜中铁层厚度减少到1．4nm时,薄膜由铁磁性转变为超顺磁性;多层膜的饱和磁化强度随铁层厚度的减少和钇层厚度的增加而显著降低。     

铝膜与金膜能够制成形状记忆合金

美国伊利诺大学的研究人员新近用厚度200nm、宽50～60μm、长300～360μm的铝膜（晶粒平均粒径65nm）与晶粒平均粒径为50nm的金膜制备成成功了形状记忆合金薄膜。他们发现,如果晶粒均为而且细小这种金属膜会是脆的,在弯曲时就会折断,如果晶粒均匀并且粗大,这种金属膜就可弯曲,但是将会保留在这种弯曲状态。如欲回复原状,就必须使得薄膜的脆性与延性之间达到一种平衡状态。     

多层膜晶界和膜界间竞比变形及其对硬度测量的影响

使用磁控溅射法制备了不同调制波长的Ni/Al多层膜,利用X射线衍射(XRD)和高分辨电子显微术(HRTEM)对薄膜进行了微结构表征,采用连续刚度法(CSM)研究了不同压入深度下多层膜的硬度.结果表明,随调制波长减小,薄膜呈纳米晶结构特征且存在超硬效应.调制波长L大于30nm时,纳米压入硬度随压入深度的增加而升高;L小于30nm时,最大压入深度的硬度测量值反而最小.同时发现压入深度较小时硬度相对大小对调制波长不敏感.结合微结构表征,从晶界和膜界的竞比变形角度进行了分析讨论.     

用极图和XRD图谱估算PZT薄膜的有效弹性常数

采用金属有机物热分解法(MOD)制备了2种不同膜厚,具有(001)择优的四方相PbZr0.52Ti0.48O3(PZT)铁电薄膜.分别用极图和XRD图谱估算了PZT薄膜的有效弹性常数.在极图分析方法中,高斯分布函数能够较好地描述薄膜中晶粒的分布趋势,用(001)极图可以估算(001)择优PZT薄膜的有效弹性常数.用XRD图谱分析薄膜中(hkl)织构的相对轴密度,并以此近似地作取向的统计平均,可得到PZT薄膜的有效弹性常数.结果表明,用这2种方法估算PZT薄膜有效弹性常数得到的结果比较接近,在相同工艺下不同厚度的PZT薄膜其弹性不同.     

量子点膜用高阻隔膜制备技术研究进展

量子点膜用高阻隔膜产品是量子显示封装技术的关键产品,高阻隔膜的制备技术决定着阻隔膜产品性能特性.通过分析量子点膜用高阻隔膜产品性能指标,总结热蒸发、化学气相沉积、原子层沉积等制备柔性高阻隔薄膜的方法、原理、特点及应用,展望量子点膜用阻隔膜产品的发展前景.研究表明,量子点膜用高阻隔薄膜制备工艺趋向于有机/无机多层结构的超高阻隔复合薄膜,是快速、高效、批量化制备量子点膜用高阻隔封装薄膜的发展趋势.     

金刚石自支撑膜衬底制备AlN薄膜的性能

采用射频磁控反应溅射法在金刚石自支撑膜衬底上沉积了AlN薄膜,XRD结果表明得到了（002）面择优取向的AlN薄膜;AFM的表面形貌结果显示薄膜表面平整,晶粒均匀,表面粗糙度为2.97 nm。XPS分析结果表明,离子剥蚀2.1 nm后Al/N原子百分比接近于1∶1;结合红外透过曲线和纳米力学探针测试,表明AlN薄膜在1500～800 cm-1波段对金刚石膜有约14%的增透作用,其平均硬度为21.5 GPa,平均弹性模量为233.3 GPa。     

一种新型保温薄膜材料—CdIn2O4的研究

研究了射频反应溅射三元化合物CdIn2O4薄膜的电学和光学性质，讨论了反应气体中氧气浓度和热处理对CdIn2O4薄膜红外反射率的影响，实验结果表明，CdIn2O4薄膜在红外区域具有很高的反射率，是一种极好的红外反射膜。用它用为冰箱内保温膜和室内及冷库保温窗玻璃，效果十分明显，是一种极好的保温和节能膜。     

斜切基片上台阶流动生长的YBCO薄膜及BST/YBCO双层薄膜

用脉冲激光沉积法在斜切(001)SrTiO3单晶基片上生长了c轴取向的YBa2Cu3O7-δ超导薄膜,在斜切(001)LaAlO3单晶基片上生长了Ba0.1Sr0.9TiO3/YBa2Cu3O7-δ双层薄膜,并用扫描电镜和透射电镜对薄膜组织进行了表征。结果表明,在1°~3°斜切的SrTiO3基片上生长的YBa2Cu3O7-δ薄膜,呈现台阶流动(stepflow)到三维岛状生长的转变;而6°~15°斜切基片上生长的YBa2Cu3O7-δ薄膜为完全台阶流动生长。在1.2°斜切的LaAlO3基片上原位制备了良好异质外延生长的Ba0.1Sr0.9TiO3/YBa2Cu3O7-δ双层薄膜。在77K,1MHz频率和±30V直流偏压下,测定了其电容-电压特性,确定其介电常数、可调谐性和品质因数分别为1200,60%和133。表明该Ba0.1Sr0.9TiO3薄膜可应用于在液氮温度下工作的可调谐微波器件。     

薄膜弹性性能和膜厚对其弹性模量的影响

基于应变协调理论模型推导出薄膜弹性模量和泊松比表达式,对普通拉伸试验法进行了改进,即采用分区不同膜厚拉伸法分别研究了氧化铝薄膜/铝合金基体系统和氮化钛薄膜/高速钢基体系统上不同厚度薄膜的弹性模量和泊松比.结果表明:该方法可有效地减少薄膜制备、拉伸试验中偶然因素以及基体材料等对所测薄膜弹性性能的影响.通过不同厚度薄膜弹性模量的对比,可知2种体系薄膜的弹性模量随膜厚的增加而提高.分析认为薄膜内应力的状态、大小以及在薄膜厚度方向的重新分配等因素对薄膜弹性模量有很大影响.     

单磁极磁头用Fe-C0膜及Fe-Co/Ni-Cr多层膜的磁性

随着磁盘面记录密度的不断增长,对其磁头的写入磁场也要求越来越高,垂直记录方法是使面记录密度超过100Gb/in2的一种很有希望的方法.这就要求作为记录磁头材料在具有高的饱和磁感(Bs)同时还要具有优异的软磁性,特别是剩磁(Br)要小.     

磁性薄膜

CoZrNb/Fe C多层膜的高频特性〔1〕　日本TDK公司材料研究中心开发出一种用面靶溅射装置在室温下制出的CoZrNb/Fe C多层膜 ,发现从 5 0 0～GHz频率范围有高的磁导率。这种多层膜是由CoZrNb作底层 (厚 2 0mm) ,Fe C作顶层 (厚 5～ 10 0nm) ,重复 4～ 2 0组合而成。是用Co87Zr5Nb8(原子百分比 )和含C的Fe片作靶的面靶溅射装置 (FTS)在室温下制成的。熔石英和具有SiO2 顶层 (10 0nm)的Si(10 0 )片作为基体 ,在溅射前装置抽真空达 6× 10 - 7乇 ,溅射压力 3毫乇 ,Ar气。溅射时基体上加交流 (dc) 5 0V ,外加磁场～ 30Oe ,永磁体是…     

高熵薄膜和成分梯度材料

针对高熵合金薄膜的研究现状,围绕成分设计、制备工艺、相结构、力学性能、高温性能、耐蚀性能等方面进行了讨论。分析了合金薄膜相结构受氮气流率、基底偏压、基底温度等工作参数影响的规律。其力学性能随着C、B、N等小半径非金属原子含量的增加而强化,文中从固溶强化理论角度进行了分析和解释。同时高熵合金薄膜展现出了优异的高温和耐蚀性能,在高温、强酸等极端条件下具有良好的稳定性。此外,高熵材料成分复杂且体系多样化,可通过高通量制备实现多组分材料的平行制备,为高通量筛选提供一个高效平台。针对未来可用于高熵合金高通量制备的几种技术进行了讨论。     

BCN薄膜的结构及性能

采用直流磁控溅射法制备了B-C-N薄膜.通过改变基体偏压,研究其对薄膜的成分、结构和力学性能的影响.X射线光电子谱(XPS)和傅里叶变换红外光谱(FTIR)试验结果表明薄膜中存在着B-C,B-N,C-C和C-N键,说明薄膜中B,C,N 3种元素达到了原子级化合.随基体偏压增大,薄膜无序化程度增强.纳米硬度测试结果表明,随着基体偏压的增,纳米硬度和弹性模量不断增加.     

高技术磁性薄膜及其产品开发

介绍了磁性薄膜的种类、特性、结构和性能。综合研究和评述了开发磁性薄膜的科学和实用意义。就软磁薄膜的品种和应用作了简要评述，从经济观点来看，这类软磁薄膜是颇为引人关注的。     

The Synthesis of Polyaniline in Polyethylene Films with Grafted Sulfonated Polystyrene and Properties of These Films

Protection of Metals and Physical Chemistry of Surfaces - The results of the creation of an electrically conductive layer of polyaniline (PANI) on the surface of a polyethylene (PE) film modified...