镀黑铬

黑铬在仪器仪表的光学系统中,用作防止光的反射和防腐蚀保护层,优于其它的黑色镀层和氧化层(如黑镍、锌发黑、氧化等)。我们经过摸索,成功地使用了黑络镀层,在实际生产中证明效果良好。     

低浓度镀液镀装饰铬

使用50克/升铬酐镀液,能在一个宽广的工作范围内镀出光亮铬,电流密度最低为50毫安/厘米~2。电流密度为200毫安/厘米~2,在1分钟内能获得0.25微米厚的铬镀层。从低浓度溶液里镀出的镀层常带有彩虹色或者     

离子交换法处理废铬镀液

一、问题的提出我厂镀铬零件多,而且批量也较大,而镀铬溶液用了三、四年后,由于铁杂质不断增多,影响产品质量,使铬镀层光泽降低;在镀压模、主轴、阳模等零件时,由于镀层软,达不到质量要求,往往反复多次,从而影响了兄弟车间进度。在这种情况下,过去是不得不把五百多立升的铬酸溶液倒掉,这些废液排入江河,还会污染环境,毒化水质,破坏水产资源,危害农业生产,严重地影响人民健康,我们内心感到非常不安。     

铝及其合金镀装饰铬工艺

介绍了铝及其合金镀装饰铬工艺及其参数 ,结果表明 :采用新型浸锌工艺镀装饰铬 ,具有结合力强、外观漂亮、槽液稳定、适合于批量生产等特点。     

非晶态铬镀液的电化学研究

用Ｎｉ、Ｃｕ，Ｆｅ和玻璃碳电极研究了非晶态铬电镀过程中Ｃｒ（Ⅵ）还原为Ｃｒ（Ⅲ）的电化学特征，发现还原电但与电极材料相关；还原过程钝化膜中的铬离子还为金属铬，为后续的铬电沉积提供晶体生长中心，还原过程受Ｃｒ（Ⅲ）和Ｈ２ＳＯ４扩散控制。溶液中的Ｈ２ＳＯ４能起到溶解钝化膜，平衡阴极扩散层中的电荷、与Ｃｒ（Ⅵ）形成配合物，为Ｃｒ（Ⅵ）的为Ｃｒ（Ⅲ）Ｃｒ提供低能量通道的作用。     

铜及铜合金零件直接镀装饰铬

铜及其合金零件抛光后直接镀装饰铬的操作工艺很简单,但实际操作时又不能轻易地获得满意的结果,不是呈现乳白色铬层就是出现乳白色条纹(或斑点)镀铬层,多次抛光也不亮,原因何在?我们做了多次试验,并获得成功,现简介如下: 一、试验分析镀层出现的问题,我们从三个方面进行了试验: 1.镀前处理开始我们认为镀层出现乳白色铬层是因为镀前     

三价铬镀液中配体的作用

三价铬镀铬液中的配体对镀液的稳定性和沉积速度影响极大,从三价铬镀液的化学和电化学特性分析入手,介绍了镀液中所加配体(如羧酸、羟基羧酸、氨基羧酸及其盐)的作用:(1)与三价铬离子形成活性配位离子加快电沉积速度;(2)抑制Cr3 的羟桥化反应;(3)可以掩蔽杂质金属离子,减少杂质金属离子对镀层质量的干扰,使电镀能持续进行;(4)可以稳定镀液.特别指出,只有选用能形成活性配位离子的配体,使电镀能持续进行,才能获得性能良好的厚铬镀层.     

三价铬镀液中硼酸的测定

研究了用中和滴定法测定三价铬镀液中Ｈ３ＢＯ３浓度的方法。实验表明，镀液中的Ｃｒ＾３＋和ＮＨ＾＋４对测定有严重干扰，可通过碱化方法将它们从镀液中除去。测定时用甘油强化Ｈ３ＢＯ３，以甲酚红做指示剂进行滴定。     

剃须刀片刃口镀复氮化铬硬质薄膜

刀片刃口真空镀膜强化是近年来刀片加工工艺上的重大技术进步。本文就采用三极磁控反应溅射法,对国产不锈钢刀片刃口镀复氮化铬保护膜的工艺原理和方法,镀膜的性能和使用效果等方面进行了研究和试验。结果表明,刃口的平滑度、有效硬度、耐腐蚀性均获得了提高,刀片的耐用度提高了一倍,剃须舒适感亦得到了改善。本工艺生产成本低,经济效益较高。     

电沉积非晶态铬—铁合金镀镀层研究

研究了从三价铬的硫酸盐体系中电沉积Ｃｒ－Ｆｅ合金镀层的工艺以及镀层的形貌、结构和性能。利用该工艺获得了厚度３０μｍ以上、铁含量（２０－３０）％的Ｃｒ－Ｆｅ合金镀层。实验结果表明，该镀层表面结瘤状，含有大量微裂纹，为非晶态结构，具有可热处理性。在６００℃下热处理１ｈ后硬度最高可达１４００ＨＶ以上，因此，可作为经济、耐磨性镀层使用。     

三价铬镀液电沉积装饰性铬-磷合金层的特性

为了进一步提高三价铬镀层的性能,在硫酸盐三价铬镀液中加入次磷酸钠,电沉积出了装饰性铬-磷合金层(磷含量为9%～16%).研究了磷含量对镀液和镀层性能的影响,对比了电沉积铬镀层、三价铬-磷合金镀层和六价铬镀层的耐蚀性能.结果表明:铬-磷合金镀层为非晶态结构,具有良好的外观和耐蚀性能,能够很好地满足防护装饰性要求.     

软盘介质采用蒸镀锗和钴铬工艺

日本日立公司采用基膜上蒸镀厚30毫微米锗层,然后再蒸镀0.2～0.3微米的钴铬层技术。与直接在薄膜上涂钴铬层相比,钴铬晶体方向性更为优良。从垂直磁记录软盘的记录密度特性看,D_(50)有大幅度提高。在磁盘上采用溅射工艺,在高导磁率钴锆钼非晶态合金液上,     

喷砂硬度机示值误差的不确定评定

本文主要通过对磨具标准硬度块的测量,完成对喷砂硬度计示值误差的不确定度评定。     

铜镍铬镀层的环保型挂具电解退镀工艺

为进一步提高铜镍铬镀层退挂液性能,优选了用于剥离铜镍铬镀层的挂具电解退镀剂主要成分的浓度,在此基础上对促进剂用量和缓蚀剂种类及用量进行了优选,最终确定退镀液的最佳配方:硝酸钠20 g/L,醋酸铵18 g/L,三乙醇胺9 g/L,促进剂TG-1 1.2 g/L,缓蚀剂TG-2 7.2 g/L。以最佳配方制成挂具电解退镀剂产品DW-2,与行业内使用较广的同类产品相比,DW-2具有较快的退挂速度和较小的基体腐蚀率,并且操作简单、易处理,安全环保无污染。     

铬-纳米金刚石复合镀影响因素的研究

在对市售纳米金刚石进行适当的机械化学改性、分散及分级,制得粒度分布在150nm 以内、浓度可调、分散稳定、不含污染镀液成分的复合镀用纳米金刚石悬浮液的基础上,研究了工艺条件、纳米金刚石粒度和表面状态、镀液中添加表面活性剂对铬-纳米金刚石复合镀镀层性能的影响。结果表明,常规硬铬电镀工艺同样适合于铬-纳米金刚石复合镀;纳米金刚石团聚体解聚、粒度分布均匀和在镀液中稳定分散是得到高性能镀层的前提条件;颗粒能否在阴极粘附足够长的时间形成强吸附是颗粒沉积的关键,标准镀液中加入纳米金刚石镀层显微硬度反而降低,添加表面活性剂镀液中的复合镀层晶粒明显细化、显微硬度提高可达35%。