JK—1型半自动接近式光刻机对准显微镜的光学系统

光刻机上的对准显微镜是用来测掩模版和硅片对准的目视工具。分裂视场的对准显微镜则要求同时对准掩模版及硅片上相距较远的两个靶标,这就要求有两个显微镜对准两个靶标,两个靶标经两个物镜成象后合在一个象平面上,再用目镜观察。为了提高对     

JK—1型半自动接近式光刻机控制电路的研制

本光刻机为接近、接触两用,工作过程中,除硅片与掩模精对准为手动外。其余全部为自动循环进行,动作比较复杂,自动化程度比较高,因此,要有一套比较完善的自     

JK—1型半自动接近式光刻机照明系统的研制

前言采用接触式光刻机制作集成电路,这种光刻机的优点是装置简单,精度高;缺点是光照度均匀性差,硅片和掩模压紧曝光,二者容易划伤和压坏,使成品率低。后来开始     

JK—1型半自动接近式光刻机工艺试验报告

一、前言 JK-1型接近、接触两用半自动光刻机,是光电所同志们三年来积极努力、辛勤劳动的结晶,是一项重大研究成果。为了对机器性能做初步了解和判断。80年10月份,我所派出两位同志在光电所进行了为期两个多月的光刻机性能指标初步工艺试验。并于     

JK—1型半自动接近式光刻机分裂视场显微镜的研制

在光刻工作中,用光刻显微镜将掩模上和硅片上的相应图形互相对准是关键工作之一。在人工对准的半自动光刻中,对准所花时间占整个光刻周期相当大的比例,工人劳动强度也较大。显微镜的质量不但影响产品质量,也关系到长期使用显微镜的工人身体     

JK—1型半自动接近式光刻机总检结果

一、曝光系统技术指标:在曝光位置时,曝光系统光轴对掩模表面不垂直度允差<10‘一一一一一一一一一一一~一一一~.店.~~月~一~~~~一 检测结果第一台第二台横向不垂直度纵向不垂直度一8。9,5,备注:曝光系统光轴以汞灯所成91个象中心象亮班之中心为基准二、显微镜系统1.分辨率技术指标:名义倍率256火及ZO6x时,分辨率全500对线/毫米 名义倍率138又及1 65x时,分辨率全350对线/毫米检测结果第一台第二256x及206x时165x及138x时666对线/毫米454对线/毫米621对线/毫米454对线/毫米 2.两目镜出射光轴的不平行性: 技术指标:水平方向:发散允许<40尹 会…     

JK-1型半自动接近式光刻机研制报告

目录前言一、研制技术要求二、整机概况三、主要部分技术性能 (一) 曝光系统 1.多点尤源照明系统 2.照明均匀性     

JK—1型半自动接近式光刻机显微物镜的高精度对心

本文介绍了JK—1半自动接近接触式光刻机显微物镜的结构,以及对该显微物镜高精度对心的方法,装置、精度分析和实测结果。实测结果表明,这种对心方法能满足显微物镜的高分辩率,象质好的要求,并已达到理论设计水平。此种高精度对心方法同样能适应大数值孔径,高分辨率,更高精度显微物镜的装配和校正。     

JK—1型半自动接近式光刻机恒光强调节系统的研究

随着集成电路科学研究和生产的不断发展,光刻线条越来越细。成品率要求越来越高,由此对光刻机曝光系统的光强均匀性和曝光量的稳定性也提出了新的要求。在应用品振定时器时,曝光量的稳定性     

JK-1型半自动接近式光刻机院级鉴定意见

JK-1型半自动接近、接触式φ50光刻机,经过半年时间(1000余小时)的工艺试验及鉴定小组的检测,表明该机主要性能指标全部达到原设计要求。其中光源均匀性,恒光强控制系统稳定性等指标还优于原设计要求。是国内技术上先进,某些方面具有独到之处,有实用     

JK—1型接近式光刻机曝光系统照度均匀性的测定

在接近式光刻机的曝光系统中,关心两项指标:1、是在掩膜和硅片脱离接触规定的间隙下,能否平滑衍射效应的影响;2、能否具有高均匀的照明场。本工作是针对第二项指标进行的。     

接近式光刻机复眼透镜照明系统的研究

本文从物理光学的衍射理论出发,对照明系统如何消除衍射效应进行了理论分析,找出消除衍射效应和高均匀照明场的光学系统结构参数,这个分析已得到了原理实验和工艺模拟实验的证实。这对接近式光刻机复眼透镜照明系统的设计是非常有益的。     

FG—1型脱模剂的研制

目前,我国的复合材料正沿着实用化的方向迅速发展,因而对适用于高温成型的脱模剂的需求也愈来愈大。这类脱模剂以前多为有机硅类或含氟树脂,它们都有着许多严重的缺点。含氟类脱模剂一般呈悬浮液状使用。由于其稳定性差,使用时需经常摇匀;又由于它的颗粒结构(虽经热融处理)在模具表面不易形成连续的覆盖均匀的膜层,故脱模效果较差。加之含氟类脱模剂易于堆积且污染模具型面,温度过高还会分解产生有毒气体,故实际很少应用。有机硅类脱     

ZY—1型半自动炮孔装药机的试验研究

本文介绍了一种新型的半自动炮孔装药机,它以压缩空气为动力,可将药卷及炮泥吹入炮孔,一次完成炮孔装药过程。该机具有结构简单、操作方便、生产效率高等特点,而且能防静电,安全性能好。     

JC—1型精密测角仪的研制

本文介绍了一种高精度、积木式、多功能的能进行动态测量的精密测角仪,动态测角不确定度小于0.19角秒;该机能测角、测光栅、测量光学材料折射率等,测折射率能自动寻找最小偏向角自动测样品顶角,并打印测量结果。     

HM—1型珩磨油的研制

研制国产材料以替代进口材料,是一项有意义的工作。本文叙述了研制HM-1型珩磨油替代英国进口的No5B油的全过程,以及国产油与进口油相比所具有的优势性。     

JK—10型耐电压测试仪综合校验仪

许多检定员都有这样的经历 :在用机械秒表测耐电压测试仪时间控制器的时候 ,人的反应动作误差造成测量结果不准确 ,而且测出的是按下启动按钮至切断高压后声光报警之间的时间间隔 ,不是真实的高压驻留时间。这是由耐电压测试仪继电器动作时间及计时控制器设计原理决定的。要测出真实的高压驻留时间 ,必须从耐电压测试仪的输出端引出电压进行测量。下面介绍一种既经济又比较准确的测量方法。电路图如图１:图１按规程建议 ,在工频５００Ｖ状态下测量。合理选择Ｒ２Ｒ１Ｃ１ 使Ｃ１ 两端很小电压（本设计是４．５Ｖ）光耦就导通 ,ＲＣ电路对正…     

BDL-1型恒温式热线流速计的研制

本文介绍BDL-1型恒温热线流速计,导出了流速计的输出电压V对于流速U与试验电压E(t)的动态响应方程;讨论了流速计对于流速的动态响应品质的实验评定方法。     

TT—1型磷化氢解毒装置的研制

介绍了新型工业用磷化氢尾气解毒装置TP—1型磷化氢解毒装置的流程,结构及模拟工业条件进行的脱磷深度和脱磷容量实验。结果表明,该装置脱磷深度可达0.03ppm,穿透脱磷容量为88克/公斤。该装置脱磷深度高,结构简单,操作方便,体积小,重量轻,能耗低,可用于半导体等行业含磷化氢的尾气处理,也可用于钢瓶中残存磷化氢气体的处理等领域。