场发射俄歇电子能谱显微分析

场发射俄歇电子能谱的显微分析是一项新的分析技术,可对微尺度样品进行点、线、面的元素组分及元素化学态分析。本文简要介绍这项新技术的功能原理和在微电子器件检测等方面的具体应用。     

镀膜玻璃层结构及成分的俄歇电子能谱分析

利用俄歇电子能谱仪测试了一种镀膜玻璃的表面层成分,并利用深度剖析的方法测试分析了其镀膜层的结构,估算了镀膜层的厚度。     

X射线诱导俄歇电子能谱(XAES)的应用

简要介绍X射线诱导俄歇电子能谱(XAES)用于化学分析的一般性理论。XAES可与X射线光电子能谱(XPS)一起用于元素化学态分析。但是XAES分析有其优势,(1)俄歇参数与荷电位移无关,结果无需荷电校准就可用于价态分析;(2)在一些涉及过渡元素和重元素物质的价态分析时,XAES峰化学位移大于XPS峰;(3)对于分析一些轻元素(如K、Mg、Al等),XAES峰比某些XPS峰有更高的灵敏度。因而,XAES可弥补XPS分析的某些不足,可方便、有效地表征元素价态。通过实例,介绍XAES在这3个方面的实际应用。     

表面分析仪器及其技术进展之三：表面分析：XPS和AES

本述评综合了1997年10月到1999年10月期间国际上在表面分析领域的发展情况,着重强调这些技术在目前发展水平方面改进的思路和新趋势。本文将有助于分析工作者解决在使用XPS和AES时所遇到的问题。     

表面分析仪器及其技术进展（一）——表面表征

本述评综合了1997年1月到1998年10月期间国际上在表面表征领域的发展情况,着重强调了在下述领域的进展：各种探针技术系列：包括XPS和AES在内的电子能谱学：表面光学和X-射线技术等。     

俄歇电子能谱仪在材料分析中的应用

俄歇电子能谱仪（AES）是建立在电子技术、弱信号检测技术和超高真空技术基础上的一种研究材料表面组成元素的新型分析仪器。本文介绍了俄歇电子能谱技术的基本原理、技术发展和样品制备技术,重点介绍了俄歇电子能谱仪在材料分析（失效分析、表面分析、微区分析等）方面的应用。俄歇电子能谱仪在材料表面性质研究方面,有着不可替代的作用。     

表面分析仪器和技术进展：四.扫描探计显微术（SPM）（下）

本文主要介绍近年来ＳＰＭ技术系列具有方向的研究的进展,评述了ＳＰＭ技术进展,针尖和悬臂,校正和计量学,力的测量和物理性质,化学鉴别和变温等,此外,还评述了新的探针技术,摩擦力,扫描热,磁共振力,磁力,光扫描隧道,近场扫描光学,扫描电容,弹道式电子发射,扫描电化学以及春它探针显微镜等,最后评述了诸多应用领域,如：电化学扫描探针显微学,烷烃硫醇;Ｌ－Ｂ膜,生物学,核酸,蛋白质,细胞,类脂体,生命医学,     

表面分析仪器及其技术进展（二）——扫描探针显微学

本述评综合了1997年10月至1999年12月国际上在扫描探针显微学领域的发展情况,着重强调了目前流行的,用扫描探针显微学研究的最重要的一些途径。     

表面结构（粗糙度,波纹度,形状）测试技术研究

表面结构与机械零件的使用性能和加工成本关系极为密切 ,它对加工中的任何变化(刀具磨损 ,加工条件 ,材料性能……等 )也非常敏感 ,是控制加工过程的一种手段。因此 ,对表面结构的了解和研究 ,在工程技术领域中日益受到广泛的重视。如何把各种表面特性定量化 ?需要重点探讨以下几个问题。1　何为表面结构到目前为止 ,我们只是相当含糊地把表面结构同粗糙度和光滑度等同起来 ,而这种表达是不充分的。下面我们来探讨表面结构这一术语指的是什么。假定有一个 1 50 mm长的理想光滑表面[图 1 a) ]。如果在表面的中间有一个 1 5μm深的谷 ,而其他…