光学另件加工中全息检验

光学另件的胶结方法和工具热变形影响是超高精度光学另件加工过程中的两个重要问题,本人用全息技术对它们进行了研究。结果证明在车间已建立的传统方法是合理的。     

理想磨损与不均匀磨削

本文探讨了理想磨损与不均匀磨削的概念,并根据公式推导结果,论证光学另件在整个光学冷加工过程中根本不存在均匀磨削这个概念。     

Al、Sn掺杂对于ZnO薄膜微结构及光学特性的影响

采用真空电子束蒸发金属薄膜及后续热氧化技术在石英衬底上分别制备出了ZnO、Al∶ZnO以及Sn∶ZnO薄膜。通过X射线衍射仪(XRD),紫外-可见分光光度计和原子力显微镜(AFM)等分析仪器对比研究了Al、Sn掺杂对ZnO薄膜结晶质量、光学性质及表面形貌的影响。测试结果表明,Al、Sn掺杂可以使薄膜结晶质量得到提高,薄膜应力部分释放,薄膜表面的粗糙度也相应增加,掺杂对薄膜光学带隙的影响在一定程度取决于金属薄膜的氧化程度,氧化充分可以使光学带隙变宽,反之则变窄。     

薄膜物理与应用国际会议(91TFPA)

<正> 由中国物理学会和上海市物理学会联合举办的“薄膜物理与应用”国际会议定于1991年4月15—17日在上海市天马大酒店举办。会议将就薄膜物理、薄膜材料、薄膜制造与测试以及在光学、光电子学、微电子学、超导、磁学、表面工程等方面应用进行学术交     

有机电致发光薄膜器件的研究

有机电致发光薄膜具有制备方便,驱动电压低,发光亮度高,可以与聚合物基底匹配等优点,成为目前世界显示技术的一大研究热点。论述了有机发光薄膜器件的结构、工作机理及其薄膜电致,光致发光的特性,论述了薄膜发光器件的电学特性与光学特性及其器件在脉冲电压波形驱动下的电光特性,提出了应用于显示技术的有机电致发光薄膜器件的电学于光学特性的优化方法。     

基于自适应模拟退火算法的薄膜特性参数计算方法研究

提出了根据测量得到的待测薄膜的透射率数据,采用全局优化算法—自适应模拟退火算法结合共轭梯度算法求解薄膜的光学特性参数。并对T a2O5单层薄膜的厚度及折射率进行测量计算。实验结果表明,计算得到的光学特性参数值与实测结果相一致,厚度误差小于3nm,在540nm处折射率误差小于0.02。该方法具有操作简单、无损测量、计算速度快、精度高等优点,具有相当的实用性。     

搀杂二氧化钒薄膜研究进展

掺杂能明显改变二氧化钒(VO2)薄膜的相变温度,提高薄膜的电阻温度系数(T<,CR>).研究表明,W、Mo等大尺寸原子掺杂可以降低相变温度,相反Al、P小尺寸原子掺杂则使相变温度升高.综述掺杂改性的一般方法,各种不同掺杂元素对VO2薄膜相变、电学性能和光学性能的影响,介绍掺杂VO2的最新研究进展,并为扩大其应用领域探讨今后的研究方向.     

类金刚石薄膜的光学性能的研究

利用脉冲真空电弧镀的方法,在硅基底上沉积类金刚石薄膜,研究薄膜的光学性能、光学常数和离子能量关系。结果表明:不同的离子能量可以得到不同折射率的薄膜,无氢类金刚石薄膜的折射率在2.5～2.7之间变化;通过改变工艺条件来制备不同折射率的薄膜,和不同折射率的基底材料相互匹配;折射率和光学能隙随离子能量具有相反的变化趋势,和理论预测的趋势相一致;对于硅、锗等红外材料,要求的薄膜应具有1.8～2.1左右的折射率,因此提出一种基于物理汽相沉积和化学汽相沉积两种相互结合的方法,来降低薄膜的折射率,以达到和硅、锗等材料的折射率匹配。     

电铸高精度金刚石-金属复合薄膜切割工具

通过对电铸高精度金刚石—金属复合薄膜切割工具的制备方法介绍,分析了金刚石—金属复合薄膜的研究现状、研究方向及其在电子信息领域中的应用前景及市场潜力。     

科列索夫车刀加工的精确度与光洁度问题

纵车外圆时,切削抗力使另件发生弯曲,並使加工表面得不到正确的圆柱形。另件因其挠度而引起的直径变化,主要决定于径向切削抗力P_y的大小。当切削量t=1.5至4公厘,s=1至4公厘/转时,产生的切削抗力很大,另件的挠度也很大。对于加工长度大、直径小的另件时,另件的挠度尤其显著。 [图一]所载的是挠度计算图。工件装在顶针上加工时,可以利用计算图来决定另件挠度的大小,它在实用上具有足够的准确性。另件用不同的方法装夾在机床上时,挠度的计算公式见[表一]。根据加工材料的性质,取低碳钢的弹性系数     

日本开发出新的光学记录材料

日本东京大学工学院新近开发出一种利用光致变色现象的新光学记录材料——三氧化钼,预计它可以用于作为一种能重新写的高强度光学记录材料。在试验中,用新材料在玻璃板上形成1μm厚,1cm~2的透明薄膜。这个薄膜在水中是不稳定的,但遇到电流并     

法国薄膜研究中心概况

本文作者介绍了法国一个高水平的光学实验室——法国薄膜研究中心的概况及近年来该实验室的研究方向和主要研究成果。     

十二工位半自动高频淬火机床及应用

一、概况高频感应加热表面淬火在机械行业中已普遍应用。高频设备是利用电磁感应原理和高频交流电的趋肤效应加热工件表面。这种加热的特点是在极短时间內(一般几秒钟)将另件表而加热达到淬火温度。淬火后使另件莸得细针状马氏体组织、高的硬度和小的变形。但目前大部分机械厂中配用淬火机床都是单件装夹,辅助时间长,这样虽有高效率的感应加热设备,但无高效能的配套淬火机床,生产效率同样受到限制。我厂在1965年设计了一台十二工位半自动淬火机床可与GP—60,GP—100等高频设备配套使用,适合于中小形另件连续     

退火温度对二氧化钛薄膜的性能影响

为了获得性能优良的二氧化钛薄膜,采用电子束蒸发沉积方法制备二氧化钛薄膜,并分别在300、600、900℃空气中对样品进行退火处理以改善所制备二氧化钛薄膜的性能。分别采用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)以及分光光度计研究了退火温度对二氧化钛薄膜结构和光学性能的影响。结果表明,退火处理可以使二氧化钛薄膜由非晶态薄膜转换为金红石型薄膜,且金红石晶型成分随退火温度的加大而增大,同时退火处理可以改善二氧化钛薄膜在300~1 200nm光谱范围的总吸光率以及增大二氧化钛薄膜的应用范围。     

超薄铝膜的制备与透光率的研究

当铝(Al)膜的厚度在100nm时,可以作为一种光学薄膜使用.用这种超薄铝膜制成光学元件具有耐激光以及损耗小等特点,在大功率激光系统中将得到应用.利用高纯铝靶,运用直流磁控溅射法制备了超薄铝膜,利用双光束分光光度计研究了其光学性质,测试了超薄铝膜的制备条件,如工作压强、靶基距、溅射时间等对薄膜的光学性质的影响.得到了工作压强、靶基距及溅射功率与薄膜的光学性质之间的关系.     

空间相机重复展收机构薄膜防护罩设计及分析

空间光学相机是高精度系统,其主镜由重复伸展机构支撑到位并实现系统成像.为了提高空间光学相机可重复展收机构的精度,基于Miura折纸原理提出薄膜防护罩折叠方法并进行了参数分析.采用NX/SST仿真软件分析了伸展机构有无防护罩包覆的温度场,研究了主镜安装面在不同温度梯度下的变形规律,利用伸展机构防护罩样机进行了伸展机构可重复展收实验.结果表明本文设计的可重复折展薄膜防护罩的展开角θA=120°时,结构已完成接近85％的展开,此时模型形状依然规整,验证了防护罩的随动重复展收功能.通过热分析发现,有防护罩时伸展机构最高温度为12℃,最低温度为3.5℃,与无防护罩相比,最高温度降低了22℃,最低温度提高了51.5℃,防护罩有效降低了伸展机构的温度梯度.实验结果表明,伸展机构在进行了10次重复展开试验后,在X方向重复精度平均值的绝对值为0.00216 mm,Y方向为0.00596 mm,Z方向为0.00348 mm.本文设计的伸展机构具有较高的重复展收精度,基于折纸原理设计的薄膜防护罩具有良好的可重复展收、遮光和热控效果,可以有效保证光学相机在空间环境的应用.     

脉冲激光光声微量量热法研究薄膜激发态的非辐射衰减

利用自己设计的光声信号系统研究了薄膜激发态的非辐射衰减。在同样的实验条件下,通过比较样品和标准物质光声信号的积分面积,即可测得团体薄膜非辐射衰减的量子产率。测量时,只需要旋转样品及标准物质在光路上的方向,不需要将膜从传感器上揭下来。此装置可用来研究光学透明薄膜或厚膜。     

热致变色和光致变色光学薄膜的溶胶—凝胶法制备和性质

用溶胶—凝胶法制备了掺铜离子的二氧化钒热致变色薄膜,其光学性质随温度发生明显的滞徊变化。铜离子使薄膜的相转变温度降低,拓宽了应用范围。用溶胶—凝胶法将螺哦嗪染料引入有机改性陶瓷中,配以适当添加剂制成光致变色薄膜,其光幅照稳定性分别比染料溶液和不含添加剂的薄膜提高５０ 倍和１０ 倍以上,为实用化开辟了广阔的前景     

溶胶—凝胶法在塑料光学元件上的应用

溶胶—凝胶法是制备薄膜的一种独特的方法。它特别适宜于塑料光学元件。给出了制备的方法以及工艺要点。     

薄膜厚度和光学常数的主要测试方法

准确地测量和控制薄膜厚度和光学常数等参数,在薄膜制备和分析和应用都是极为重要的。对薄膜的厚度和光学常数测试方法作了归纳和分类,并对几种主要的测试方法作了简要的介绍,分析了各自的特点及存在的问题。在测量薄膜的厚度和光学常数时,必须根据待测样品和测量精度要求选择合适的方法。