氦离子注入掺铈铌酸锶钡晶体平面光波导和它的光折变性质

室温下用2.8MeV氦离子注入在掺铈铌酸锶钡晶体上形成了平面光波导。用棱镜耦合法观察到了波导的暗模。计算的折射率分布表明在离子注入产生的损伤层中晶体的折射率减小，其中正常折射率减小约3．42％，反常折射率减小为2．55％。由PIPR方法拟合的波导中的折射率分布与TRIM’96给出的注入离子的密度分布基本一致。两波耦合实验表明离子注入可以延长折射率光栅的擦除时间。     

退火对离子注入铌酸锂平面波导中折射率分布的影响

研究了不同退火条件对氢离子和氦离子注入铌酸锂平面波导中折射率分布的影响。在不同时间和温度下退火处理后用棱镜耦合法测量了两种波导的暗模 ,并给出退火处理前后两种波导的折射率分布。实验结果表明两种离子的注入均造成了损伤层中正常折射率的减小 ,而反常折射率在波导区却有所增加。退火处理对损伤层中的正常折射率分布影响较明显 ,而在 4 0 0℃以下反常折射率几乎不受退火处理的影响     

He~＋离子注入LiNbO_3晶体波导的制备及其性能研究

本文报导了液氮温度下Ｈｅ＋离子注入ＬｉＮｂＯ３波导的制备，采用棱镜耦合法测量了波导退火前后各导模的有效折射率，计算了波导层折射率的分布和晶体中Ｈｅ＋离子的射程分布和损伤分布，二者吻合得较好。     

He^＋离子注入LiNbO3晶体波导的制备及其性能研究

本文报导了液氮温度下Ｈｅ＾＋离子注入ＬｉＮｂＯ３波导的制备，采用棱镜耦合法测量了波导退火前后各导模的有效折射率，计算了波导层折射率的分布和晶体中Ｈｅ＾＋离子的射射程分布和损伤分布，二者吻合得较好。     

He~＋离子注入KTiOPO_4晶体波导的制备及其性能研究

报道了液氮温度Ｈｅ＋离子不同的注入能量和剂量条件下ＫＴｉＯＰＯ４晶体波导的制备，利用Ｍ线光谱法测量了退火后波导各导模的有效折射率，计算了波导层折射率的分布和晶体中离子的射程分布与损伤分布，二者吻合得较好。     

中红外4 μm波长下MgF2晶体脊形光波导的制备及特性研究（特邀）

为了研究离子与中红外晶体相互作用的机理,探索中红外晶体光波导的制备和性能,采用离子辐照技术结合精密金刚石刀切割,在MgF₂晶体材料中制备了深度17.5 μm、宽度14 μm的脊形光波导。采用SRIM软件模拟了C5+离子辐照MgF₂晶体的电子能量损伤和核能量损伤的过程,分析了波导的形成机理;模拟了波导的折射率变化,并对波导的近场模式进行了实验测量和理论模拟;采用热退火处理来降低波导的传输损耗,将传输损耗降低为0.4 dB/cm;微拉曼光谱证明离子辐照过程并未对MgF₂晶体波导区造成较大的晶格损伤。该工作表明,离子辐照技术结合划片机精密切割是一种十分成熟的脊形波导制备手段,制备的MgF₂晶体脊形光波导在中红外集成光学和光通讯领域具有广泛的应用前景。     

LiNbO3质子交换光波导退火特性的研究

本文报道ＬｉＮｂＯ３质子交换波导的退火特性。用ＩＷＫＢ法计算了热退火前后的折射率分布，并采用广义高斯函数对计算出的折射率分布曲线进行了拟合，反映出该函数能准确而灵活地描述退火质子交换光波导的折射率分布及其变化。在实验中发现，高温下较长时间退火，导模消失。     

锂离子注入石英玻璃光波导

本文报道我们用锂离子注入方法在熔融石英玻璃衬底上制备的低损耗单模光波导的实验结果.注入离子的能量和剂量分别是130KeV和1×10~(15)离子/cm~2。用抛物线分布,由模有效折射率确定了离子注入波导的参数.锂离子注入石英玻璃光波导的最大折     

Ni+注入BiB3O6晶体光波导的折射率分布

在室温下,采用BiB3O6晶体,切向沿着(111)晶面方向制成大小为6 mm×8 mm×1.5 mm晶体样品。首次采用能量3.0 MeV、剂量为1×1014ions/cm2的Ni 注入到BiB3O6样品的抛光面,形成平面光波导。注入过程中,样品表面法线方向与入射离子束方向成7°角。采用的氦氖激光器的工作波长为632.8 nm,用棱镜耦合法观察波导的暗模特性,测量每个导模的有效折射率。     

晶体材料KTP和LiTaO3的光波导特性

通过离子注入法在晶体材料KTP和LiPaO3中形成了平面光波导,根据实验数据计算出了其折射率分布曲线,并对波导特性进行了分析。