稀土Go对Ni-Fe合金性能的影响

通过正交试验方法,以沉积速率和镀层外观为指标,探讨了电流密度、电沉积时间、镀液中稀土含量、镀液温度4个因素对沉积速度的影响规律,初步确定合金镀层的最佳制备工艺条件为:J=5A/dm2、t=50min、θ=50～60℃、p(CeCl3)=0.3 g/L.利用扫描电镜,塔菲尔曲线等手段测试了镀层的形貌、耐蚀性和抗氧化性.结果表明,在添加CeCl3条件下沉积获得的Ni-Fe合金镀层的抗高温氧化性和耐蚀性能均比没有添加CeCl3的好,表明Ce(Ⅲ)起到改善电沉积效果的作用.     

稀土Ce^3＋对复合刷镀Ni—P合金结构的影响

论述了Ni—P—Ce复合刷镀工艺，研究了稀土Ce^3＋对Ni—P复合刷镀层结构及工艺的影响。结果表明：阴极过电位越大，临界晶核半径就越小，临界形核功（结晶阻力）也越小，形核率就越大，越容易形成晶核，长成晶态沉积层，形成的晶核数目愈多，沉积层就愈细致。稀土元素Ce^3＋加入，提高了电刷镀Ni—P—Ce合金镀液析出电位和阴极过电位，促进了Ni基合金的还原析出，提高了形核率，细化了沉积层，在较高的磷含量条件下，得到了微晶结构镀层。     

水溶液中电沉积Ni-Ce-P合金

通过选择合适的络合剂、电极材料和共沉积元素,成功地从水溶液中电沉积出了Ni Ce P合金。研究了镀液中含磷化合物分别为NaH2PO2与H3PO3时镀层的形貌,并对镀层中Ce含量进行了分析。结果表明,镀液中含磷化合物为H3PO3时得到的镀层较均匀且Ce含量更高,而且当镀液中CeCl3·7H2O浓度低于1 5g/L、H3PO3浓度低于4g/L以及NiCl2·H2O浓度低于8g/L时,得到的镀层中没有Ce元素。     

稀土La对Ni-Fe合金镀层性能的影响

研究了La(NO_3)_3对Ni-Fe-La合金镀层的耐蚀性、高温抗氧化性、硬度、微观形貌和成分的影响。结果表明:随着La(NO_3)_3的质量浓度的增加,Ni-Fe-La合金镀层的耐蚀性、高温抗氧化性、硬度均得到明显提升,并且在La(NO_3)_3的质量浓度为0.4g/L时达到最优;Ni-Fe-La合金镀层结晶细致、结构紧密,其中含稀土La。     

电沉积Ni-Fe合金工艺及镀层耐蚀性的研究

采用电沉积的方法制备了Ni-Fe合金镀层,对其微观形貌和结构进行了表征,并采用电化学方法研究了所制备的Ni-Fe合金镀层在不同介质中的腐蚀行为。结果表明:在5%硫酸溶液以及3.5%氯化钠溶液中,w(Fe)为19.23%的Ni-Fe合金镀层耐蚀性最好,在5%氢氧化钠溶液中w(Fe)为28.16%的Ni-Fe合金镀层的耐蚀性最佳。     

Ni—P合金电镀及其析氢电催化性能研究

本文研究以钛和铁为基体的Ni—P合金电催化阴极的制备及合金镀层的工艺条件、电沉积机理、镀层的结构、性能的研究。得出电沉积Ni—P合金在沉积速度、镀液维护、镀层结合力强、耐腐蚀性强、耐磨性能等许多方面与化学镀Ni—P合金工艺相比具有明显的优越性。     

电沉积Ni—19P／Ni合金镀层性能的研究

本文对电沉积Ni-19P/Ni合金镀层的结构、硬度、结合力、孔隙度和电化学性能进行了初步的研究。结果表明,Ni-19P/Ni合金镀层具有高耐蚀、高活性及耐磨的特点,是一种有实用价值的新型非晶材料。     

Ni-Fe合金电镀的研究进展

回顾了Ni-Fe合金电镀的发展进程。总结了Ni-Fe合金电镀工艺的优点。介绍了其镀液类型、各种电沉积方法的特点、常用体系(柠檬酸体系、BNF体系、Nylon工艺、葡萄糖体系和抗坏血酸体系)的实用工艺配方。综述了Ni-Fe合金电沉积机理、晶体结构及其电沉积影响因素的研究现状,指出了今后的发展方向。     

Ni-Co-P非晶态合金的电沉积及其性能研究

电沉积Ni-Co合金不能形成非晶态结构，引入P元素后，镀层结构可变为非晶态．Ni-Co-P合金镀层中P质量百分比含量低于5％时为晶态结构；在5％～19%范围内为非晶态结构；高于19％时为金属间化合物（晶态）的结构．非晶态Ni-Co-P合金硬度高，耐磨性好，且有优良的耐蚀性能．     

电流密度对纳米晶Ni-Fe合金镀层性能的影响

采用直流电沉积技术在黄铜基体上制备出纳米晶Ni-Fe合金镀层。研究了电流密度对合金镀层的表面形貌、成分、相结构、硬度和耐蚀性的影响。结果表明:当电流密度为3A/dm2时,镀层的硬度较高,为6 000MPa;电流密度为5A/dm2时,所制得的合金镀层的耐蚀性最好,自腐蚀电流密度约为0.140μA/cm2,膜电阻约为166 900Ω。     

Nd(NO_3)_3对Ni-Fe合金镀液及镀层性能的影响

研究了Nd(NO_3)_3对Ni-Fe合金镀液的阴极极化及Ni-Fe合金镀层的耐蚀性、硬度、高温抗氧化性和表面形貌的影响。结果表明:Nd(NO_3)_3可以增大Ni-Fe合金镀液的阴极极化,改善Ni-Fe合金镀层的结构,提高Ni-Fe合金镀层的耐蚀性、硬度和高温抗氧化性。     

电沉积Ni-Fe合金工艺试验

采用电沉积方法制备镍-铁合金镀层,利用扫描电镜观察了合金镀层的表面形貌,采用显微硬度计测定了镀层的显微硬度,电化学测试仪LK98BⅡ测定了合金镀层在3.5% NaCl和5%H2SO4溶液中的极化曲线.结果表明,在Jκ为4～6 A/dm2时得到的镀层显微硬度最大,且合金镀层具有很好的耐腐蚀性能.     

磁头晶片功能性镍-铁合金电镀工艺

研制出一种可用于电脑硬盘磁头晶片功能性镍-铁合金的电镀工艺。介绍了其工艺流程,对主盐、添加剂、镀液温度、pH、电流密度、搅拌、合金成分等因素进行了筛选,并对所得镍-铁合金镀层的磁学性能进行了测试。结果表明,此镀层性能达到了磁头质量要求。该镍-铁合金电镀工艺已成功应用于电脑硬盘磁头晶片保护层加工中。     

糖精对脉冲电镀纳米晶镍-铁合金镀层耐蚀性的影响

在不含糖精和含有1g/L糖精的镀液中,采用脉冲电镀法在黄铜基体上分别制备出纳米晶镍-铁合金镀层。采用SEM,EDS,XRD和电化学工作站对镀层的表面形貌、名义成分、结构、极化曲线和交流阻抗谱进行测试。结果表明:当镀液中不含糖精时,镀层的自腐蚀电流密度为0.281μA/cm2,沉积镀层电阻为122 800Ω.cm2,且具有较明显的钝化趋势;当镀液中含有1g/L糖精时,镀层的自腐蚀电流密度为0.778μA/cm2,沉积镀层电阻为24 450Ω.cm2,且钝化趋势不明显。糖精的加入引起镀层晶粒细化及晶界体积分数增加,是造成纳米晶镍-铁合金镀层耐蚀性下降的原因。     

化学镀Fe-Ni-P合金沉积速度的影响因素

通过正交试验确定了化学镀Fe-Ni-P合金的最佳化学镀工艺,在此基础上考察了硫酸高铈和硫酸镧、ρ(Fe2+)∶ρ(Ni2+)和温度对化学镀Fe-Ni-P合金沉积速率的影响。结果表明:硫酸高铈的加入使析出电位正移,极化度增加,沉积速率降低,但是提高了镀液的稳定性,改善了镀层质量;随着镀液中ρ(Fe2+)∶ρ(Ni2+)的提高,沉积速率先增大,后降低,ρ(Fe2+)∶ρ(Ni2+)最佳值为4;随着温度的上升,沉积速率增加,但镀液稳定性下降。     

YD-1添加剂对镍铁合金镀层微观结构的影响

研究了镀液中YD-1对电沉积Ni-Fe合金微观结构的影响.结果表明,YD-1可显著改变电流效率、沉积速率,而对镀层中的铁含量及晶格常数影响较小,YD-1可有效细化晶粒.     

沉积时间对纳米晶Ni-Fe合金电沉积层耐蚀性的影响

采用直流电沉积法在黄铜基体上制备出纳米晶Ni-Fe合金,其成分为:Ni 76.6％±1.2％,Fe 23.4％±1.2％,晶粒尺寸约为9 nm.在质量分数为3.5％的NaCl溶液中,沉积时间为20 min时所得合金镀层的耐蚀性最好,自腐蚀电流密度约为0.453 μA/cm2,涂层电阻约为80 110 Ω;当沉积时间超过...